公开(公告)号：CN106233418B

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201580021611.7

申请日：2015-04-29

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 卡森·高全·任 ,  威廉·宾茨

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317

Abstract: 提供了一种离子注入系统和方法，用于在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述系统具有被配置为形成离子束的离子源和被配置为对离子束进行质量分析的质量分析器。离子束扫描器被配置为沿第一方向对离子束进行扫描，从而限定被扫描的离子束。工件支撑件被配置为在其上支撑工件，并且角度注入装置被配置为改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述角度注入装置包括角能量过滤器和可操作地耦接到工件支撑件的机械装置中的一个或多个，其中控制器控制所述角度注入装置，从而在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。

公开(公告)号：CN115053321B

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202180012915.2

申请日：2021-02-08

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 卡森·任 ,  舒·佐藤 ,  吉尼斯·博纳克斯 ,  威廉·宾茨

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/05

Abstract: 一种用于将高电荷态离子注入到工件中同时减轻痕量金属污染的方法包括从离子源中的所需物质产生处于第一电荷状态的所需离子，以及在第一离子束中产生污染物质的痕量金属离子。所需离子和痕量金属离子的荷质比相等。从离子源中提取所需离子和痕量金属离子。从所需离子中剥离至少一个电子以限定处于第二电荷状态的所需离子和痕量金属离子的第二离子束。仅来自第二离子束的所需离子选择性地仅穿过电荷选择器以限定处于第二电荷状态的所需离子的最终离子束并且没有痕量金属离子，并且将第二电荷状态的所需离子注入到工件中。

公开(公告)号：CN115053321A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202180012915.2

申请日：2021-02-08

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 卡森·任 ,  舒·佐藤 ,  吉尼斯·博纳克斯 ,  威廉·宾茨

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/05

Abstract: 一种用于将高电荷态离子注入到工件中同时减轻痕量金属污染的方法包括从离子源中的所需物质产生处于第一电荷状态的所需离子，以及在第一离子束中产生污染物质的痕量金属离子。所需离子和痕量金属离子的荷质比相等。从离子源中提取所需离子和痕量金属离子。从所需离子中剥离至少一个电子以限定处于第二电荷状态的所需离子和痕量金属离子的第二离子束。仅来自第二离子束的所需离子选择性地仅穿过电荷选择器以限定处于第二电荷状态的所需离子的最终离子束并且没有痕量金属离子，并且将第二电荷状态的所需离子注入到工件中。

公开(公告)号：CN117795636A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280054270.3

申请日：2022-08-05

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 科森·詹 ,  詹姆斯·德卢卡 ,  威廉·宾茨

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/147

Abstract: 一种离子注入系统和方法，可选择性地改变至工件的离子束能量，使其在射束前方依次通过。注入系统具有用于产生离子束的离子源和用于改变离子束能量的加速/减速级，所述加速/减速级基于提供给其的电偏置来改变离子束能量。加速/减速级的正下方设置工件支撑件，以通过选择性变化能量离子束支撑工件，并且可以在射束能量变化期间进行热控制以控制工件温度。当工件位于射束前方时，能量可变化，且控制器可控制电偏置以控制离子束的能量变化，在工件支撑件上将工件单次定位时，可获得多个工艺配方。

公开(公告)号：CN106233418A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580021611.7

申请日：2015-04-29

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 卡森·高全·任 ,  威廉·宾茨

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317

Abstract: 提供了一种离子注入系统和方法，用于在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述系统具有被配置为形成离子束的离子源和被配置为对离子束进行质量分析的质量分析器。离子束扫描器被配置为沿第一方向对离子束进行扫描，从而限定被扫描的离子束。工件支撑件被配置为在其上支撑工件，并且角度注入装置被配置为改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述角度注入装置包括角能量过滤器和可操作地耦接到工件支撑件的机械装置中的一个或多个，其中控制器控制所述角度注入装置，从而在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。