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1.

发明公开
微图案形成方法和使用其的微通道晶体管和微通道发光晶体管的形成方法失效

公开(公告)号：CN103261088A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201180059051.6

申请日：2011-10-06

申请人： 浦项工科大学校产学协力团

发明人： 闵盛涌 , 金泰植 , 李泰雨

IPC分类号： B82B3/00 , B82B1/00

CPC分类号： H01L51/0005 , B81C1/00031 , G03F7/164 , H01L51/0016 , H01L51/0023 , H01L51/0541 , H01L51/0545 , H01L51/102 , H01L51/428 , H01L51/5296 , Y02E10/549

摘要： 根据本发明的一个方面提供了一种形成微图案的方法。所述形成微图案的方法可包括以下步骤：在衬底上形成具有圆形截面或椭圆形截面的有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案；在形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的所述衬底的整个表面上形成材料层；和，从所述衬底上除去所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案以仅保留所述材料层的未形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的部分。

2.

发明授权
微图案形成方法和使用其的微通道晶体管和微通道发光晶体管的形成方法失效

公开(公告)号：CN103261088B

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201180059051.6

申请日：2011-10-06

申请人： 浦项工科大学校产学协力团

发明人： 闵盛涌 , 金泰植 , 李泰雨

IPC分类号： B82B3/00 , B82B1/00

CPC分类号： H01L51/0005 , B81C1/00031 , G03F7/164 , H01L51/0016 , H01L51/0023 , H01L51/0541 , H01L51/0545 , H01L51/102 , H01L51/428 , H01L51/5296 , Y02E10/549

摘要： 根据本发明的一个方面提供了一种形成微图案的方法。所述形成微图案的方法可包括以下步骤：在衬底上形成具有圆形截面或椭圆形截面的有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案；在形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的所述衬底的整个表面上形成材料层；和，从所述衬底上除去所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案以仅保留所述材料层的未形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的部分。