公开(公告)号：CN107923038A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680048587.0

申请日：2016-08-23

Applicant: 田中贵金属工业株式会社

Inventor： 原田了辅 ,  重富利幸 ,  石坂翼 ,  青山达贵

IPC: C23C16/16 ,  C07F15/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

Abstract: 本发明涉及一种由双核钌配合物构成的化学蒸镀用原料，其用于通过化学蒸镀法制造钌薄膜或钌化合物薄膜，其中，该双核钌配合物由下式(1)表示，其是通过羰基及含氮的有机配位体(L)配位于金属键结的2个钌而成的。根据本发明的原料可以制造高纯度的钌薄膜，且熔点较低，并兼具适度的热稳定性。因此，适合应用于各种设备的电极等。

公开(公告)号：CN107923038B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201680048587.0

申请日：2016-08-23

Applicant: 田中贵金属工业株式会社

Inventor： 原田了辅 ,  重富利幸 ,  石坂翼 ,  青山达贵

IPC: C23C16/16 ,  C07F15/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

Abstract: 本发明涉及一种由双核钌配合物构成的化学蒸镀用原料，其用于通过化学蒸镀法制造钌薄膜或钌化合物薄膜，其中，该双核钌配合物由下式(1)表示，其是通过羰基及含氮的有机配位体(L)配位于金属键结的2个钌而成的。根据本发明的原料可以制造高纯度的钌薄膜，且熔点较低，并兼具适度的热稳定性。因此，适合应用于各种设备的电极等。