-
公开(公告)号：CN111952218B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202010406079.3
申请日：2020-05-14
申请人： 细美事有限公司 , 首尔大学校产学协力团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明涉及基板处理方法和基板处理装置。提供了一种用于处理基板的方法。所述方法包括，在所述基板旋转的情况下，将第一处理液供应至所述基板的处理目标表面；和随后，在处于蒸汽状态的蒸发抑制剂存在于供应至所述基板的所述第一处理液的周围的情况下，将具有比所述第一处理液的表面张力低的表面张力的第二处理液供应至所述基板，使得所述基板上的所述第一处理液被所述第二处理液替代。因此，可以在施用到基板的清洁液周围形成蒸汽气氛。因此，可以在清洁液被有机溶剂替代的过程中，防止液膜破坏现象。
-
公开(公告)号：CN111952218A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010406079.3
申请日：2020-05-14
申请人： 细美事有限公司 , 首尔大学校产学协力团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明涉及基板处理方法和基板处理装置。提供了一种用于处理基板的方法。所述方法包括，在所述基板旋转的情况下，将第一处理液供应至所述基板的处理目标表面；和随后，在处于蒸汽状态的蒸发抑制剂存在于供应至所述基板的所述第一处理液的周围的情况下，将具有比所述第一处理液的表面张力低的表面张力的第二处理液供应至所述基板，使得所述基板上的所述第一处理液被所述第二处理液替代。因此，可以在施用到基板的清洁液周围形成蒸汽气氛。因此，可以在清洁液被有机溶剂替代的过程中，防止液膜破坏现象。
-
-
公开(公告)号：CN107342249A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710302224.1
申请日：2017-05-02
申请人： 细美事有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，所述壳体在其中具有处理空间;旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；以及化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，且其中所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于接收化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。
-
-
-
公开(公告)号：CN116264177A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211598517.6
申请日：2022-12-12
申请人： 细美事有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 提供一种用于供应化学液体的装置，该装置包括：储罐，在所述储罐中储存化学液体；排放管线，储存在所述储罐中的所述化学液体通过所述排放管线排放；液位管，所述液位管连接至所述储罐从而检查所述储罐中的所述化学液体的水位，并以与所述储罐中的所述化学液体的水位相同的水位接收所述化学液体；和控制器，所述控制器用于控制安装在所述排放管线中的第一阀，其中所述液位管的一端与所述储罐的上部空间连接，而另一端与所述排放管线连接。
-
公开(公告)号：CN112133645A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN202010591142.5
申请日：2020-06-24
申请人： 细美事有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 提供一种供应液体用单元、具有该单元的处理基板用设备及方法。用于处理基板的设备包括：处理容器，其具有处于所述处理容器内部的处理空间；基板支撑单元，其用于在所述处理空间中支撑基板；以及液体供应单元，其用于将处理液体供应至由所述基板支撑单元支撑的所述基板。所述液体供应单元包括：喷嘴；供应管线，其用于将所述处理液体供应至所述喷嘴且在所述供应管线中安装有第一阀；以及排出管线，其自作为所述供应管线中所述第一阀下游的点的分支点分支，以自所述供应管线排出所述处理液体，且在所述排出管线中安装有第二阀。在所述供应管线中，在所述分支点与所述喷嘴之间的区域中没有阀。
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
25 条记录 (耗时 0.041 秒)
