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公开(公告)号：CN117899585B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410158134.X
申请日：2024-02-04
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明属于聚集过滤技术领域，且公开了一种半导体用化学品过滤装置，包括底座，转动环底座的顶部固定安装有外壳，还包括聚尘清洁机构，转动环聚尘清洁机构包括过滤装置，转动环过滤装置固定安装在外壳的内部，转动环过滤装置的右侧固定安装有负压装置，转动环底座的底部固定安装有拆装机构，外壳的顶部固定安装有聚集装置。通过第一电机带动连接杆旋转，使得叶片能够在固定轴和转动环之间旋转打开，旋转力不同，叶片可做到完全封闭或垂直打开，涡形扇旋转对周围的空气进行集聚，当多组叶片之间倾斜角度变化时，纵向收集空间逐渐变少，但横向上的收集空间逐渐变广，解决了传统的过滤装置无法快速的有针对性进行收集，导致收集效果不佳的问题。
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公开(公告)号：CN118142775A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202410320616.0
申请日：2024-03-20
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
IPC分类号： B05B16/20 , B05B13/02 , B05B12/04 , B05B12/14 , H01L21/67 , H01L21/683 , B08B3/02 , B08B13/00
摘要： 本发明属于半导体加工技术领域，且公开了一种适应多种规格晶圆生产用涂布设备，包括支柱和底座，所述底座的顶部开设有排液口，并安装有多组料箱，所述底座的顶部固定安装有两组转移架，所述转移架的正面安装有电机一，所述电机一输出轴的外表面固定安装有凸轮，并活动套接有回转器，所述回转器的两端均固定安装有放置环。本装置通过利用微型气泵产生负压将晶圆吸附起来，随后在电机一带动凸轮回转时，利用被充分压缩的弹簧三产生的回弹力保持密封柱在向上复位移动时，回转器整体不会马上跟着移动，从而可以使被吸附固定的晶圆和下一组待上料的晶圆可以产生一定的距离，有助于针对不同规格的晶圆进行转移和加工。
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公开(公告)号：CN117899585A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410158134.X
申请日：2024-02-04
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明属于聚集过滤技术领域，且公开了一种半导体用化学品过滤装置，包括底座，转动环底座的顶部固定安装有外壳，还包括聚尘清洁机构，转动环聚尘清洁机构包括过滤装置，转动环过滤装置固定安装在外壳的内部，转动环过滤装置的右侧固定安装有负压装置，转动环底座的底部固定安装有拆装机构，外壳的顶部固定安装有聚集装置。通过第一电机带动连接杆旋转，使得叶片能够在固定轴和转动环之间旋转打开，旋转力不同，叶片可做到完全封闭或垂直打开，涡形扇旋转对周围的空气进行集聚，当多组叶片之间倾斜角度变化时，纵向收集空间逐渐变少，但横向上的收集空间逐渐变广，解决了传统的过滤装置无法快速的有针对性进行收集，导致收集效果不佳的问题。
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公开(公告)号：CN117594494A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311630069.8
申请日：2023-11-29
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , F16K11/052 , F16K1/22 , F16K27/02
摘要： 本发明涉及一种半导体制程腔体化学液回收控制装置，包括外壳，外壳下方装有化学液分流机构，化学液分流箱顶部的进液口与外壳内部连通，化学液分流箱内装设有化学液分流板，化学液分流箱外侧安装有化学液分流调整电机，化学液分流板安装于化学液分流调整电机的输出端，并在化学液分流调整电机的带动下转动；化学液分流箱底端左右侧分别设有化学液A回收口和化学液B回收口，化学液分流箱底端中部的抽风口处安装有抽风阀，抽风阀内装设有抽风调整板，抽抽风阀外侧安装有抽风调整电机，抽风调整板安装于抽风调整电机的输出端；本发明可调整化学液分流结构，切换回收位置，从而能够减少因抽气流失的化学液，并通过调整抽风截面积，进而控制排风量。
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公开(公告)号：CN116525493B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310508195.X
申请日：2023-05-08
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种用于半导体晶圆可实现翻转动作的上下摇摆机构，包括晶圆承座、转架组立、机械爪支撑和上下摇摆机构；晶圆承座侧面固定转向导杆支架，晶圆承座侧面设置有旋转轴，并围绕旋转轴相对转架组立旋转；转架组立顶部固定连接于机械爪支撑一端，机械爪支撑另一端连接上下摇摆机构，并在上下摇摆机构的带动下做上下运动，晶圆承座随转架组立上下运动；浸泡槽内底部设有投入式超声波，浸泡槽内顶部设置有轨迹挡板，转向导杆支架末端在轨迹挡板中被约束并按轨迹运动，进而带动晶圆在浸泡槽内部的超声波和药液浸泡作用下进行上下震荡以及翻转；本发明在晶圆清洗期间对半导体晶圆实现更稳定的翻转动作以及进行上下震荡，实现更高的使用可靠性。
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公开(公告)号：CN116344407B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310401524.0
申请日：2023-04-16
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/677
摘要： 本发明属于晶圆干燥技术领域，且公开了包括底座，底座上表面中部的左侧开设有轴槽，底座上表面中部的右侧开设有导向槽，底座前面的左侧固定安装有第一驱动件，第一驱动件输出轴的顶端固定安装有第一主动轮，轴槽的中部活动套接有转座，转座侧面的中部固定安装有与第一主动轮啮合的外齿圈，转座上表面的左侧固定安装有主板，转座上表面的中部开设有气槽，转座上表面的前后两侧对称开设有环形槽。从而解决了现有的晶圆干燥设备夹具与晶圆的接触边缘会残留水分和杂质的问题，同时解决了晶圆加工面的水滴不易脱离的问题，此外也解决了直线喷头两端用于干燥的氮气不与晶圆加工面接触和接触不充分的问题。
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公开(公告)号：CN116525493A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310508195.X
申请日：2023-05-08
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种用于半导体晶圆可实现翻转动作的上下摇摆机构，包括晶圆承座、转架组立、机械爪支撑和上下摇摆机构；晶圆承座侧面固定转向导杆支架，晶圆承座侧面设置有旋转轴，并围绕旋转轴相对转架组立旋转；转架组立顶部固定连接于机械爪支撑一端，机械爪支撑另一端连接上下摇摆机构，并在上下摇摆机构的带动下做上下运动，晶圆承座随转架组立上下运动；浸泡槽内底部设有投入式超声波，浸泡槽内顶部设置有轨迹挡板，转向导杆支架末端在轨迹挡板中被约束并按轨迹运动，进而带动晶圆在浸泡槽内部的超声波和药液浸泡作用下进行上下震荡以及翻转；本发明在晶圆清洗期间对半导体晶圆实现更稳定的翻转动作以及进行上下震荡，实现更高的使用可靠性。
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公开(公告)号：CN116459533A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310370613.3
申请日：2023-04-10
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本申请涉及废液处理技术领域，公开了一种废弃剥离液回收再利用设备，主要由集液体、旋转件和推动板构成，所述换热管的顶端与集液体的底端固定连接，所述集液体的内壁开设有竖槽，且集液体通过竖槽与推动板活动套接，所述集液体的顶端中部与旋转件的一端活动套接，且旋转件的另一端与换热网接触，所述推动板的中心开设有旋转孔，且推动板通过旋转孔与旋转件旋转套接。本发明利用旋转球磁性的交替变化，促使推动板在集液体内往复上下移动，并带动上、下集液件空间改变，实现对储液件的持续补液，并将储液件内的平稳状态的剥离液由排液孔排向换热管的内壁，有效提高剥离液的成膜均匀性，增强废弃剥离液的蒸发回收效果。
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公开(公告)号：CN114146993B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202111412751.0
申请日：2021-11-25
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种LED用单晶硅片清洗设备，包括柜体，柜体的下端设有多个支撑脚，柜体的下端连通设有设置在多个支撑脚之间的排水管一，柜体内侧设有可拆卸的过滤板，柜体的内侧壁连接设有设置在过滤板上方的隔板，隔板上连通设有排水管二，柜体内转动设有对称设置的固定板，两个固定板的内侧壁均设有滑槽，两个滑槽的一端连接设有电动推杆二，两个电动推杆二的输出端均连接设有与滑槽的内壁相抵的滑块，两个滑块之间连接设有夹板一，两个固定板在远离夹板一的内侧壁连接设有夹板二。本发明与现有技术相比的优点在于：清洗的效率更高，固定的更加稳固；通过转动多个单晶硅片，在进行清洗时效果更好便于取出过滤板清洗废渣，便于重复的过滤使用。
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公开(公告)号：CN118253210A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410574179.5
申请日：2024-05-10
申请人： 苏州冠礼科技有限公司
摘要： 本发明属于半导体蚀刻混酸技术领域，且公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统的混合装置，包括混合槽、排酸口和排气口，所述混合槽的内腔活动安装有密封盖，所述混合槽的外周面固定安装有多组冷却管，每组所述冷却管的中部均固定安装有储料管，并分别相互连通；所述储料管内壁的顶部安装有伸缩杆。本装置经过重新设计，从而使混合槽内腔中的水分沸腾，并产生大量蒸汽以及其他有害气体，酸液从水溶液中部进入其中，并产生旋转水流，使混合槽中的混酸容易自动搅拌均匀，利用硫酸与水接触产生热量的特性，改变两者接触的位置、速度和接触面积，使混合物溶液自动高速搅拌，从而达到快速混合均匀的目的。
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