公开(公告)号：CN107541757A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710490959.1

申请日：2017-06-23

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： R·波克雷尔 ,  M·托尔塞斯 ,  J·伯恩斯 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

Abstract: 电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有吡唑化合物和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴液以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。所述特征包括柱、接合垫和线空间特征。

公开(公告)号：CN107541757B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201710490959.1

申请日：2017-06-23

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： R·波克雷尔 ,  M·托尔塞斯 ,  J·伯恩斯 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

Abstract: 电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有吡唑化合物和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴液以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。所述特征包括柱、接合垫和线空间特征。