一种轴对称硅微机械陀螺敏感结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN108007448A

    公开(公告)日:2018-05-08

    申请号:CN201711173188.X

    申请日:2017-11-22

    IPC分类号: G01C19/5656 G01C19/5663

    摘要: 本发明公开了一种轴对称硅微机械陀螺敏感结构及其制造方法,敏感结构包括两侧设有键合锚点的弹性框架,弹性框架上设有轴对称的通孔区域且其对称轴线处设有“H”型支撑梁,“H”型支撑梁的两侧各设有两个轴对称的两个敏感质量块,且敏感质量块布置于通孔区域内且一侧通过联接梁与“H”型支撑梁相连;制造方法包括采用干湿结合在单个硅片上制备敏感结构。本发明的轴对称硅微机械陀螺敏感结构实现了结构的完全轴对称分布,降低结构损耗,减小应力集中,降低运动耦合,提高结构的机械灵敏度;本发明制造方法具有加工工艺简单、加工质量高、结构鲁棒性好、稳定性好、应用范围广等优点。

    一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极

    公开(公告)号:CN108411269B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN201810447697.5

    申请日:2018-05-11

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/02

    摘要: 本发明公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极,包括:电极接头、水冷电极、进水接头、出水接头和分水管,电极接头的一端与水冷电极相连,分水管包括贯穿水冷电极和电极接头的第一内分水管、第二内分水管、延伸出水冷电极顶部的外分水管网,进水接头通过第一内分水管与外分水管网相连,出水接头通过第二内分水管与外分水管网相连;电极接头外覆盖有绝缘套,绝缘套外覆盖有外屏蔽罩,外屏蔽罩通过固定装置与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架底部相连,水冷电极与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架之间设置有密封绝缘套。本发明将加热和清洗步骤同时进行,并且利用等量的冷却水进行了双重散热,散热效果好、密封绝缘性佳。

    一种高精度恒压强闭环控制仪

    公开(公告)号:CN108490844B

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN201810448482.5

    申请日:2018-05-11

    IPC分类号: G05B19/042

    摘要: 本发明公开了一种高精度恒压强闭环控制仪,包括闭环控制仪本体和真空电控系统,闭环控制仪本体包括支架、设置在支架上的真空屏蔽箱、真空屏蔽箱内设置有用于放置芯片的内屏蔽盒;真空电控系统包括与真空屏蔽箱相连的真空泵、设置在真空屏蔽箱内的真空计、流量计,以及与真空泵、真空计、流量计电性连接的控制模块。本设计通过真空屏蔽箱和内屏蔽盒的双层设计,并且在内屏蔽盒外侧和真空屏蔽箱内侧都覆盖有电磁屏蔽层,能够有效屏蔽电磁干扰;控制模块通过监测数据实时控制真空泵的进气量来实现真空屏蔽箱内部压强的闭环控制,能够提供稳定的真空环境,保证了芯片的测试结果的可靠性。

    一种轴对称硅微机械陀螺敏感结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN108007448B

    公开(公告)日:2018-10-26

    申请号:CN201711173188.X

    申请日:2017-11-22

    IPC分类号: G01C19/5656 G01C19/5663

    摘要: 本发明公开了一种轴对称硅微机械陀螺敏感结构及其制造方法,敏感结构包括两侧设有键合锚点的弹性框架,弹性框架上设有轴对称的通孔区域且其对称轴线处设有“H”型支撑梁,“H”型支撑梁的两侧各设有两个轴对称的两个敏感质量块,且敏感质量块布置于通孔区域内且一侧通过联接梁与“H”型支撑梁相连;制造方法包括采用干湿结合在单个硅片上制备敏感结构。本发明的轴对称硅微机械陀螺敏感结构实现了结构的完全轴对称分布,降低结构损耗,减小应力集中,降低运动耦合,提高结构的机械灵敏度;本发明制造方法具有加工工艺简单、加工质量高、结构鲁棒性好、稳定性好、应用范围广等优点。

    一种高精度恒压强闭环控制仪

    公开(公告)号:CN108490844A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201810448482.5

    申请日:2018-05-11

    IPC分类号: G05B19/042

    摘要: 本发明公开了一种高精度恒压强闭环控制仪,包括闭环控制仪本体和真空电控系统,闭环控制仪本体包括支架、设置在支架上的真空屏蔽箱、真空屏蔽箱内设置有用于放置芯片的内屏蔽盒;真空电控系统包括与真空屏蔽箱相连的真空泵、设置在真空屏蔽箱内的真空计、流量计,以及与真空泵、真空计、流量计电性连接的控制模块。本设计通过真空屏蔽箱和内屏蔽盒的双层设计,并且在内屏蔽盒外侧和真空屏蔽箱内侧都覆盖有电磁屏蔽层,能够有效屏蔽电磁干扰;控制模块通过监测数据实时控制真空泵的进气量来实现真空屏蔽箱内部压强的闭环控制,能够提供稳定的真空环境,保证了芯片的测试结果的可靠性。

    一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极

    公开(公告)号:CN108411269A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201810447697.5

    申请日:2018-05-11

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/02

    摘要: 本发明公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极,包括:电极接头、水冷电极、进水接头、出水接头和分水管,电极接头的一端与水冷电极相连,分水管包括贯穿水冷电极和电极接头的第一内分水管、第二内分水管、延伸出水冷电极顶部的外分水管网,进水接头通过第一内分水管与外分水管网相连,出水接头通过第二内分水管与外分水管网相连;电极接头外覆盖有绝缘套,绝缘套外覆盖有外屏蔽罩,外屏蔽罩通过固定装置与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架底部相连,水冷电极与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架之间设置有密封绝缘套。本发明将加热和清洗步骤同时进行,并且利用等量的冷却水进行了双重散热,散热效果好、密封绝缘性佳。

    一种基于Sigma Delta Modulator的模数转换器

    公开(公告)号:CN207603618U

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201720780177.7

    申请日:2017-06-30

    IPC分类号: H03M3/00

    摘要: 本实用新型提供了一种较高精度的模数转换器结构,主要由第一延时积分器、第一时钟比较器、第一抽取器、第二抽取器、第二延时积分器、第二时钟比较器、第一加法器、第二加法器以及第三加法器组成,可以达到较高精度的模数转换,同时在不增加数字处理复杂度的情况下实现较快的转换速度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极

    公开(公告)号:CN208791742U

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201820707081.2

    申请日:2018-05-11

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/02

    摘要: 本实用新型公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极,包括:电极接头、水冷电极、进水接头、出水接头和分水管,电极接头的一端与水冷电极相连,分水管包括贯穿水冷电极和电极接头的第一内分水管、第二内分水管、延伸出水冷电极顶部的外分水管网,进水接头通过第一内分水管与外分水管网相连,出水接头通过第二内分水管与外分水管网相连;电极接头外覆盖有绝缘套,绝缘套外覆盖有外屏蔽罩,外屏蔽罩通过固定装置与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架底部相连,水冷电极与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架之间设置有密封绝缘套。本实用新型将加热和清洗步骤同时进行,并且利用等量的冷却水进行了双重散热,散热效果好、密封绝缘性佳。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利