公开(公告)号：CN116568874A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202080107867.0

申请日：2020-11-12

申请人： 环球晶圆股份有限公司

发明人： S·S·巴加瓦特 ,  P·达葛卢 ,  B·M·迈耶 ,  J·柳

IPC分类号： C30B29/06

摘要： 公开在侧加热器下方安置有热屏蔽的拉锭器设备及用于在此拉锭器设备中制备锭的方法。在一些实施例中，所述侧加热器相对较短。当坩埚在所述拉锭器中位于其最低位置时，所述侧加热器可完全高于所述坩埚的底面。

公开(公告)号：CN117488394A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202310957500.3

申请日：2023-08-01

申请人： 环球晶圆股份有限公司

发明人： B·M·迈耶 ,  J·S·凯泽

IPC分类号： C30B15/00 ,  C30B29/06

摘要： 本公开涉及具有带冷却流体管的冷却套装置的拉锭器设备。公开用于通过丘克拉斯基法制备硅锭的拉锭器设备的冷却套装置。所述冷却套装置可包含形成通过其来拉锭的内室的内壳。所述冷却套包含外壳。多个管安置于所述内壳与外壳之间。每一管形成冷却流体通过的冷却流体通路。

公开(公告)号：CN117043396A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202280022903.2

申请日：2022-02-11

申请人： 环球晶圆股份有限公司

发明人： J·柳 ,  池浚焕 ,  尹佑镇 ,  B·M·迈耶 ,  卡瑞喜玛·玛丽·哈德森

IPC分类号： C30B15/00

摘要： 公开具有组合式排气管的拉锭器设备及用于选择所述组合式排气管上下部分长度的方法。在一些实施例中，所述组合式排气管的所述上部由石墨制成，且所述下部由不锈钢制成。

公开(公告)号：CN116615582A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202180085611.9

申请日：2021-11-18

申请人： 环球晶圆股份有限公司

发明人： B·M·迈耶 ,  W·L·卢特尔 ,  J·柳

IPC分类号： C30B15/22

摘要： 一种测量系统包含界定中心通道及开口的反射器、测量组合件以及控制器。所述测量组合件包含具有通过所述开口可见的头部的运行销、通过所述反射器中的所述开口捕获图像的相机及通过所述开口将相干光传输到所述运行销的所述头部以在硅熔体的表面上产生所述运行销的反射的激光器。所述控制器经编程以控制所述激光器以将来自所述激光器的相干光引导到所述运行销，在将所述相干光引导在所述运行销处的同时通过所述开口控制所述相机捕获图像，及基于所述经捕获图像中的所述运行销的所述反射的位置确定所述硅熔体的所述表面与所述反射器的底面之间的距离。

公开(公告)号：CN116507906A

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN202180071727.7

申请日：2021-09-15

申请人： 环球晶圆股份有限公司

发明人： B·M·迈耶 ,  J·S·凯泽 ,  J·F·瓦利 ,  J·D·依欧夫 ,  V·塔纳 ,  W·L·卢特尔

IPC分类号： G01N21/88

摘要： 一种用于对半导体晶片进行成像的半导体晶片成像系统包含：护罩面板，其界定黑箱；摄影机，其定位于所述黑箱中用于对所述半导体晶片进行成像；及照明面板，其用于将漫射光引导到所述半导体晶片。所述漫射光的部分经反射离开所述半导体晶片且所述摄影机通过检测所述经反射的漫射光而对所述半导体晶片进行成像。