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公开(公告)号:CN101438413A
公开(公告)日:2009-05-20
申请号:CN200780016411.8
申请日:2007-03-19
申请人: 梅尔斯科技公司
CPC分类号: B82Y10/00 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , H01F1/401 , H01F1/405 , H01F10/3213 , H01F10/3268 , H01F41/301 , H01L29/1054 , H01L29/15 , H01L29/66984
摘要: 一种自旋电子器件,可以包括至少一个超晶格和至少一个与所述至少一个超晶格耦合的电接触件,所述至少一个超晶格包含多个层组。每一个层组都可以包括限定具有晶格的基础半导体部分的多个堆叠的基础半导体单层、约束在邻近基础半导体部分的晶格内的至少一个非半导体单层、以及自旋电子掺杂剂。该自旋电子掺杂剂可以被所述至少一个非半导体单层约束在基础半导体部分的晶格内。在一些实施例中,可以不需要超晶格的重复结构。
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公开(公告)号:CN101258603A
公开(公告)日:2008-09-03
申请号:CN200680023233.7
申请日:2006-05-09
申请人: 梅尔斯科技公司
发明人: 罗伯特·J·梅尔斯 , 斯考特·A·克瑞普斯
IPC分类号: H01L29/15 , H01L29/78 , H01L29/10 , H01L29/772
CPC分类号: H01L21/823807 , B82Y10/00 , H01L29/1054 , H01L29/152 , H01L29/155 , H01L29/7725 , H01L29/7833
摘要: 半导体器件,包括超晶格,超晶格依次含有多个叠加的层组。每组超晶格可以包括用于限定基础半导体部分和其上的能带修改层的多个叠加的基础半导体单层。此外,能带修改层可以包括束缚于相邻的基础半导体部分的晶格内的至少一个非半导体单层。超晶格的至少一个层组可以是基本上未掺杂的。
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公开(公告)号:CN1813355B
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200480018093.5
申请日:2004-06-28
申请人: 梅尔斯科技公司
发明人: 罗伯特·J·梅尔斯 , 吉恩·A.·C·S·F·伊普彤 , 迈尔柯·伊萨 , 斯科特·A.·柯瑞普斯 , 伊利佳·杜库夫斯基
CPC分类号: H01L21/823807 , H01L29/1054 , H01L29/155 , H01L29/7833
摘要: 一种半导体器件,包括衬底和至少一个与衬底相邻的MOSFET。MOSFET包括又包括多个堆叠的层组的超晶格沟道。MOSFET也可包括侧面与所述超晶格沟道相邻的源和漏区,以及重叠在超晶格沟道上面的栅极,用于使载流子在相对于堆叠层组平行的方向上通过超晶格输送。每组超晶格沟道可以包括多个堆叠的基本半导体单层,其定义了基本半导体部分,以及其上面的能带修改层。能带修改层可以包括至少一个限制在相邻基本半导体部分的晶格内的非半导体单层,从而超晶格沟道在平行的方向上比其它情况具有更高的载流子迁移率。
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公开(公告)号:CN101288174A
公开(公告)日:2008-10-15
申请号:CN200680025737.2
申请日:2006-07-14
申请人: 梅尔斯科技公司
发明人: 罗伯特·J·梅尔斯 , 斯科特·A·柯瑞普斯
IPC分类号: H01L29/15 , H01L29/10 , H01L21/8234 , H01L21/336
摘要: 一种半导体器件,可以包括包含多个层叠层组的应变超晶格层(325),以及位于应变超晶格层上面的应力层。应变超晶格层的每个层组可以包括限定基础半导体部分的多个层叠基础半导体单层,以及限制在相邻基础半导体部分的晶格内的至少一个非半导体单层。
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公开(公告)号:CN101258602A
公开(公告)日:2008-09-03
申请号:CN200680022579.5
申请日:2006-05-02
申请人: 梅尔斯科技公司
发明人: 罗伯特·J·梅尔斯 , 迈尔柯·伊萨 , 斯考特·A·克瑞普斯 , 罗伯特·约翰·史蒂芬森 , 简·奥斯丁·查·索·福克·伊普皮汤 , 伊利佳·杜库夫斯基 , 卡里帕纳姆·维维克·绕 , 塞姆德·哈里洛夫 , 黄向阳
IPC分类号: H01L29/15 , H01L29/423 , H01L29/772
CPC分类号: H01L29/152 , B82Y10/00 , H01L21/823807 , H01L29/1054 , H01L29/155 , H01L29/51 , H01L29/513 , H01L29/517 , H01L29/7833
摘要: 一种半导体器件,可以包括半导体衬底和与半导体衬底相邻的至少一个有源器件。该至少一个有源器件可以包括电极层、位于电极层下面并且与其接触的高K电介质层,以及位于高K电介质层下面与电极层相对并且与高K电介质层接触的超晶格。超晶格可以包括多个层叠的层组。超晶格的每个层组可以包括限定基础半导体部分的多个层叠基础半导体单层,以及限制在相邻基础半导体部分的晶格内的至少一个非半导体单层。
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