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公开(公告)号：CN102418302B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC分类号： D21H21/48
摘要： 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN105445834A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC分类号： G02B5/1857 , G03F7/2022 , G03F7/2051
摘要： 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
摘要： 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN105374467A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC分类号： H01B13/0026 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01B5/14
摘要： 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号：CN102418302A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC分类号： D21H21/48
摘要： 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN105374467B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号：CN208411256U
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201820837859.1
申请日：2018-05-31
申请人： 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种装饰膜片及电子产品盖体，其特征在于：包括基层及设于所述基层上的光学结构层，所述光学结构层包括复数个单元格，所述单元格包括至少两个区域，所述区域包括复数个像素单元格，每一个所述像素单元格包括间隔平行分布的条形凹槽。本实用新型通过光学结构层的多变凹凸结构，形成不同的光影效果，具有良好的装饰效果，有效提升电子产品的外形美观性。
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公开(公告)号：CN205523154U
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201620124918.1
申请日：2016-02-17
申请人： 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
摘要： 一种隐形水印烫印膜，包括水印图像，组成所述水印图像的像素点为亚波长光栅，水印图像又包括第一水印图像与第二水印图像，将第一水印图像像素点的亚波长光栅的取向角设置为与第二水印图像像素点的亚波长光栅的取向角不同，使得第一水印图像与第二水印图像可分别在不同照明角度范围下可视，有效实现了防伪，同时该隐形水印烫印膜还具有成本低廉、可实施性好、可靠性强、更环保等优点。
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