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公开(公告)号：CN115427527B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202180028783.2
申请日：2021-09-22
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： C09J7/38 , B32B5/18 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09J133/00 , C09J201/00 , C09J7/26
摘要： 本发明的目的在于提供两粘合面的高低差追随性高、能够对剪切载荷及倾斜载荷发挥高的保持力、至少一个粘合面的再加工性优异、进而粘贴时的处理性也优异的双面粘合带。本发明涉及一种双面粘合带，其具有发泡体基材和层叠于所述发泡体基材的两面的粘合剂层，所述发泡体基材具有第1发泡树脂层和层叠于所述第1发泡树脂层的至少一面的第2发泡树脂层，所述第2发泡树脂层的发泡倍率比所述第1发泡树脂层低，所述粘合剂层中的至少一者在180℃下的储能模量为11000Pa以上。
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公开(公告)号：CN111819228A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017734.1
申请日：2019-03-19
申请人： 积水化学工业株式会社
摘要： 本发明的的目的在于，提供具有比以往更优异的脱模性、也可适合用于利用RtoR方式的挠性电路基板的制造的脱模膜。本发明为一种脱模膜，其为具有至少1个脱模层的脱模膜，上述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50％以上。
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公开(公告)号：CN112839809A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN202080005649.6
申请日：2020-03-06
申请人： 积水化学工业株式会社
摘要： 本发明的目的在于提供一种在用于柔性电路基板的制造工序时不会污染基板的脱模膜。本发明是一种脱模膜，其具有脱模层，所述脱模层含有烯烃系聚合物和熔点为160℃以上的酚系抗氧化剂。另外，本发明是一种脱模膜，其具有脱模层，所述脱模层含有烯烃系聚合物和金属钝化剂，所述脱模层的通过X射线光电子能谱法测定的表面的氮浓度为1.5％以下。
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公开(公告)号：CN111819228B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN201980017734.1
申请日：2019-03-19
申请人： 积水化学工业株式会社
摘要： 本发明的的目的在于，提供具有比以往更优异的脱模性、也可适合用于利用RtoR方式的挠性电路基板的制造的脱模膜。本发明为一种脱模膜，其为具有至少1个脱模层的脱模膜，上述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50％以上。
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公开(公告)号：CN113924350A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202080039952.8
申请日：2020-11-26
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： C09J7/26 , C09J7/29 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/08 , C08J9/12 , C08L75/08 , C08G18/32 , C08G18/34 , C08G18/48 , C08G18/66 , C08G18/76
摘要： 本发明的目的在于，提供耐下落冲击性优异、能够减少显示装置的显示不均、并且从被粘物剥离时能够容易地将发泡体基材撕裂的双面粘合带。本发明是一种双面粘合带，其具有发泡体基材、和层叠于所述发泡体基材的两侧的粘合剂层，所述发泡体基材的气泡体积分率为40体积％以上且75体积％以下，剪切断裂强度为200N/英寸2以上且500N/英寸2以下。
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公开(公告)号：CN115427527A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202180028783.2
申请日：2021-09-22
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： C09J7/38 , B32B5/18 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09J133/00 , C09J201/00 , C09J7/26
摘要： 本发明的目的在于提供两粘合面的高低差追随性高、能够对剪切载荷及倾斜载荷发挥高的保持力、至少一个粘合面的再加工性优异、进而粘贴时的处理性也优异的双面粘合带。本发明涉及一种双面粘合带，其具有发泡体基材和层叠于所述发泡体基材的两面的粘合剂层，所述发泡体基材具有第1发泡树脂层和层叠于所述第1发泡树脂层的至少一面的第2发泡树脂层，所述第2发泡树脂层的发泡倍率比所述第1发泡树脂层低，所述粘合剂层中的至少一者在180℃下的储能模量为11000Pa以上。
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