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公开(公告)号：CN115449752A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202111652218.1
申请日：2021-12-30
申请人： 苏州襄行辉光技术有限公司
摘要： 一种高硅钢材料的制备方法，步骤包括靶材、金属基材表面清理；排除密闭容器内空气、通保护气；双辉光等离子预轰击靶材和基材，净化表面；等离子溅射、加热、保温；缓慢冷却取出。预轰击靶材、基材，去除表面吸附层、活化基材，交替升高基材电压、靶材电压，使靶材中的合金元素被离子轰击而溅射出来、扩散进入基材内部形成表面高硅钢层。“双辉光等离子表面冶金技术”制备高硅钢的工艺简单易行、可控性高、成本低、无污染且基体和表面的结合力高，适合大规模产业化生产；更重要的是该方法采用交替离子轰击、扩渗速度快，结合强度高，得到硅含量均匀分布或呈梯度分布的高硅钢材料，为制备更高品质的无噪音、低铁损的高硅钢产业化奠定基础。
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公开(公告)号：CN115584474A
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN202210247603.6
申请日：2022-03-14
申请人： 苏州襄行辉光技术有限公司
摘要： 本发明涉及的一种多辉光等离子表面智能冶金设备，包括水冷系统、进气系统、控制系统、电极系统和真空系统，水冷系统、进气系统、电极系统和真空系统分别与控制系统信号连接；水冷系统包括循环水泵和冷却水管，冷却水管与真空炉的腔体连接，电极系统包括供电单元和电极结构，供电单元与控制系统信号连接；电极结构包括2根源极杆和1根阴极杆，2根源极杆均连接有靶材，工件连接阴极杆。本发明的有益效果是：工件处于阴极，电压小，电流高，一方面阴极电压在工件表面处产生的等离子体可以净化、轰击工件，结合高电流提供的加热效果，提升所渗元素的扩散效果；另一方面低电压确保离子在电场作用下渗入并沉积在工件表面。
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公开(公告)号：CN116288201A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310163390.3
申请日：2023-02-24
申请人： 苏州襄行辉光技术有限公司
摘要： 本发明是通过如下的技术方案来实现：一种铁碳合金靶材及其薄膜制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、铁碳合金靶制备：S1.1、用无水乙醇擦拭过的高纯石墨靶材(99.96％)，放入双层辉光等离子溅射炉体内的阴极载物台上，样品上方的铁基合金板为源极靶材，样品与靶材之间的间距为工件的极间距；S1.2、打开双层辉光等离子溅射成膜设备以，使用机械泵将镀膜炉体气压抽至2‑5Pa；S1.3、充入氩气到30‑35Pa，打开阴极工件电源并施加300‑400V电压。本发明优点在于，石墨靶材经过双层辉光等离子与磁控复合溅射后，表层铁碳元素相互扩散紧密集合，再在磁控溅射作用下同时产生溅射效应，增强了体系的辉光放电成膜效率，溅射出的铁碳元素形成质量较好。
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公开(公告)号：CN219449848U
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202220546972.0
申请日：2022-03-14
申请人： 苏州襄行辉光技术有限公司
摘要： 本实用新型涉及的一种多辉光等离子表面智能冶金设备，包括水冷系统、进气系统、控制系统、电极系统和真空系统，水冷系统、进气系统、电极系统和真空系统分别与控制系统信号连接；水冷系统包括循环水泵和冷却水管，冷却水管与真空炉的腔体连接，电极系统包括供电单元和电极结构，供电单元与控制系统信号连接；电极结构包括2根源极杆和1根阴极杆，2根源极杆均连接有靶材，工件连接阴极杆。本实用新型的有益效果是：工件处于阴极，电压小，电流高，一方面阴极电压在工件表面处产生的等离子体可以净化、轰击工件，结合高电流提供的加热效果，提升所渗元素的扩散效果；另一方面低电压确保离子在电场作用下渗入并沉积在工件表面。
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公开(公告)号：CN218183581U
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202221891685.X
申请日：2022-07-22
申请人： 苏州襄行辉光技术有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种针对等离子设备的电极保护机构，包括炉内电极杆、铜电极、炉底电极管、炉底电极管法兰、电极法兰、电极固定套、电极二段固定套和金属保护套，电极固定套插入到电极法兰底部，完全贴合，又填满炉底电极管起到隔绝及与支撑作用，电极二段固定套为金属保护套起到定位固定作用，且方便维护，通电以后炉内电极杆会产生辉光放电，金属保护套内的间隙保护就会起到辉光的隔绝作用，保护了电极机构及设备受到辉光的影响，本实用新型解决了真空离子镀膜电极存在的弧光放电现象，极大的提高了工作效率及设备寿命。
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