芯片系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114937659A

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202210858221.7

    申请日:2022-07-21

    Abstract: 本公开提供一种芯片系统,所述芯片系统包括:第一基板;位于所述第一基板上阵列排布的多个第一功能芯片;以及位于所述第一功能芯片表面上的多个第二功能芯片;其中,所述第一功能芯片与所述第二功能芯片具有不同类型的功能;每个所述第二功能芯片在所述第一基板上的投影分别与至少两个所述第一功能芯片在所述第一基板上的投影至少部分重叠;所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片在重叠的区域内键合连接;键合连接的所述第一功能芯片与所述第二功能芯片之间具有多路连接通道;所述多路连接通道被配置为使所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片之间具有信号通信。

    晶圆的切割方法和激光切割装置

    公开(公告)号:CN114589419A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210489798.5

    申请日:2022-05-07

    Abstract: 本公开实施例公开了一种晶圆的切割方法和激光切割装置。所述切割方法包括:提供待切割晶圆;其中,所述待切割晶圆包括多个管芯以及位于相邻的两个管芯之间的切割道;所述切割道包括沿所述切割道延伸方向并列设置的至少两个子区域;所述至少两个子区域内的材质厚度分布不同;对第一个所述子区域施加第一激光能量,以切割第一个所述子区域;其中,所述第一激光能量是根据第一个所述子区域内材质厚度分布的第一统计信息确定的;对第二个所述子区域施加第二激光能量,以切割第二个所述子区域;其中,所述第二激光能量是根据第二个所述子区域内材质厚度分布的第二统计信息确定的,所述第二激光能量和所述第一激光能量不同。

    一种晶圆清洗方法及装置

    公开(公告)号:CN114388350A

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202210290100.7

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 本发明属于半导体制造技术领域,公开了一种晶圆清洗方法及装置,该方法包括:S1、将经过激光开槽和等离子切割后的待清洗晶圆置于真空腔室中,向真空腔室中通入氮气或惰性气体以清理待清洗晶圆表面的颗粒物;S2、保持真空腔室的真空环境,向其中通入水蒸气以清洗待清洗晶圆表面的激光保护胶;S3、保持真空腔室的真空环境,将氧化性气体电离形成的等离子体通入其中以清洗晶圆表面的聚合物;S4、保持真空腔室的真空环境,将还原性气体电离形成的等离子体通入其中以还原晶圆表面的氧化铜。本发明方法单纯依赖气体对切割后晶圆进行分步清洗,保证晶圆表面各类杂质彻底清除,同时不破坏承载膜和晶圆表面结构,该方法简化流程,高效环保。

    芯片系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114937658A

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202210858190.5

    申请日:2022-07-21

    Abstract: 本公开实施例提供一种芯片系统,所述芯片系统包括:第一晶圆,所述第一晶圆中具有阵列排布的多个第一功能芯片;第二晶圆,所述第二晶圆位于所述第一晶圆上方;所述第二晶圆中具有阵列排布的多个第二功能芯片;其中,所述第一功能芯片与所述第二功能芯片具有不同类型的功能;每个所述第二功能芯片在所述第一晶圆上的投影与至少两个相邻的所述第一功能芯片部分重叠;所述第二功能芯片与至少两个相邻的所述第一功能芯片在重叠的区域内键合连接;键合连接的所述第一功能芯片与所述第二功能芯片之间具有信号通道多路连接通道;所述多路连接通道被配置为使所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片之间具有信号通信。

    晶圆的切割方法和激光切割装置

    公开(公告)号:CN114589419B

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN202210489798.5

    申请日:2022-05-07

    Abstract: 本公开实施例公开了一种晶圆的切割方法和激光切割装置。所述切割方法包括:提供待切割晶圆;其中,所述待切割晶圆包括多个管芯以及位于相邻的两个管芯之间的切割道;所述切割道包括沿所述切割道延伸方向并列设置的至少两个子区域;所述至少两个子区域内的材质厚度分布不同;对第一个所述子区域施加第一激光能量,以切割第一个所述子区域;其中,所述第一激光能量是根据第一个所述子区域内材质厚度分布的第一统计信息确定的;对第二个所述子区域施加第二激光能量,以切割第二个所述子区域;其中,所述第二激光能量是根据第二个所述子区域内材质厚度分布的第二统计信息确定的,所述第二激光能量和所述第一激光能量不同。

    一种晶圆清洗方法及装置

    公开(公告)号:CN114388350B

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN202210290100.7

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 本发明属于半导体制造技术领域,公开了一种晶圆清洗方法及装置,该方法包括:S1、将经过激光开槽和等离子切割后的待清洗晶圆置于真空腔室中,向真空腔室中通入氮气或惰性气体以清理待清洗晶圆表面的颗粒物;S2、保持真空腔室的真空环境,向其中通入水蒸气以清洗待清洗晶圆表面的激光保护胶;S3、保持真空腔室的真空环境,将氧化性气体电离形成的等离子体通入其中以清洗晶圆表面的聚合物;S4、保持真空腔室的真空环境,将还原性气体电离形成的等离子体通入其中以还原晶圆表面的氧化铜。本发明方法单纯依赖气体对切割后晶圆进行分步清洗,保证晶圆表面各类杂质彻底清除,同时不破坏承载膜和晶圆表面结构,该方法简化流程,高效环保。

    芯片系统
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114937659B

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210858221.7

    申请日:2022-07-21

    Abstract: 本公开提供一种芯片系统,所述芯片系统包括:第一基板;位于所述第一基板上阵列排布的多个第一功能芯片;以及位于所述第一功能芯片表面上的多个第二功能芯片;其中,所述第一功能芯片与所述第二功能芯片具有不同类型的功能;每个所述第二功能芯片在所述第一基板上的投影分别与至少两个所述第一功能芯片在所述第一基板上的投影至少部分重叠;所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片在重叠的区域内键合连接;键合连接的所述第一功能芯片与所述第二功能芯片之间具有多路连接通道;所述多路连接通道被配置为使所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片之间具有信号通信。

    芯片系统
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114937658B

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202210858190.5

    申请日:2022-07-21

    Abstract: 本公开实施例提供一种芯片系统,所述芯片系统包括:第一晶圆,所述第一晶圆中具有阵列排布的多个第一功能芯片;第二晶圆,所述第二晶圆位于所述第一晶圆上方;所述第二晶圆中具有阵列排布的多个第二功能芯片;其中,所述第一功能芯片与所述第二功能芯片具有不同类型的功能;每个所述第二功能芯片在所述第一晶圆上的投影与至少两个相邻的所述第一功能芯片部分重叠;所述第二功能芯片与至少两个相邻的所述第一功能芯片在重叠的区域内键合连接;键合连接的所述第一功能芯片与所述第二功能芯片之间具有信号通道多路连接通道;所述多路连接通道被配置为使所述第二功能芯片与至少两个所述第一功能芯片之间具有信号通信。

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