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公开(公告)号：CN108466425A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201810129838.9
申请日：2018-02-08
Applicant: 清华大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/236 , B29C64/264 , B33Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种基于柔性运动系统的蓝光微立体光固化(MSL，Micro Stereo Lithography)系统，所述基于柔性运动系统的蓝光MSL系统包含：计算机系统(三维模型处理模块、运动控制模块)；运动系统(L形基座、X-Y轴并联柔性纳米运动平台、Z轴移动平台、载物吸盘、储液槽)；光学系统(蓝光发生单元、准直透镜、物镜、透镜座、导轨)，所述光学系统与所述运动系统中的X-Y轴并联柔性移动平台固连。本发明所采用的光学系统具有光斑小、能量密度高、低能耗、拆卸方便的特点；本发明所采用的并联式柔性运动系统具有重复运动精度高、XY轴的动态性能对称、免维护、免装配的特点；本发明采用的系统架构是将所述光学系统及所述运动系统直接固定在气浮平台上，而非传统的支架上，因此具有重心稳定，隔振能力强的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108893709A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201810142660.1
申请日：2018-02-11
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种用于直写式真空蒸发系统的掩模-基片间距控制系统。所述间距控制结构包括：基座；压电陶瓷Z轴移动平台，所述压电陶瓷Z轴移动平台位于基座下方中心部，与基座固接；掩模基座，所述掩模基座位于所述压电陶瓷移动平台的上方，与压电陶瓷移动平台样品台固接；样片基座，所述样片基座位于所述掩模基座的上方，不与所述掩模基座相接触；精密电容式位移传感器，所述精密电容式位移传感器位于所述样片基座的侧方，与所述样片基座固接。根据本发明实施例的间距控制直写式真空蒸发系统具有结构紧凑、靶材粒子散射小、加工更精密、掩模片易更换、节约实验成本等优点。
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公开(公告)号：CN108385057A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810078456.8
申请日：2018-01-26
Applicant: 清华大学
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/50
Abstract: 本发明公开了一种应用于直写式真空蒸发系统的防掩模孔堵塞及避免粒子散射现象的新型阶梯式准直管结构。所述阶梯式准直管结构包括：基座，掩模片，准直管；第一粒子反射阻挡台阶，所述第一粒子反射阻挡台阶处于准直管内上部，并与准直管上表面、第二粒子反射阻挡台阶上表面相连；第二粒子反射阻挡台阶，所述第二粒子反射阻挡台阶处于准直管内中部，并与第一粒子反射阻挡台阶下表面、准直孔上表面相连；准直孔，所述准直孔处于准直管内下部，并与第二粒子反射阻挡台阶下表面、准直管下表面相连。本发明实施例的直写式真空蒸发系统具有结构紧凑、加工速度快、掩模使用寿命长、加工特征边缘清晰、可避免粒子散射、节约材料、加工纯度高等优点。
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公开(公告)号：CN108893709B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201810142660.1
申请日：2018-02-11
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种用于直写式真空蒸发系统的掩模‑基片间距控制系统。所述间距控制结构包括：基座；压电陶瓷Z轴移动平台，所述压电陶瓷Z轴移动平台位于基座下方中心部，与基座固接；掩模基座，所述掩模基座位于所述压电陶瓷移动平台的上方，与压电陶瓷移动平台样品台固接；样片基座，所述样片基座位于所述掩模基座的上方，不与所述掩模基座相接触；精密电容式位移传感器，所述精密电容式位移传感器位于所述样片基座的侧方，与所述样片基座固接。根据本发明实施例的间距控制直写式真空蒸发系统具有结构紧凑、靶材粒子散射小、加工更精密、掩模片易更换、节约实验成本等优点。
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公开(公告)号：CN108466425B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201810129838.9
申请日：2018-02-08
Applicant: 清华大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/236 , B29C64/264 , B33Y30/00
Abstract: 本发明公开一种基于柔性运动系统的蓝光微立体光固化系统，所述基于柔性运动系统的蓝光微立体光固化系统包含：计算机系统（三维模型处理模块、运动控制模块）；运动系统（L形基座、X‑Y轴并联柔性纳米运动平台、Z轴移动平台、载物吸盘、储液槽）；光学系统（蓝光发生单元、准直透镜、物镜、透镜座），所述光学系统与所述运动系统中的X‑Y轴并联柔性移动平台固连。本发明所采用的光学系统具有光斑小、能量密度高、低能耗、拆卸方便特点；本发明所采用的并联式柔性运动系统具有重复运动精度高、XY轴动态性能对称、免维护、免装配特点；本发明采用的系统架构是将所述光学系统及所述运动系统直接固定在气浮平台上，具有重心稳定，隔振能力强特点。
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公开(公告)号：CN108385057B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201810078456.8
申请日：2018-01-26
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种应用于直写式真空蒸发系统的防掩模孔堵塞及避免粒子散射现象的新型阶梯式准直管结构。所述阶梯式准直管结构包括：基座，掩模片，准直管；第一粒子反射阻挡台阶，所述第一粒子反射阻挡台阶处于准直管内上部，并与准直管上表面、第二粒子反射阻挡台阶上表面相连；第二粒子反射阻挡台阶，所述第二粒子反射阻挡台阶处于准直管内中部，并与第一粒子反射阻挡台阶下表面、准直孔上表面相连；准直孔，所述准直孔处于准直管内下部，并与第二粒子反射阻挡台阶下表面、准直管下表面相连。本发明实施例的直写式真空蒸发系统具有结构紧凑、加工速度快、掩模使用寿命长、加工特征边缘清晰、可避免粒子散射、节约材料、加工纯度高等优点。
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