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公开(公告)号：CN111174704B
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN201911172034.8
申请日：2019-11-26
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种通过灰度图像测量锡球高度的方法，通过主动三维传感器获取PCB板表面的高度数据，再将获取的高度数据转化为灰度值，得到灰度图像；再利用阈值分割的方法从所述灰度图像中提取锡球的区域；然后确定锡球的质心坐标，并根据锡球的质心坐标反推锡球的高度数据。本发明通过将高度数据转换为灰度图像，降低了分析和处理数据的难度，直观地将高度数据以图像的形式表现出来，极大地提高了锡球高度数据测量的效率；且本发明的测高方法可以应用于表面不规则的物体，且不受噪声干扰的影响，检测精度更高。
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公开(公告)号：CN111922510A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN202011014627.4
申请日：2020-09-24
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种激光可视化加工方法及系统，所述加工方法包括：分别建立产品坐标系、图像坐标系和图档坐标系；在工控机的制图软件界面上画出待加工图形；通过相机获取产品在产品坐标系下的图像；根据坐标系之间的映射关系，将产品坐标系转换到图档坐标系上，获取产品在图档坐标系下的图像；根据图档坐标系上的待加工图形对产品进行加工，同时通过相机对加工平面进行拍照，实时获取加工过程中产品的图像，并将该图像实时更新到图档坐标系上；根据产品的位置实时调整图档上的图形，直至完成产品的激光加工工序。本发明解决了工艺人员在设计振镜加工图形时不能从图档上直接观测产品，需要频繁的在工控机和加工台面之间来回确认的难题。
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公开(公告)号：CN111174704A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201911172034.8
申请日：2019-11-26
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种通过灰度图像测量锡球高度的方法，通过主动三维传感器获取PCB板表面的高度数据，再将获取的高度数据转化为灰度值，得到灰度图像；再利用阈值分割的方法从所述灰度图像中提取锡球的区域；然后确定锡球的质心坐标，并根据锡球的质心坐标反推锡球的高度数据。本发明通过将高度数据转换为灰度图像，降低了分析和处理数据的难度，直观地将高度数据以图像的形式表现出来，极大地提高了锡球高度数据测量的效率；且本发明的测高方法可以应用于表面不规则的物体，且不受噪声干扰的影响，检测精度更高。
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公开(公告)号：CN111922510B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202011014627.4
申请日：2020-09-24
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种激光可视化加工方法及系统，所述加工方法包括：分别建立产品坐标系、图像坐标系和图档坐标系；在工控机的制图软件界面上画出待加工图形；通过相机获取产品在产品坐标系下的图像；根据坐标系之间的映射关系，将产品坐标系转换到图档坐标系上，获取产品在图档坐标系下的图像；根据图档坐标系上的待加工图形对产品进行加工，同时通过相机对加工平面进行拍照，实时获取加工过程中产品的图像，并将该图像实时更新到图档坐标系上；根据产品的位置实时调整图档上的图形，直至完成产品的激光加工工序。本发明解决了工艺人员在设计振镜加工图形时不能从图档上直接观测产品，需要频繁的在工控机和加工台面之间来回确认的难题。
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公开(公告)号：CN112730463A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011550604.5
申请日：2020-12-24
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
IPC分类号： G01N21/958 , G01N21/01
摘要： 本发明公开一种基于同轴光栅光源检测玻璃盖板缺陷的装置，包括成像组件、光源组件、传动组件和控制组件，所述成像组件包括线扫相机，所述光源组件包括同轴光栅光源和分光镜，所述传动组件上放置有待测玻璃盖板，所述控制组件包括工控机和光源控制器；所述线扫相机分别与光源控制器和工控机相连，所述同轴光栅光源与光源控制器相连；所述同轴光栅光源发出的光经45°摆放的分光镜垂直反射到待测玻璃盖板表面，再经由分光镜垂直入射到线扫相机；所述光源控制器控制光源频闪并同步触发线扫相机拍照。本发明还提供一种基于同轴光栅光源检测玻璃盖板缺陷的方法。
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公开(公告)号：CN110987378A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911336652.1
申请日：2019-12-23
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本发明提供了一种振镜幅面校正方法及标准校正板，涉及振镜校正技术领域。该振镜幅面校正方法包括：初步校正振镜，以使经过振镜反射的激光能照射于标刻平面。关闭激光将标准校正板放置于标刻平面，使校正平面与标刻平面重合。将振镜反射至校正平面的坐标点校正到与相对应的特征点的坐标重合。取下标准校正板，将第一工件模板放于标刻平面，使第一加工面与标刻平面重合。开启激光，以多个特征点在第一加工面对应的位置进行标刻。将振镜反射激光至第一加工面的坐标校正到与相对应的特征点的坐标重合。本发明提供的振镜幅面校正方法及标准校正板能实现不需要人工量测及不需要借用专用振镜校正的设备或者仪器，并高效地完成振镜的校正工作。
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公开(公告)号：CN210923027U
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201922343568.4
申请日：2019-12-23
申请人： 武汉华工激光工程有限责任公司
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本实用新型提供了一种标准校正板及校正系统，涉及振镜校正技术领域。该标准校正板用于振镜扫描系统中振镜的校正，振镜扫描系统包括振镜扫描聚焦模块、分光镜和激光发出装置，振镜扫描系统能在标刻平面上进行标刻，标准校正板上设置有校正平面，校正平面用于与标刻平面重合，校正平面上设置有多个阵列排布的特征点，多个特征点用于振镜的校正。本实用新型还提供了一种校正系统，其采用了上述的标准校正板。本实用新型提供的标准校正板及校正系统能用于振镜的校正，并且不需要人工量测及不需要借用专用振镜校正的设备或者仪器，完成振镜的校正工作。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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