使用基于学习的模型加速半导体缺陷检测的方法和系统

    公开(公告)号:CN108475350B

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN201780005789.1

    申请日:2017-01-10

    IPC分类号: G06K9/62

    摘要: 本发明提供用于使用针对样本模拟的输出执行针对所述样本的一或多个功能的方法及系统。一种系统包含经配置以用于由包含于工具中的一或多个检测器获取针对样本产生的输出的一或多个计算机子系统,所述工具经配置以在所述样本上执行过程。所述系统还包含由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含基于学习的模型,其经配置以用于使用所获取的输出作为输入执行一或多个第一功能以借此产生针对所述样本的模拟输出。所述一或多个计算机子系统还经配置以用于使用所述模拟输出针对所述样本执行一或多个第二功能。

    用于多波束扫描式电子显微系统的聚焦调整的方法及系统

    公开(公告)号:CN108027499B

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN201680052662.0

    申请日:2016-09-23

    IPC分类号: G02B21/20 H01J37/317

    摘要: 本发明揭示一种扫描式电子显微系统。所述系统包含多波束扫描式电子显微SEM子系统。所述SEM子系统包含:多波束电子源,其经配置以形成多个电子束;样品载物台,其经配置以固定样品;电子光学组合件,其将所述电子束引导到所述样品的部分上;及检测器组合件,其经配置以同时获取所述样品的表面的多个图像。所述系统包含控制器,所述控制器经配置以:从所述检测器组合件接收所述图像;通过分析图像的一或多个图像质量参数而识别所述图像的最好聚焦图像;及基于对应于所述经识别的最好聚焦图像的电子束的聚焦来引导所述多透镜阵列以调整一或多个电子束的聚焦。

    使用基于学习的模型加速半导体相关计算

    公开(公告)号:CN108475350A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201780005789.1

    申请日:2017-01-10

    IPC分类号: G06N3/08 G06N3/04 G06N99/00

    摘要: 本发明提供用于使用针对样本模拟的输出执行针对所述样本的一或多个功能的方法及系统。一种系统包含经配置以用于由包含于工具中的一或多个检测器获取针对样本产生的输出的一或多个计算机子系统,所述工具经配置以在所述样本上执行过程。所述系统还包含由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含基于学习的模型,其经配置以用于使用所获取的输出作为输入执行一或多个第一功能以借此产生针对所述样本的模拟输出。所述一或多个计算机子系统还经配置以用于使用所述模拟输出针对所述样本执行一或多个第二功能。

    混合检验器
    5.
    发明公开
    混合检验器 审中-实审

    公开(公告)号:CN115684202A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202211329897.3

    申请日:2016-12-30

    摘要: 本申请实施例涉及混合检验器。一种系统包含计算机子系统,其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统,其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些执行一或多个功能。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件,其包含经配置以针对所述样品执行一或多个模拟的一或多个模型。所述计算机子系统经配置以基于所述基于光学的输出、所述基于电子束的输出、所述一或多个功能的结果及所述一或多个模拟的结果中的至少两者检测所述样品上的缺陷。

    用于多波束扫描式电子显微系统的聚焦调整的方法及系统

    公开(公告)号:CN108027499A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201680052662.0

    申请日:2016-09-23

    IPC分类号: G02B21/20 H01J37/317

    摘要: 本发明揭示一种扫描式电子显微系统。所述系统包含多波束扫描式电子显微SEM子系统。所述SEM子系统包含:多波束电子源,其经配置以形成多个电子束;样品载物台,其经配置以固定样品;电子光学组合件,其将所述电子束引导到所述样品的部分上;及检测器组合件,其经配置以同时获取所述样品的表面的多个图像。所述系统包含控制器,所述控制器经配置以:从所述检测器组合件接收所述图像;通过分析图像的一或多个图像质量参数而识别所述图像的最好聚焦图像;及基于对应于所述经识别的最好聚焦图像的电子束的聚焦来引导所述多透镜阵列以调整一或多个电子束的聚焦。

    用于组合式明场、暗场及光热检验的设备及方法

    公开(公告)号:CN106030292B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201580008360.9

    申请日:2015-02-11

    IPC分类号: G01N21/95 G01N21/39 H01L21/66

    摘要: 本发明揭示用于在半导体样本中检测缺陷或复检缺陷的方法及设备。系统具有明场BF模块,所述BF模块用于将BF照明光束引导到样本上并检测响应于所述BF照明光束而从所述样本反射的输出光束。所述系统具有经调制光反射比MOR模块,所述MOR模块用于将泵浦光束及探测光束引导到所述样本并检测响应于所述泵浦光束及所述探测光束而来自探测光点的MOR输出光束。所述系统包含处理器,所述处理器用于分析来自多个BF光点的所述BF输出光束以检测所述样本的表面上或接近所述表面的缺陷,并分析来自多个探测光点的所述MOR输出光束以检测在所述样本的所述表面以下的缺陷。

    用于组合式明场、暗场及光热检验的设备及方法

    公开(公告)号:CN106030292A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201580008360.9

    申请日:2015-02-11

    IPC分类号: G01N21/95 G01N21/39 H01L21/66

    摘要: 本发明揭示用于在半导体样本中检测缺陷或复检缺陷的方法及设备。系统具有明场BF模块,所述BF模块用于将BF照明光束引导到样本上并检测响应于所述BF照明光束而从所述样本反射的输出光束。所述系统具有经调制光反射比MOR模块,所述MOR模块用于将泵浦光束及探测光束引导到所述样本并检测响应于所述泵浦光束及所述探测光束而来自探测光点的MOR输出光束。所述系统包含处理器,所述处理器用于分析来自多个BF光点的所述BF输出光束以检测所述样本的表面上或接近所述表面的缺陷,并分析来自多个探测光点的所述MOR输出光束以检测在所述样本的所述表面以下的缺陷。