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公开(公告)号：CN117980694A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202380013695.4
申请日：2023-02-28
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 一种系统包含经配置以产生照明光束的照明源及包含物镜、经定位于集光瞳平面处的一或多个检测器、光调制器及控制器的集光子系统。所述光调制器经配置以将测量光的一或多个选定部分引导到所述一或多个检测器。所述控制器包含一或多个处理器，其经配置以执行程序指令，从而引起所述一或多个处理器通过以下执行度量配方：接收来自所述一或多个检测器的检测信号，其中所述检测信号与经引导到所述一或多个检测器的所述测量光的所述一或多个选定部分相关联；及基于所述检测信号来产生与样本的至少两个层相关联的叠对测量。
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公开(公告)号：CN116964438A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202180095179.1
申请日：2021-06-29
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC分类号： G01N21/956
摘要： 一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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公开(公告)号：CN116888538A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280016524.2
申请日：2022-01-07
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种产品，其包含半导体衬底，具有至少第一及第二薄膜层，所述薄膜层安置于所述衬底上，且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中，每一叠加目标在平行于所述衬底的平面中具有不大于10μm×10μm的尺寸。所述多个叠加目标包含形成于所述第一薄膜层中且具有第一光栅向量的第一线性光栅，及形成于所述第二薄膜层中、靠近所述第一线性光栅且具有平行于所述第一光栅向量的第二光栅向量的第二线性光栅。
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公开(公告)号：CN114450575A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080067074.0
申请日：2020-09-22
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 一种计量系统可包含用于在其中样本上的一或多个计量目标在测量期间静止的静态模式中或其中一或多个计量目标在测量期间处于运动中的扫描模式中选择性地执行计量测量的计量工具及通信地耦合到平移载物台及一或多个检测器中的至少一者的控制器。所述控制器可接收待检验的所述样本上的计量目标的位置，针对使用所述静态模式或所述扫描模式的检验指定所述计量目标，基于所述指定引导所述计量工具在所述静态模式或所述扫描模式中对所述计量目标执行计量测量，及基于对所述计量目标的所述计量测量产生所述样本的计量数据。
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公开(公告)号：CN116964438B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202180095179.1
申请日：2021-06-29
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/00 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95
摘要： 一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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公开(公告)号：CN116868069B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180094001.5
申请日：2021-10-01
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01R31/28
摘要： 本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
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公开(公告)号：CN118435024A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202380015205.4
申请日：2023-03-28
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01B11/27 , G01N21/88 , G01N21/956 , H01L21/66
摘要： 一种计量系统包含成像系统。所述成像系统可包含物镜。所述计量系统可包含一或多个检测器。所述计量系统可包含结构上耦合到所述物镜且经配置以经由沿所述计量系统的光轴移动来调整所述一或多个检测器中的至少一者的焦平面的物镜定位载台。所述计量系统可包含经配置以当所述物镜定位载台沿所述光轴移动时测量载台元件的侧向位置的一或多个接近传感器。所述计量系统可经配置以当实施计量配方时使用所述载台元件的图像及侧向位置来确定与样本上的目标相关联的计量测量。
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公开(公告)号：CN116868069A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202180094001.5
申请日：2021-10-01
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01R31/28
摘要： 本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
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公开(公告)号：CN116324392A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180065154.7
申请日：2021-10-28
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01N21/88
摘要： 一种多柱计量工具，其可包含沿着柱方向分布的两个或更多个测量柱，其中所述两个或更多个测量柱同时探测包含计量目标的样本上的两个或更多个测量区域。测量柱可包含用于将照明引导到所述样本的照明子系统、包含用于收集来自所述样本的测量信号且将其引导到一或多个检测器的集光透镜的集光子系统及用于调整所述集光透镜的位置的柱定位子系统。测量柱的测量区域可由所述集光透镜的视场及所述定位系统在横向平面中的范围界定。所述工具可进一步包含用于沿着不同于所述柱方向的扫描路径扫描所述样本以将计量目标定位于所述测量柱的所述测量区域内以进行测量的样本定位子系统。
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