公开(公告)号：CN103787923A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201310513127.9

申请日：2013-10-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿卡达 ,  C-B·徐 ,  刘骢 ,  李明琦 ,  山田晋太郎

IPC: C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

Abstract: 本发明涉及光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物，包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法。本发明涉及一种式(I)的化合物：其中，a、x、X1、Y、Ar、R1和Z-如本文所定义。所述光致生酸剂化合物可用作光致抗蚀剂组合物的组分，其进而可用于制造制品的光刻方法。

公开(公告)号：CN108586304A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201810678536.7

申请日：2013-10-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿卡达 ,  C-B·徐 ,  刘骢 ,  李明琦 ,  山田晋太郎

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C303/32 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物，包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法。本发明涉及一种式(I)的化合物：其中，a、x、X1、Y、Ar、R1和Z-如本文所定义。所述光致生酸剂化合物可用作光致抗蚀剂组合物的组分，其进而可用于制造制品的光刻方法。