掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置

    公开(公告)号:CN114815519B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202210446397.1

    申请日:2022-04-26

    摘要: 本发明属于掩模保护领域,尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置,其中,掩模护膜包括支撑框以及保护膜,所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面,所述抵靠面以及装膜面均呈环形,所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面,所述粘接平面开设有多个吸胶孔,所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道,所述排气通道于外环面开设有一个排气孔。将掩模护膜从掩模版移除之后,掩模版上不会残留有粘胶。

    掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质

    公开(公告)号:CN116088283A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310387417.7

    申请日:2023-04-12

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本申请公开了一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质,应用于掩模版预校准系统,掩模版预校准系统包括:掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置,掩模版预校准方法包括:通过机械手臂装置将曝光支撑装置移动至掩模版载具预校准装置,在掩模版载具预校准装置上校准并固定曝光支撑装置;在固定已校准的曝光支撑装置后,通过机械手臂装置将掩模版置于曝光支撑装置上,校准掩模版,并将掩模版固定在已校准的曝光支撑装置上;通过机械手臂装置,将曝光支撑装置和掩模版共同移动至掩模台上版装置。本申请旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率,以提高光刻机的连续生产效率。

    掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116107179B

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310379785.7

    申请日:2023-04-11

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本发明公开了一种掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质,所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统,所述控制系统与联动对位校准装置连接,所述联动对位校准装置包括:载具和掩模台,所述掩模台包括:联动支撑调整装置;当掩模版上版至所述载具时,控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整,并记录调整数据;将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置,以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整;将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。从而,本发明能够减少掩模版在曝光前进行定位的时长,进而提高光刻机的生产效率。

    掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质

    公开(公告)号:CN116088283B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202310387417.7

    申请日:2023-04-12

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本申请公开了一种掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质,应用于掩模版预校准系统,掩模版预校准系统包括:掩模版载具预校准装置、掩模台上版装置、曝光支撑装置、掩模版以及机械手臂装置,掩模版预校准方法包括:通过机械手臂装置将曝光支撑装置移动至掩模版载具预校准装置,在掩模版载具预校准装置上校准并固定曝光支撑装置;在固定已校准的曝光支撑装置后,通过机械手臂装置将掩模版置于曝光支撑装置上,校准掩模版,并将掩模版固定在已校准的曝光支撑装置上;通过机械手臂装置,将曝光支撑装置和掩模版共同移动至掩模台上版装置。本申请旨在提高掩模版上版校准的精度以及效率,以提高光刻机的连续生产效率。

    掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116107179A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202310379785.7

    申请日:2023-04-11

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本发明公开了一种掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质,所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统,所述控制系统与联动对位校准装置连接,所述联动对位校准装置包括:载具和掩模台,所述掩模台包括:联动支撑调整装置;当掩模版上版至所述载具时,控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整,并记录调整数据;将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置,以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整;将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。从而,本发明能够减少掩模版在曝光前进行定位的时长,进而提高光刻机的生产效率。

    一种掩模版上金属引导器的去除装置

    公开(公告)号:CN219202124U

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202223403563.4

    申请日:2022-12-19

    发明人: 郭成恩 谢超

    IPC分类号: G03F1/68 G03F1/82

    摘要: 一种掩模版上金属引导器的去除装置,包括设备主机和固定组件,设备主机包括加载运动装置和加热柱组件,固定组件包括底座和盖板,固定组件通过底座连接加载运动装置,盖板可拆卸的安装在底座上,底座和盖板配合用于夹持掩模版,底座和盖板对应金属引导器位置均具有避位区,加载运动装置能够驱动固定组件上下运动,加热柱组件设置在对应避位区处,加热柱组件顶部设有位于金属引导器下方的加热强磁体,加热强磁体用于磁吸金属引导器并加热金属引导器。基于本实用新型,通过加热的方式,胶水熔化后,使得胶水易于去除,加热过程可控,可提高金属引导器的拆卸效率,且拆卸效果稳定,无须对金属引导器进行撬除,不会损伤掩模版。