低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN112745115B

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110031492.0

    申请日:2021-01-11

    摘要: 本发明属于电子材料技术领域,具体涉及一种低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法。本发明在具有高磁致伸缩系数的钴铁氧体的基础上,首次采用Mg2+和Zr4+复合取代CoFe2O4,通过取代元素的选取以及配方比例选择,实现不同占位,其中Mg2+倾向于同时占据四面体位点和八面体位点,Zr4+倾向于取代四面体位点,在两个位点的共同取代的作用下实现了钴铁氧体在低磁场域下的3.3×10‑9A‑1m~4.3×10‑9A‑1m的应变灵敏度,极大的提升了当前低磁场域下钴铁氧体的应变灵敏度,使其具有更好的应用前景,从而为磁传感器在更低磁场下工作的可能提供了基础。

    低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN112745115A

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN202110031492.0

    申请日:2021-01-11

    摘要: 本发明属于电子材料技术领域,具体涉及一种低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法。本发明在具有高磁致伸缩系数的钴铁氧体的基础上,首次采用Mg2+和Zr4+复合取代CoFe2O4,通过取代元素的选取以及配方比例选择,实现不同占位,其中Mg2+倾向于同时占据四面体位点和八面体位点,Zr4+倾向于取代四面体位点,在两个位点的共同取代的作用下实现了钴铁氧体在低磁场域下的3.3×10‑9A‑1m~4.3×10‑9A‑1m的应变灵敏度,极大的提升了当前低磁场域下钴铁氧体的应变灵敏度,使其具有更好的应用前景,从而为磁传感器在更低磁场下工作的可能提供了基础。

    一种电子材料切割冷加工固定冷凝液及装置

    公开(公告)号:CN111673930A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010411040.0

    申请日:2020-05-15

    IPC分类号: B28D5/00 C10M169/04 C10N30/12

    摘要: 本发明属于电子材料及元器件领域,具体提供一种电子材料切割冷加工固定冷凝液及装置,用以解决目前切割加工用的抽真空吸附固定方法难以满足被切割产品尺寸的多样化的问题。本发明提供的固定冷凝液的凝固温度为14~19℃,凝固后匹配辅助防滑块能够对电子材料件具有良好的固定和减震效果,使得能够满足不同尺寸的电子材料件的加工需求;同时,与之匹配的加工装置,采用自来水经刀头冷却装置降温处理后对运行的切刀进行控温处理,1~8℃摄氏度的切刀冷却水能够有效避免凝固层温度上升而融化导致固定不稳定的问题;综上,本发明能够满足不同尺寸的电子材料件的加工需求的同时,不仅提高了加工效率,该更好地保障了加工质量,大大的降低了加工成本。

    一种电子材料切割冷加工固定冷凝液及装置

    公开(公告)号:CN111673930B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202010411040.0

    申请日:2020-05-15

    IPC分类号: B28D5/00 C10M169/04 C10N30/12

    摘要: 本发明属于电子材料及元器件领域,具体提供一种电子材料切割冷加工固定冷凝液及装置,用以解决目前切割加工用的抽真空吸附固定方法难以满足被切割产品尺寸的多样化的问题。本发明提供的固定冷凝液的凝固温度为14~19℃,凝固后匹配辅助防滑块能够对电子材料件具有良好的固定和减震效果,使得能够满足不同尺寸的电子材料件的加工需求;同时,与之匹配的加工装置,采用自来水经刀头冷却装置降温处理后对运行的切刀进行控温处理,1~8℃摄氏度的切刀冷却水能够有效避免凝固层温度上升而融化导致固定不稳定的问题;综上,本发明能够满足不同尺寸的电子材料件的加工需求的同时,不仅提高了加工效率,该更好地保障了加工质量,大大的降低了加工成本。

    一种片式电子元器件内电极的制备方法

    公开(公告)号:CN103395307B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201310322790.0

    申请日:2013-07-29

    IPC分类号: B41M1/12 G03F7/00

    摘要: 一种片式电子元器件内部电极的制备方法,主要包括:在暗室中,用负性感光导电金属浆料印刷初步内电极图形,然后在掩膜板作用下,将印刷的初步内电极图形按目标内电极图形要求要求曝光固化,再经过与负性感光导电金属浆料匹配的显影液显影,用溶剂清除精细电极图形之外的电极轮廓,保留已经固化的目标内电极图形,经干燥后完成内电极制备。本发明在采用传统丝网印刷工艺制作元器件内电极的基础上,利用负性感光导电金属浆料对特定波长光的敏感性,再通过曝光显影的方式,将目标内电极图形精细地刻画出来,以达到小尺寸电子元器件内部电极图形设计的要求,够制备出线宽精度更高的内电极,适用于英制0201、01005或更小尺寸元件内电极的制备。