N型太阳能电池选择性背场的制备工艺测试方法

    公开(公告)号:CN103456842B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201310418670.0

    申请日:2013-09-13

    IPC分类号: H01L31/18 H01L21/66

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明提供了一种N型太阳能电池选择性背场的制备工艺测试方法。该测试方法包括:步骤S1:测试用于制备选择性背场的基底的第一方块电阻;步骤S2:在基底的背面进行印刷腐蚀浆料、烘干以及清洗的工艺,得到选择性背场,并测试选择性背场的第二方块电阻;步骤S3:判断第二方块电阻的电阻值是否达到目标值,如果未达到目标值,更换新的基底并重复步骤S1,在步骤S1之后,调节腐蚀浆料的重量和/或烘干的温度,并进行步骤S2;如果达到目标值,步骤S2中的工艺确定为N型太阳能电池选择性背场的制备工艺。本发明的测试方法确定的N型太阳能电池选择性背场的制备工艺可以投入大规模的生产和使用。

    局部掺杂背纯化晶体硅太阳能电池及其制作方法

    公开(公告)号:CN103606597A

    公开(公告)日:2014-02-26

    申请号:CN201310611347.5

    申请日:2013-11-26

    IPC分类号: H01L31/18 C23C14/48 C23C14/18

    CPC分类号: Y02P70/521 H01L31/1804

    摘要: 本发明公开了一种局部掺杂背纯化晶体硅太阳能电池及其制作方法。包括以下步骤:S1、对硅片表面清洁制绒,并在制绒后的硅片的背面镀钝化层;S2、在钝化层上设置硼扩散槽区,并利用离子注入法在硼扩散槽区内进行硼源掺杂;S3、在硅片正面依次形成p-n结和减反射膜;S4、印刷正电极和背电极并烧结,得到局部掺杂背纯化晶体硅太阳能电池。通过制作钝化膜代替现有技术中的掩膜层,省去了制作、去除掩膜层的步骤,同时结合离子注入法在钝化膜上的槽区内掺杂硼形成局部背场。通过在硼掺杂后制作p-n结的同时完成了离子注入法的退火步骤,省去了离子注入法后还需单独退火的步骤,在不降低电池性能的同时简化了局部掺杂背钝化的工艺步骤。

    N型太阳能电池选择性背场的制备工艺测试方法

    公开(公告)号:CN103456842A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310418670.0

    申请日:2013-09-13

    IPC分类号: H01L31/18 H01L21/66

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明提供了一种N型太阳能电池选择性背场的制备工艺测试方法。该测试方法包括:步骤S1:测试用于制备选择性背场的基底的第一方块电阻;步骤S2:在基底的背面进行印刷腐蚀浆料、烘干以及清洗的工艺,得到选择性背场,并测试选择性背场的第二方块电阻;步骤S3:判断第二方块电阻的电阻值是否达到目标值,如果未达到目标值,更换新的基底并重复步骤S1,在步骤S1之后,调节腐蚀浆料的重量和/或烘干的温度,并进行步骤S2;如果达到目标值,步骤S2中的工艺确定为N型太阳能电池选择性背场的制备工艺。本发明的测试方法确定的N型太阳能电池选择性背场的制备工艺可以投入大规模的生产和使用。

    晶硅腐蚀浆料的清洗方法、晶硅太阳能电池及其制作方法

    公开(公告)号:CN103433233A

    公开(公告)日:2013-12-11

    申请号:CN201310371345.3

    申请日:2013-08-22

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明提供了一种晶硅腐蚀浆料的清洗方法、晶硅太阳能电池及其制作方法。该清洗方法包括:步骤S1,采用弱碱性溶液对残余腐蚀浆料的硅片进行超声清洗;步骤S2,采用纯水将完成步骤S1的硅片进行清洗。采用弱碱性溶液直接清洗弱酸性的腐蚀浆料,在超声作用的配合下,利用化学反应替代现有技术中的纯物理清洗作用,在较短的时间内即可完成,并且能够将处于边角位置的腐蚀浆料通过化学反应快速去除,不仅保证了清洗效果而且在缩短了清洗时间;同时,由于碱性溶液对硅片的主体没有腐蚀作用,因此不会对硅片已有的结构造成影响,进而不会影响以其制作的太阳能电池的效率,反而会由于清洗较为干净进一步提高了太阳能电池的各项性能。

    MWT太阳能电池片的制备方法

    公开(公告)号:CN103258917A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201310214818.9

    申请日:2013-05-31

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明公开了一种MWT太阳能电池片的制备方法。该MWT太阳能电池片的制备方法包括以下步骤:S1:在基底背面的第一指定区域印刷扩散掩膜浆料;S2:对带有扩散掩膜浆料的基底进行高温扩散,在基底背面的第一指定区域以外的区域形成背场。根据本发明的MWT太阳能电池片的制备方法,电池所需要的背场是直接形成的,无需再采用额外的工艺去除多余背场,从而避免了因去除多余背场对电池片带来的损伤和杂质,与此同时,还能降低企业生产成本。

    背钝化太阳能电池及其制作方法

    公开(公告)号:CN103367540A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310261117.0

    申请日:2013-06-26

    摘要: 本发明提供了一种背钝化太阳能电池的制作方法,在硅片制备完减反射膜后,首先形成具有镂空图案的背面场,再形成背钝化层,之后形成正电极,通过使背面场先于背钝化层形成,减少了激光开槽的步骤,避免了激光开槽对硅片的损伤;背面场为镂空结构,与背钝化层的接触面积减少,减轻了背面场对背钝化层的侵蚀程度,使背钝化层能够很好地发挥钝化作用,减少了电池背面的载流子复合,这些最终均能提高背钝化太阳能电池的转换效率。由于不需要进行激光开槽,所以简化了生产工艺;背面场为镂空结构,减少了制作背面场所需材料的用量,降低了生产成本;镂空结构的背面场能够减少由于硅铝膨胀系数差别导致的应力弯曲,降低了由电池弯曲引起的电池破碎。

    一种P型背钝化太阳能电池及其制作方法

    公开(公告)号:CN103325885A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310208310.8

    申请日:2013-05-29

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明公开了一种P型背钝化太阳能电池及其制作方法,所述方法包括:在电池本体上形成正面减反层和背面钝化层,其中,采用掩膜工艺形成具有预设镂空图案的背面钝化层,所述正面减反层位于所述电池本体的上表面,所述背面钝化层位于所述电池本体的下表面;形成正面电极和背面电极;对正面电极和背面电极进烧结。本申请通过掩膜工艺在电池本体背面形成具有预设镂空图案的钝化层,相对于现有技术,避免了形成钝化层后,对所述钝化层进行刻蚀时对电池本体背面造成损伤,进而避免了在电池本体背面钝化层未覆盖的区域形成载流子复合中心,保证了少数载流子的寿命,从而提高了P型背钝化太阳能电池的转换效率。