蒸镀掩模及其制造方法、电子器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102877022A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210231734.1

    申请日:2012-07-05

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 平井畅一

    CPC classification number: C23C14/042 C23C14/044 H01L51/0011

    Abstract: 本发明涉及蒸镀掩模及其制造方法、电子器件及其制造方法。即,提供了能够以精细图案形成蒸镀膜的蒸镀掩模,制造蒸镀掩模的方法,和使用这种蒸镀掩模制造电子器件的方法。此外,还提供了具有以精细图案精确地形成的成膜图案的电子器件。所述蒸镀掩模包括:包括一个或多个第一开口部的基板;和设置在所述基板的第一主表面侧的高分子膜,所述高分子膜包括与相应第一开口部连通的一个或多个第二开口部。

    绘制和擦除装置以及擦除方法

    公开(公告)号:CN112368154A

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN201980040255.1

    申请日:2019-06-06

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 一种绘制和擦除装置,包括:光源单元,其包括具有不同发射波长的多个激光元件;合波单元,其将从多个激光元件发出的多种类型的激光组合在一起;扫描器单元,其利用从合波单元发出的组合光扫描包括具有不同显影色调的多个可逆记录层的可逆记录介质;和控制单元,其在擦除写入到可逆记录介质的信息期间控制扫描器单元的主扫描速度和副扫描速度,使得扫描器单元重复扫描可逆记录介质上的预定区域。

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