公开(公告)号：CN115323353B

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202110787944.8

申请日：2021-07-13

申请人： 沈境植

发明人： 沈境植

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/505

摘要： 本发明作为将电力及气体供应于设置在一个腔室的多个喷头的基板处理装置，包括：腔室部，形成内部空间；加热部，加热基板；喷头部，将气体涂敷于基板的上部面；供电部，对喷头部供电；供气部，对喷头部供应气体；及供应线部，一同供应电力和气体或者分开来单独供应电力和气体。从而，本发明提供的效果如下：具有将电力和气体一同或者将电力和气体分开来单独供应于设置在一个腔室的多个喷头的供应线部，进而提高等离子体的均匀性，也提高气体的均匀性，改善电力和气体的供应，并且简单配置硬件，有助于提高生产力，可实现稳定的等离子体沉积工艺。

公开(公告)号：CN118073164A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202310071651.9

申请日：2023-01-17

申请人： 沈境植

发明人： 沈境植

IPC分类号： H01J37/32

摘要： 本发明涉及一种防止设置在基板处理设备下部的接地线断线的基板处理设备的防断线装置，包括：感受器部，设置在基板处理设备的下部；接地部，在一端外廓周围形成既定的阻断区间而阻断粉末的流入；固定部，将接地部固定到感受器部的下部。因此，本发明的效果在于，为了阻断粉末的流入而在接地部的一端形成阻断区间并通过固定部固定到感受器的下部，由此防止接地部的损伤的同时，延长寿命及使用时间，提高生产力且显著减少设备的部件更换费用，提高维护性能。

公开(公告)号：CN104900571B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201410799899.8

申请日：2014-12-19

申请人： 沈境植

发明人： 沈境植

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68

摘要： 本发明涉及在基板支架的上部安放基板的升降销。基板升降销，升降销使基板安放到基板支架的上部并位于基板支架内部时，通过弹性支撑而使升降销的上部面与基板的下部面密贴。据此，使基板支架的热量通过升降销有效传递到升降销上部的基板，使基板维持均匀的温度防止膜质异常及斑纹的产生。

公开(公告)号：CN104900571A

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201410799899.8

申请日：2014-12-19

申请人： 沈境植

发明人： 沈境植

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/67751 ,  H01L21/683

摘要： 本发明涉及在基板支架的上部安放基板的升降销。基板升降销，升降销使基板安放到基板支架的上部并位于基板支架内部时，通过弹性支撑而使升降销的上部面与基板的下部面密贴。据此，使基板支架的热量通过升降销有效传递到升降销上部的基板，使基板维持均匀的温度防止膜质异常及斑纹的产生。

公开(公告)号：CN115323353A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202110787944.8

申请日：2021-07-13

申请人： 沈境植

发明人： 沈境植

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/505

摘要： 本发明作为将电力及气体供应于设置在一个腔室的多个喷头的基板处理装置，包括：腔室部，形成内部空间；加热部，加热基板；喷头部，将气体涂敷于基板的上部面；供电部，对喷头部供电；供气部，对喷头部供应气体；及供应线部，一同供应电力和气体或者分开来单独供应电力和气体。从而，本发明提供的效果如下：具有将电力和气体一同或者将电力和气体分开来单独供应于设置在一个腔室的多个喷头的供应线部，进而提高等离子体的均匀性，也提高气体的均匀性，改善电力和气体的供应，并且简单配置硬件，有助于提高生产力，可实现稳定的等离子体沉积工艺。