公开(公告)号：CN104437554B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201410734668.9

申请日：2014-12-05

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 王为民 ,  郭敏娜 ,  傅正义 ,  王皓 ,  张金咏 ,  王玉成 ,  张帆 ,  王阳 ,  汪雯婕

IPC: B01J27/047 ,  B01J23/22 ,  A62D3/17 ,  A62D101/26 ,  A62D101/28

Abstract: 本发明涉及片状WS2负载BiVO4可见光催化材料及其制备方法。它由片状WS2表面上原位生长单斜白钨矿型的BiVO4而成。制备方法：将WS2加水超声得到含有片状WS2的悬浊液；将硝酸铋溶解于酸性溶液中或将Bi2O3溶解于硝酸中生成硝酸铋，得到前驱体溶液A；将偏钒酸盐加入含有片状WS2的悬浊液中，加热搅拌使其充分溶解后得到前驱体溶液B；将前驱体溶液B滴加到前驱体溶液A中，充分搅拌反应；将步骤3所述混合溶液倒入水热反应釜中进行水热反应，随炉冷却，得到沉淀物；将沉淀物进行抽滤，真空干燥。本发明的片状WS2负载BiVO4可见光催化材料作可见光催化剂与纯BiVO4相比，可见光催化性能明显提高。

公开(公告)号：CN104923214A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510241945.7

申请日：2015-05-13

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 王为民 ,  汪雯婕 ,  郭敏娜 ,  晋慧慧

IPC: B01J23/31

Abstract: 本发明涉及一种钨酸铋光催化薄膜及其制备方法，它由以下方法制备得到：1)制备钨酸铋粉末：将钨酸钠溶液缓慢滴加到硝酸铋溶液中，再滴加氢氧化钠溶液调节溶液的pH值至5～7，得到前驱体溶液，将所述前驱体溶液置于水热反应釜中进行水热反应，水热反应结束后对反应液进行离心分离出固体组分，对固体组分真空干燥得到钨酸铋粉末；2)制备钨酸铋光催化薄膜：将钨酸铋粉末采用干压法压制成型得到坯块，将所述坯块高温烧结制得溅射所需靶材，将靶材放入磁控溅射室，以石英玻璃片为衬底，经磁控溅射镀膜制得钨酸铋光催化薄膜。该制备方法工艺简单，重复性强，成本低廉，制备出的钨酸铋薄膜纯度高，均匀性好，光催化性能优异，用途广泛。

公开(公告)号：CN104923214B

公开(公告)日：2018-04-27

申请号：CN201510241945.7

申请日：2015-05-13

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 王为民 ,  汪雯婕 ,  郭敏娜 ,  晋慧慧

IPC: B01J23/31

Abstract: 本发明涉及一种钨酸铋光催化薄膜及其制备方法，它由以下方法制备得到：1)制备钨酸铋粉末：将钨酸钠溶液缓慢滴加到硝酸铋溶液中，再滴加氢氧化钠溶液调节溶液的pH值至5～7，得到前驱体溶液，将所述前驱体溶液置于水热反应釜中进行水热反应，水热反应结束后对反应液进行离心分离出固体组分，对固体组分真空干燥得到钨酸铋粉末；2)制备钨酸铋光催化薄膜：将钨酸铋粉末采用干压法压制成型得到坯块，将所述坯块高温烧结制得溅射所需靶材，将靶材放入磁控溅射室，以石英玻璃片为衬底，经磁控溅射镀膜制得钨酸铋光催化薄膜。该制备方法工艺简单，重复性强，成本低廉，制备出的钨酸铋薄膜纯度高，均匀性好，光催化性能优异，用途广泛。

公开(公告)号：CN104437554A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410734668.9

申请日：2014-12-05

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 王为民 ,  郭敏娜 ,  傅正义 ,  王皓 ,  张金咏 ,  王玉成 ,  张帆 ,  王阳 ,  汪雯婕

IPC: B01J27/047 ,  B01J23/22 ,  A62D3/17 ,  A62D101/26 ,  A62D101/28

Abstract: 本发明涉及片状WS2负载BiVO4可见光催化材料及其制备方法。它由片状WS2表面上原位生长单斜白钨矿型的BiVO4而成。制备方法：将WS2加水超声得到含有片状WS2的悬浊液；将硝酸铋溶解于酸性溶液中或将Bi2O3溶解于硝酸中生成硝酸铋，得到前驱体溶液A；将偏钒酸盐加入含有片状WS2的悬浊液中，加热搅拌使其充分溶解后得到前驱体溶液B；将前驱体溶液B滴加到前驱体溶液A中，充分搅拌反应；将步骤3所述混合溶液倒入水热反应釜中进行水热反应，随炉冷却，得到沉淀物；将沉淀物进行抽滤，真空干燥。本发明的片状WS2负载BiVO4可见光催化材料作可见光催化剂与纯BiVO4相比，可见光催化性能明显提高。