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公开(公告)号：CN118795723A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410876889.3
申请日：2020-09-04
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 本发明的实施例涉及使用云纹元件及旋转对称布置以成像叠加目标。一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具有沿着所述测量方向的不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅结构形成的云纹图案。当所述第一样本层与所述第二层之间的叠加误差是零时，所述第一工作区及所述第二工作区的旋转对称中心通过设计可重叠。所述第一工作区及所述第二工作区的所述旋转对称中心之间的差可指示所述第一样本层与所述第二样本层之间的叠加误差。
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公开(公告)号：CN116917715A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280018258.7
申请日：2022-02-25
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： A·玛纳森 , I·萨利布 , R·约哈南 , D·沙皮罗乌 , E·哈贾 , V·莱温斯基 , A·阿布拉莫夫 , M·申迪思 , A·希尔德斯海姆 , Y·格劳尔 , S·艾森巴赫 , E·拉维特 , I·尼尔
IPC分类号： G01N21/35
摘要： 一种光学计量工具可包含：一或多个照射源，其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射；照射光学器件，其经配置以将所述照射引导到样本；第一成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器；第二成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器；及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像，从所述第二检测器接收所述样本的第二图像，并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
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公开(公告)号：CN113167745A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079626.7
申请日：2019-12-20
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： E·莱欣斯凯-阿特休勒 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , D·沙皮罗乌 , G·本多夫 , R·弗克维奇 , C·斯蒂利
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/95 , G01B11/25 , G06T7/00
摘要： 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。
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公开(公告)号：CN114341593A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061816.9
申请日：2020-09-04
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具有沿着所述测量方向的不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅结构形成的云纹图案。当所述第一样本层与所述第二层之间的叠加误差是零时，所述第一工作区及所述第二工作区的旋转对称中心通过设计可重叠。所述第一工作区及所述第二工作区的所述旋转对称中心之间的差可指示所述第一样本层与所述第二样本层之间的叠加误差。
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