-
公开(公告)号：CN117452784A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311372799.2
申请日：2023-10-20
申请人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种自动选择曝光时间和物距的光刻对准系统控制方法，属于曝光设备技术领域。所述方法将目标检测算法引入到聚焦深度法中用于聚焦窗口的确定，通过此聚焦深度法确定最佳物距和最优曝光时间，并将两者相结合，使得聚焦更加准确，稳定性更好；本发明使用了更适合半导体检测的聚焦评价函数来评估图像质量，并确定最优曝光时间，提高了光刻机对准系统的图像处理能力和对位精度。因此，本发明降低了光刻机对准系统中物距和曝光时间调整的复杂性，同时提升了对位精度，可以快速且精确地获取最佳物距和最优曝光时间，可以满足高精度和高效率的要求。
-
公开(公告)号：CN116540502A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310620790.2
申请日：2023-05-29
申请人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于LDI设备的自动聚焦方法及系统，属于光刻直写曝光机投影显示及图像处理技术领域。本发明仅需要基于一台工业相机搭建的硬件系统，便可实现聚焦；系统结构简单，易于后期维护保养。本发明设计了一种清晰度评价函数，来反映某一焦距条件下的成像效果的好坏，实现更好的自动聚焦效果。在设备寻找最佳的焦距位置时，本发明对现有搜索方法进行优化改进，实现了快速性和搜索结果的准确性的优化，来达到良好的使用效果；此外，发明中也设计了一种基于识别模型的聚焦窗口自动选择方式，让聚焦更具有针对性，节省计算资源。本发明实现一种快速、精准的LDI自动聚焦方法，达到聚焦结果精度高，聚焦速度快且鲁棒性好的效果。
-
公开(公告)号：CN117471870A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311461395.0
申请日：2023-11-03
申请人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
IPC分类号： G03F9/00 , H05B47/125 , G06T7/00 , G06N3/006 , G06N3/126
摘要： 本申请公开了一种用于LDI设备的光源参数自动调节方法，涉及LDI设备技术领域，该方法根据当前光源参数下的靶标图像的图像质量确定光源参数对应的适应度值，然后根据当前光源参数对应的适应度值进行下一次迭代操作，直至搜索到光源参数的最优解后完成对LDI设备中的光源的调节。该方法自动化程度高且调节效率高，可以自动迭代计算并寻找到一组与当前的生产产品和加工环境匹配的光源参数，使得LDI设备的视觉成像系统具有更好的成像效果，且在不同的应用场景中都有较好的通用性。
-
公开(公告)号：CN116540502B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202310620790.2
申请日：2023-05-29
申请人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于LDI设备的自动聚焦方法及系统，属于光刻直写曝光机投影显示及图像处理技术领域。本发明仅需要基于一台工业相机搭建的硬件系统，便可实现聚焦；系统结构简单，易于后期维护保养。本发明设计了一种清晰度评价函数，来反映某一焦距条件下的成像效果的好坏，实现更好的自动聚焦效果。在设备寻找最佳的焦距位置时，本发明对现有搜索方法进行优化改进，实现了快速性和搜索结果的准确性的优化，来达到良好的使用效果；此外，发明中也设计了一种基于识别模型的聚焦窗口自动选择方式，让聚焦更具有针对性，节省计算资源。本发明实现一种快速、精准的LDI自动聚焦方法，达到聚焦结果精度高，聚焦速度快且鲁棒性好的效果。
-
-
-
搜索结果
4 条记录 (耗时 0.046 秒)
