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公开(公告)号：CN1607466A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN200410088187.1
申请日：2004-10-14
申请人： 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/164 , H05K3/0079 , H05K2203/0582 , H05K2203/1173
摘要： 选择性地在基质上涂敷排斥阻挡组合物，然后在由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内涂敷辐射能敏感材料。所述排斥阻挡组合物排斥所述辐射能敏感材料从而将其引入由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内。除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。
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公开(公告)号：CN105027257B
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201480010996.2
申请日：2014-03-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 苏梅德拉·N·巴曼 , 卡拉·比斯利 , 阿布海杰特·巴苏·马利克 , 拉尔夫·霍夫曼 , 妮琴·K·英吉
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/20
CPC分类号： G03F1/24 , G03F7/164 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种极紫外线镜或坯料生产系统包括：第一沉积系统，用于在半导体基板之上沉积平坦化层；第二沉积系统，用于在该平坦化层之上沉积超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；以及第三沉积系统，用于在该超平滑层之上沉积多层堆叠物。该极紫外线坯料包括：基板；该基板之上的平坦化层；该平坦化层之上的超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；多层堆叠物；以及该多层堆叠物之上的覆盖层。一种极紫外线光刻系统包括：极紫外线光源；镜，用于导引来自该极紫外线光源的光；中间掩模台，用于置放带有平坦化层和在该平坦化层之上的超平滑层的极紫外线掩模坯料；以及晶片台，用于置放晶片。
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公开(公告)号：CN105027257A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480010996.2
申请日：2014-03-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 苏梅德拉·N·巴曼 , 卡拉·比斯利 , 阿布海杰特·巴苏·马利克 , 拉尔夫·霍夫曼 , 妮琴·K·英吉
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/20
CPC分类号： G03F1/24 , G03F7/164 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种极紫外线镜或坯料生产系统包括：第一沉积系统，用于在半导体基板之上沉积平坦化层；第二沉积系统，用于在该平坦化层之上沉积超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；以及第三沉积系统，用于在该超平滑层之上沉积多层堆叠物。该极紫外线坯料包括：基板；该基板之上的平坦化层；该平坦化层之上的超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；多层堆叠物；以及该多层堆叠物之上的覆盖层。一种极紫外线光刻系统包括：极紫外线光源；镜，用于导引来自该极紫外线光源的光；中间掩模台，用于置放带有平坦化层和在该平坦化层之上的超平滑层的极紫外线掩模坯料；以及晶片台，用于置放晶片。
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公开(公告)号：CN1455888A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN01815560.X
申请日：2001-07-17
申请人： 得克萨斯州大学系统董事会
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/16 , G03F7/164 , H01L2224/29012 , H01L2224/3003 , H01L2224/3016 , H01L2924/01067 , H01L2924/1461 , H01L2924/00
摘要： 公开了一种在平版印刷过程中用于在平坦材料的表面，或包括半导体晶片的基片上分配液体的自动化液体分配方法和系统。该分配方法使用可以在液体分配器尖端和基片之间产生相对横向运动的液体分配器和基片台。还描述了一种用于使用基本上无图案的平坦模板在基片上创建平坦表面的方法和装置。
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公开(公告)号：CN105044966B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201510485932.4
申请日：2015-08-10
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
发明人： 刘国和
IPC分类号： G02F1/1335 , G03F7/16
CPC分类号： G02F1/133514 , G02F1/133528 , G02F1/133617 , G02F1/133621 , G02F1/134363 , G02F2001/133531 , G02F2001/133614 , G02F2201/124 , G02F2202/36 , G03F7/0007 , G03F7/105 , G03F7/164 , G03F7/40
摘要： 本发明提供一种基板及光阻层的制作方法，所述方法包括：衬底上制作配向电极，所述配向电极用于在所述衬底通有正、负电压时，产生多个水平电场；将彩色量子棒与光阻剂均匀混合，形成混合材料，将所述混合材料涂布所述衬底上；在所述衬底上通入正、负电压，以使所述彩色量子棒的长轴在所述配向电极产生的所述水平电场作用下沿着水平方向进行定向排列；对所述衬底进行真空干燥，以增大所述光阻剂的粘度；在通电预设时间后进行断电，形成光阻层；其中所述量子棒的长轴始终沿水平方向定向排列。本发明的基板及光阻层的制作方法，通过外加电场对量子棒进行配向，并利用光阻剂的高粘度实现对电场配向后的量子棒进行固定，简化制程，节省生产成本。
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公开(公告)号：CN103261088A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180059051.6
申请日：2011-10-06
申请人： 浦项工科大学校产学协力团
CPC分类号： H01L51/0005 , B81C1/00031 , G03F7/164 , H01L51/0016 , H01L51/0023 , H01L51/0541 , H01L51/0545 , H01L51/102 , H01L51/428 , H01L51/5296 , Y02E10/549
摘要： 根据本发明的一个方面提供了一种形成微图案的方法。所述形成微图案的方法可包括以下步骤：在衬底上形成具有圆形截面或椭圆形截面的有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案；在形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的所述衬底的整个表面上形成材料层；和，从所述衬底上除去所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案以仅保留所述材料层的未形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的部分。
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公开(公告)号：CN100351702C
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN02821802.7
申请日：2002-10-30
申请人： DSMIP财产有限公司
发明人： P·H·G·宾达 , S·A·布拉特斯拉维斯基 , T·A·米塞夫 , S·R·施米德 , R·范登伯格杰斯
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/164 , G03F7/32 , H05K3/0079 , H05K3/064 , H05K2203/105 , H05K2203/1355
摘要： 本发明涉及一种可辐射固化的粉末光刻胶组合物，包含组分A一种聚合物，组分B一种包含有不饱和基团的化合物的活性化合物，以及组分C一种自由基光引发剂，其中粉末光刻胶组合物可溶解在显影剂中，和其中粉末光刻胶组合物的Tg为40°～120℃。
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公开(公告)号：CN1283133C
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN01815517.0
申请日：2001-08-17
申请人： 埃普科斯股份有限公司
CPC分类号： H01F41/041 , G03F7/164 , H05K1/0284 , H05K3/0082 , H05K3/108 , H05K3/403 , H05K2201/09018 , H05K2203/135
摘要： 在非平面的表面上产生导电结构的方法，以及所述方法的应用。本发明涉及在非平面的表面(1)上产生导电结构的方法，具有以下的步骤：a)在所述表面(1)上以电化学方式沉积光学抗蚀剂层(2)；b)对部分的光学抗蚀剂层(2)进行曝光；c)通过显影去除部分的光学抗蚀剂层(2)；d)在所述表面(1)从光学抗蚀剂层(2)露出的部分沉积导电材料(3)。此外本发明还涉及采用所述的方法生产微形化的线圈。通过在非平面的表面上电化学地沉积光学抗蚀剂层可以达到非常均匀的层厚。
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公开(公告)号：CN1183573A
公开(公告)日：1998-06-03
申请号：CN97123180.X
申请日：1997-11-21
申请人： 松下电器产业株式会社
CPC分类号： G02F1/133516 , G02F1/133512 , G03C7/12 , G03F7/164 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K3/108 , H05K2203/0117 , H05K2203/0537 , H05K2203/135
摘要： 一种精细图案制造方法,能够以良好的可再现性剥离并转移精细图案、重复使用主基底、并能大规模生产高清晰度和高密度精细图案。借助该精细图案实现了一种滤色器和一种暗影图案滤波器。提供了带有该滤色器的一种彩色LCD元件——它能够输出没有颜色或亮度不均匀的、具有良好色彩可再现性的高质量图象。提供了一种彩色LCD元件,它能够在来自光源或环境光的光消失之后的一定时间里继续输出着色功能并形成更为明亮和生动的图象。
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公开(公告)号：CN108701656A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780010522.1
申请日：2017-02-21
申请人： 三井金属矿业株式会社
发明人： 松浦宜范
IPC分类号： H01L23/12
CPC分类号： H01L21/4846 , B32B5/16 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B15/04 , C23C14/0605 , C23C14/165 , C23C14/35 , C25D1/04 , C25D3/38 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/164 , G03F7/40 , H01L21/4828 , H01L21/568 , H01L21/6835 , H01L23/3107 , H01L23/49541 , H01L23/498 , H01L2221/68359 , H05K1/09 , H05K1/187 , H05K3/025 , H05K999/99
摘要： 提供：无芯支撑体表面的布线层形成时防反射层对铜快速蚀刻液呈现优异的耐化学药品性、且铜快速蚀刻后的图像检查时可以利用与防反射层的对比度带来布线层的优异的可视性的带载体的铜箔。该带载体的铜箔具备：载体；剥离层，其设置于载体上；防反射层，其设置于剥离层上，且由选自由Cr、W、Ta、Ti、Ni和Mo组成的组中的至少1种金属构成；和，极薄铜层，其设置于防反射层上，防反射层的至少极薄铜层侧的表面为金属颗粒的集合体。
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