化学机械抛光垫和抛光方法

    公开(公告)号:CN114770368A

    公开(公告)日:2022-07-22

    申请号:CN202210053484.0

    申请日:2022-01-18

    Abstract: 公开了由包含以下项的反应混合物的聚氨酯反应产物制成的CMP抛光垫或层:(i)液体芳族异氰酸酯组分,其包含一种或多种芳族二异氰酸酯或线型芳族异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物,和(ii)液体多元醇组分,其包含a)一种或多种聚合物多元醇,b)基于该液体多元醇组分的总重量,12至40wt.%的具有2至9个碳原子的一种或多种小链双官能多元醇、液体芳族二胺的固化剂混合物,其中该液体多元醇、小链双官能多元醇和液体芳族二胺中羟基和氨基部分的总摩尔数与该芳族二异氰酸酯或线型芳族异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物中异氰酸酯的摩尔数的摩尔比是1.0:1.0至1.15:1.0。该抛光层能够在通过表面调节盘处理时形成如通过由ISO 25178标准定义的参数Sdr测量的0至0.4的总纹理深度。还公开了一种使用该抛光垫连同二氧化铈磨料浆料的化学机械抛光方法。

    用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫

    公开(公告)号:CN108115554B

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN201711224404.9

    申请日:2017-11-29

    Abstract: 提供一种用于制造供抛光半导体衬底的化学机械抛光垫的双组分组合物,所述组合物包含:未反应的异氰酸酯(NCO)浓度为按所述芳族异氰酸酯组分总固体重量计15到40重量%的液体芳族异氰酸酯组分,例如亚甲基二(异氰酸苯酯)(MDI)、具有聚醚主链并且每分子具有5到7个羟基的多元醇的液体多元醇组分和一种或多种多元胺或二胺固化剂,其中所述反应混合物包含按所述反应混合物的总重量计50到65重量%硬链段材料。所述组合物在混合时固化形成聚氨基甲酸酯反应产物。还提供由所述聚氨基甲酸酯反应产物通过将所述组合物喷涂到模具中来制备的CMP抛光垫。

    具有在支撑件上的抛光元件的CMP抛光垫

    公开(公告)号:CN113442055A

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN202110278526.6

    申请日:2021-03-12

    Abstract: 一种用于化学机械抛光的抛光垫可以包括具有顶表面和表面的基部垫;多个抛光元件,每个抛光元件具有顶部抛光表面和底表面,并且其中,所述多个抛光元件中的每个抛光元件通过三个或更多个支撑件连接至所述基部垫的顶表面到所述抛光元件,其中,所述抛光元件的底表面、所述基部垫的顶表面、以及所述支撑件限定了包括至少一个空隙的区域,并且在所述三个或更多个支撑件之间存在开口。这样的垫可以用于以下方法中:提供基材并且用该垫、可选地用抛光介质来对基材抛光。

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