用于相位对比成像的X射线探测器

    公开(公告)号:CN101952900A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN200980105199.1

    申请日:2009-02-09

    CPC classification number: G21K1/06 G21K2201/067 G21K2207/005

    Abstract: 本发明涉及一种X射线探测器(30),其包括敏感元件(Pi-1,b,Pia,Pib,Pi+1,a,Pi+1,b)的阵列和在两个不同的敏感元件前方以不同的相位和/或周期设置的至少两个分析器光栅(G2a,G2b)。优选地,所述敏感元件被组织为例如四个相邻的敏感元件的宏像素(IIi),其中相互具有不同相位的分析器光栅设置在所述敏感元件前面。特别地,将探测器(30)应用于X射线设备(100)以生成相位对比图像,这是由于X射线设备允许对由其在不同位置同时生成的强度图样(I)进行采样。

    利用像素化探测器的X射线成像

    公开(公告)号:CN103081024B

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201180042736.X

    申请日:2011-08-30

    CPC classification number: G01N23/04 G21K1/025 G21K2207/00 H01J2235/068

    Abstract: 本发明涉及一种用于产生X射线图像的方法和成像系统(100)。该系统(100)包括至少一个X射线源,优选是X射线源(101a?101d)的阵列,以及具有敏感像素(103a?103e)阵列的X射线探测器(103)。在X射线源和探测器之间布置准直器(102),使得准直器(102)的两个开口(P)允许X射线通过而指向两个相邻像素(103a?103e),同时基本屏蔽所述像素之间的区域。像素之间对通常不敏感的区域的这种屏蔽减少了不必要的X射线曝光。可以利用多个小的X射线源(101a?101d)实现充分大的X射线强度。

Patent Agency Ranking