一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法

    公开(公告)号:CN109015393A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810898314.6

    申请日:2018-08-08

    摘要: 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域,具体涉及一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法。来克服现有技术存在的抛光效率低,需高精度数控机床控制,以及大面积去除出现波度误差的情况。本抛光装置为轴对称结构,包括管道和中间供液的磨头,磨头下端的抛光面为平面,沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽,环状沟槽分布于抛光面的外圆处;管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液为牛顿流体,在压力的作用下抛光液从磨头中心向四周流动,在磨头的抛光面与工件之间形成液膜将磨头与工件隔离开,磨头漂浮在工件表面上,流体流经抛光区域,在抛光面的凹槽处形成涡流,斜入射到工件表面,对工件表面产生剪切力,实现材料的去除。

    一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法

    公开(公告)号:CN108907906A

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201810907288.9

    申请日:2018-08-08

    IPC分类号: B24B1/00

    摘要: 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域,具体涉及一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法。对光学玻璃实现高效率、高质量和低成本的加工。本发明的技术方案所用装置包括管道、中间供液的磨头和工作台,所述管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液经压力泵将抛光液导入到磨头内部,流经磨头抛光面与工作台上被加工件之间的抛光区域,在抛光区域流体形成的液膜将磨头托起,磨头在液体的作用下达到自平衡状态,流体在抛光区域以一定速度流动,在剪切力作用下流体出现剪切增稠现象,固态粒子将磨粒包裹其中,形成柔性固着磨料,形成类固体形态,对被加工件上的凸峰进行剪切,实现工件表面的去除。