p-n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN109166958B

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN201811030998.4

    申请日:2018-09-05

    Abstract: 本发明提供了一种p‑n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料及其制备方法,采用水热法结合气相法制备p‑n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜,碲化铅层薄膜的厚度为20nm‑300nm,所述的聚吡咯薄膜的厚度20nm‑300nm。该方法制备的碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料具有良好的热电性能,可用于便携式的无线传感器供电,集成电路芯片的制冷,发光二极管和光探测器的制冷等领域,具有简单易行、成本低、方便快速等优点,可规模化生产。

    p-n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN109166958A

    公开(公告)日:2019-01-08

    申请号:CN201811030998.4

    申请日:2018-09-05

    Abstract: 本发明提供了一种p-n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料及其制备方法,采用水热法结合气相法制备p-n型碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜,碲化铅层薄膜的厚度为20nm-300nm,所述的聚吡咯薄膜的厚度20nm-300nm。该方法制备的碲化铅/聚吡咯双层热电薄膜材料具有良好的热电性能,可用于便携式的无线传感器供电,集成电路芯片的制冷,发光二极管和光探测器的制冷等领域,具有简单易行、成本低、方便快速等优点,可规模化生产。

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