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公开(公告)号：CN115963703A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211251812.4
申请日：2022-10-13
申请人： 纽富来科技股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/317
摘要： 提供一种能够抑制消隐期间中的泄漏束给描绘处理带来的影响的描绘装置以及描绘装置的控制方法。本实施方式的描绘装置是将多带电粒子束向照射对象的规定位置照射而在照射对象上描绘规定图案的描绘装置，具备：生成多带电粒子束的束生成机构；对所生成的多带电粒子束进行消隐控制的消隐孔径机构；搭载照射对象并能够移动的工作台；以及控制描绘装置的控制部，控制部控制消隐孔径机构以及工作台，在消隐期间中使工作台在照射对象表面的面内方向上移动。
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公开(公告)号：CN109698106B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201811220010.0
申请日：2018-10-19
申请人： 纽富来科技股份有限公司
发明人： 中山贵仁
摘要： 本发明涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。具备：描绘部，对载置于工作台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案；标记基板，设置在工作台上，形成有标记；照射位置检测器，通过带电粒子束对标记的照射检测标记表面上的带电粒子束的照射位置；高度检测器，通过激光的照射及反射光的接受检测基板表面的高度及标记基板表面的高度；漂移校正部，根据检测出的照射位置计算标记表面上的带电粒子束的漂移量，据此计算漂移校正量；描绘控制部，使用漂移校正量校正带电粒子束的照射位置，标记基板具有形成多个标记的图案区域和未形成图案的非图案区域，非图案区域的至少一部分配置在图案区域间，高度检测器检测非图案区域内的检测点的高度。
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公开(公告)号：CN109491211A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811066688.8
申请日：2018-09-13
申请人： 纽富来科技股份有限公司
发明人： 中山贵仁
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/302 , H01J37/317
摘要： 本发明关于带电粒子束描绘装置及消隐电路的故障诊断方法。实施方式所得的带电粒子束描绘装置具备：放出部，放出带电粒子束；消隐偏转器，通过消隐电压的施加而偏转上述带电粒子束，进行束流的消隐控制；消隐电路，对上述消隐偏转器施加上述消隐电压；平台，载置被上述带电粒子束所照射的基板；标记物，设于上述平台上；检测器，通过上述带电粒子束对上述标记物的照射，检测上述带电粒子束的照射位置；诊断部，比较第1照射位置和第2照射位置间的差分，在该差分在规定值以上的情况下，诊断为上述消隐电路已发生故障，上述第1照射位置和上述第2位置是由上述检测器检测而得到的。
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公开(公告)号：CN103257529B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201310051135.6
申请日：2013-02-16
申请人： 纽富来科技股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3007 , H01J37/09 , H01J2237/12 , H01J2237/31776
摘要： 本发明涉及电子束描绘装置以及电子束描绘方法。电子束描绘装置（100）具备承载试样（216）的XY工作台（105）、配置有射出电子束（200）的电子枪（201）和具备在电子束（200）的轴向上排列的电极的电磁透镜（202、204、207、210）的电子镜筒（102）。在XY工作台（105）与电子镜筒（102）之间，设有遮挡电子束（200）向试样（216）照射而产生的反射电子或者2次电子的屏蔽板（211）。在屏蔽板（211）的正上方，配置有改变电子束（200）的焦点位置的静电透镜（210），对静电透镜（210）始终从电压供给单元（135）施加负的电压。
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公开(公告)号：CN103257528A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310047452.0
申请日：2013-02-06
申请人： 纽富来科技股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , B82Y10/00
摘要： 一种电子束描绘装置及电子束描绘方法，该电子束描绘装置（100）具有：XY载物台（105），载放试样（216）；以及电子镜筒（102），配置有出射电子束（200）的电子枪（201）和具备排列在电子束（200）的轴向上的电极的透镜（202、204、207、210）。在XY载物台（105）和电子镜筒（102）之间设置有屏蔽板（211），该屏蔽板（211）屏蔽电子束（200）向试样（216）照射而产生的反射电子或二次电子。在屏蔽板（211）的正上方配置有改变电子束（200）的焦点位置的静电透镜（210），始终从电压供给单元（135）对静电透镜（210）施加正电压。
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公开(公告)号：CN109491211B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201811066688.8
申请日：2018-09-13
申请人： 纽富来科技股份有限公司
发明人： 中山贵仁
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/302 , H01J37/317
摘要： 本发明关于带电粒子束描绘装置及消隐电路的故障诊断方法。实施方式所得的带电粒子束描绘装置具备：放出部，放出带电粒子束；消隐偏转器，通过消隐电压的施加而偏转上述带电粒子束，进行束流的消隐控制；消隐电路，对上述消隐偏转器施加上述消隐电压；平台，载置被上述带电粒子束所照射的基板；标记物，设于上述平台上；检测器，通过上述带电粒子束对上述标记物的照射，检测上述带电粒子束的照射位置；诊断部，比较第1照射位置和第2照射位置间的差分，在该差分在规定值以上的情况下，诊断为上述消隐电路已发生故障，上述第1照射位置和上述第2位置是由上述检测器检测而得到的。
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公开(公告)号：CN118266060A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280076664.9
申请日：2022-10-25
申请人： 纽富来科技股份有限公司
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/305 , G03F7/20
摘要： 本发明提供一种能够抑制散射束对描绘处理造成的影响的描绘装置的控制方法以及描绘装置。本实施方式的描绘装置是将多带电粒子束照射至照射对象的规定位置而在照射对象上描绘规定图案的描绘装置，该描绘装置具备：束生成机构，生成多带电粒子束；消隐孔径机构，具备对所生成的多带电粒子束进行遮蔽的限制孔径基板以及使多带电粒子束向规定方向偏转的偏转器，使多带电粒子束消隐；工作台，供照射对象载置，并且能够移动；驱动部，使限制孔径基板移动；以及控制部，对描绘装置进行控制，控制部在消隐的期间中使限制孔径基板从描绘时的配置位置起在垂直于多带电粒子束的轴向的面内移动，并在描绘时使限制孔径基板返回到配置位置。
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公开(公告)号：CN111552150A
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN202010082219.6
申请日：2020-02-07
申请人： 纽富来科技股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。本发明的一个形态的带电粒子束描绘装置具备：描绘部，使用带电粒子束，对基板的表面描绘图案；测定部，测定上述基板的中央部的多个部位的表面高度；制作部，用第1多项式对上述测定部的测定值进行拟合，通过使用了该第1多项式的外推插值，计算上述基板的周缘部的表面高度的第1高度分布，用比该第1多项式高次的第2多项式对该测定值进行拟合，通过使用了该第2多项式的内插插值，计算上述中央部的表面高度的第2高度分布，将该第1高度分布与该第2高度分布结合，制作该基板的高度分布；控制部，基于根据上述基板的高度分布计算出的描绘位置的表面高度，调整上述带电粒子束的焦点位置。
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公开(公告)号：CN109698106A
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201811220010.0
申请日：2018-10-19
申请人： 纽富来科技股份有限公司
发明人： 中山贵仁
摘要： 本发明涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。具备：描绘部，对载置于工作台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案；标记基板，设置在工作台上，形成有标记；照射位置检测器，通过带电粒子束对标记的照射检测标记表面上的带电粒子束的照射位置；高度检测器，通过激光的照射及反射光的接受检测基板表面的高度及标记基板表面的高度；漂移校正部，根据检测出的照射位置计算标记表面上的带电粒子束的漂移量，据此计算漂移校正量；描绘控制部，使用漂移校正量校正带电粒子束的照射位置，标记基板具有形成多个标记的图案区域和未形成图案的非图案区域，非图案区域的至少一部分配置在图案区域间，高度检测器检测非图案区域内的检测点的高度。
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公开(公告)号：CN109696805A
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201811213408.1
申请日：2018-10-18
申请人： 纽富来科技股份有限公司
发明人： 中山贵仁
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。本发明某形态的带电粒子束描绘装置具备：描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束而描绘图案；标记，设置于所述平台；高度检测器，检测所述标记的表面高度；焦点调整部，使所述带电粒子束合焦于所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度；照射位置检测器，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；漂移修正部，从基于所述照射位置检测器检测出的所述照射位置计算所述标记表面的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量生成修正所述基板的表面上的漂移导致的照射位置偏移的修正信息；描绘控制部，用所述修正信息修正所述带电粒子束的照射位置。
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