公开(公告)号：CN107087354A

公开(公告)日：2017-08-22

申请号：CN201710067127.9

申请日：2017-02-06

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： N·嘉雅拉朱 ,  L·巴斯塔德 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: H05K3/42

CPC classification number: C25D21/12 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/38 ,  C23C28/023 ,  C25D3/38 ,  C25D5/18 ,  C25D5/56 ,  C25D7/00 ,  C25D7/123 ,  H05K3/423 ,  H05K2203/072 ,  H05K3/424 ,  H05K2203/0723

Abstract: 直流电镀覆方法抑制空隙形成，减少凹陷并且消除节结。所述方法涉及在高电流密度下电镀铜，接着暂停电镀，并且随后打开电流以在较低电流密度下电镀以填充通孔。

公开(公告)号：CN107541757B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201710490959.1

申请日：2017-06-23

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： R·波克雷尔 ,  M·托尔塞斯 ,  J·伯恩斯 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

Abstract: 电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有吡唑化合物和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴液以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。所述特征包括柱、接合垫和线空间特征。

公开(公告)号：CN107236975A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201710188677.6

申请日：2017-03-27

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： M·托尔塞斯 ,  R·阿兹布鲁克 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

CPC classification number: C25D5/022 ,  C25D3/38 ,  C25D7/00 ,  C25D7/123

Abstract: 本发明提供允许在高电流密度下镀覆具有基本上均匀的形态和减少的节结产生的经光致抗蚀剂限定的大型特征的铜电镀浴和方法。所述铜电镀浴包括提供具有良好TIR％和WID％平衡的大型特征的杂环含氮共聚物的混合物。

公开(公告)号：CN107236975B

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201710188677.6

申请日：2017-03-27

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： M·托尔塞斯 ,  R·阿兹布鲁克 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

CPC classification number: C25D5/022 ,  C25D3/38 ,  C25D7/00 ,  C25D7/123

Abstract: 本发明提供允许在高电流密度下镀覆具有基本上均匀的形态和减少的节结产生的经光致抗蚀剂限定的大型特征的铜电镀浴和方法。所述铜电镀浴包括提供具有良好TIR％和WID％平衡的大型特征的杂环含氮共聚物的混合物。

公开(公告)号：CN107541757A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710490959.1

申请日：2017-06-23

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： R·波克雷尔 ,  M·托尔塞斯 ,  J·伯恩斯 ,  M·斯卡利西 ,  Z·尼亚兹伊别特娃 ,  J·狄茨维斯泽柯

IPC: C25D3/38

Abstract: 电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有吡唑化合物和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴液以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。所述特征包括柱、接合垫和线空间特征。