一种用于提拉炉的激光监控分析系统

    公开(公告)号:CN104746136B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201510174163.6

    申请日:2015-04-14

    IPC分类号: C30B15/26

    摘要: 本发明公开了一种用于提拉炉的激光监控分析系统,用于提拉炉内晶体生长过程中的监控和分析,所述系统以激光对提拉炉内生产环境进行主动照明,通过生产环境所反射回的激光对提拉炉内的晶体生长过程进行成像分析,本发明能在提拉炉内强光环境下,实现对晶体生成过程的可靠清晰监控和分析。

    一种用于提拉炉的激光监控分析系统

    公开(公告)号:CN104746136A

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201510174163.6

    申请日:2015-04-14

    IPC分类号: C30B15/26

    摘要: 本发明公开了一种用于提拉炉的激光监控分析系统,用于提拉炉内晶体生长过程中的监控和分析,所述系统以激光对提拉炉内生产环境进行主动照明,通过生产环境所反射回的激光对提拉炉内的晶体生长过程进行成像分析,本发明能在提拉炉内强光环境下,实现对晶体生成过程的可靠清晰监控和分析。