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公开(公告)号：CN109822865B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201910096156.7
申请日：2019-01-31
申请人： 西安工业大学
摘要： 本发明涉及光学元件模压制造领域，具体涉及一种衍射光学元件模压装置。其可用于温度范围为室温至250℃，本装置脱模以及更换模具方便易操作，方便更换不同衍射结构的模具，在传统的热压成型方法基础上增加真空辅助成型功能，在真空腔内对模具和模压原材料进行加热和保温，并对模压原材料加压成型。本发明的技术方案包括机架和位于机架上部的升降机构、位于机架中部的真空腔机构和模压板机构，以及位于机架下部的脱模机构，所述的模压板机构设置于真空腔机构的真空腔内；升降机构带动模压板机构中的模压板上下运动，完成装置的合模热压印，脱模机构设置于机架的底部的导轨上，实现滑出脱模。
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公开(公告)号：CN110487187A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910784782.5
申请日：2019-08-23
申请人： 西安工业大学
摘要： 本发明涉及光纤传感测距技术领域，具体涉及一种适用范围广的光纤测距装置。本发明提供的技术方案是：一种适用范围广的光纤测距装置，由第一激光器，第二激光器、第一聚光准直透镜，成像透镜，第二聚光准直透镜、第一发送光纤,第二发送光纤、第一接收光纤,第二接收光纤、分光镜、第二光电接收器，第一光电接收器组成，成像透镜将第一发送光纤和第二发送光纤的端面成像在被测物体前。两个像间距为d，经过光电转换，微弱信号放大，滤波等处理得到所测距离值。本发明可实现对任意反射面进行测量的目的，不需要提前标定，测量结果准确性、系统的稳定性和灵敏度高，同时可以改变测量距离的量程和分辨率。
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公开(公告)号：CN109514384A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811317107.3
申请日：2018-11-07
申请人： 西安工业大学
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005 , B24B41/04
摘要： 本发明提出一种非球面光学元件的抛光方法和装置，可大大降低设备的精度要求，易于实现，加工效率可以得到大幅提高。本发明抛光方法采用柱状抛光头进行高速旋转抛光，所述抛光头的轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，高速旋转过程中，抛光头轮廓线与被加工非球面光学元件过顶点的轮廓线为线接触方式，其装置包括抛光头、用于旋转抛光头的旋转组件和用于固定工件的固定器；所述的抛光头为中心设置有通孔的柱状体，其圆周面上的外轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，抛光头的圆周面上粘接有研磨抛光材料；抛光头通过旋转组件使其旋转，工件通过固定器固定，工件和抛光头的圆周面外轮廓接触。
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公开(公告)号：CN109015393A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810898314.6
申请日：2018-08-08
申请人： 西安工业大学
摘要： 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法。来克服现有技术存在的抛光效率低，需高精度数控机床控制，以及大面积去除出现波度误差的情况。本抛光装置为轴对称结构，包括管道和中间供液的磨头，磨头下端的抛光面为平面，沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽，环状沟槽分布于抛光面的外圆处；管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液为牛顿流体，在压力的作用下抛光液从磨头中心向四周流动，在磨头的抛光面与工件之间形成液膜将磨头与工件隔离开，磨头漂浮在工件表面上，流体流经抛光区域，在抛光面的凹槽处形成涡流，斜入射到工件表面，对工件表面产生剪切力，实现材料的去除。
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公开(公告)号：CN108907906A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810907288.9
申请日：2018-08-08
申请人： 西安工业大学
IPC分类号： B24B1/00
摘要： 本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法。对光学玻璃实现高效率、高质量和低成本的加工。本发明的技术方案所用装置包括管道、中间供液的磨头和工作台，所述管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液经压力泵将抛光液导入到磨头内部，流经磨头抛光面与工作台上被加工件之间的抛光区域，在抛光区域流体形成的液膜将磨头托起，磨头在液体的作用下达到自平衡状态，流体在抛光区域以一定速度流动，在剪切力作用下流体出现剪切增稠现象，固态粒子将磨粒包裹其中，形成柔性固着磨料，形成类固体形态，对被加工件上的凸峰进行剪切，实现工件表面的去除。
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公开(公告)号：CN107473570A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710685054.X
申请日：2017-08-11
申请人： 西安工业大学
IPC分类号： C03B19/12
CPC分类号： C03B19/12
摘要： 本发明公开了一种溶胶制备光学元件的装置及其制备方法，该装置包括溶胶准备装置、溶胶混合仓、溶胶搅拌器、高压气体发生器、激光照射装置、基片载台和计算机控制系统；原料准备装置与原料混合仓连通，原料搅拌器设置于原料混合仓中以进一步搅拌混合后的溶胶原料，高压气体发生器将混合后的溶胶原料通过其末端设置的喷嘴喷射至基片载台上方设置的基片上，基片上方正对设置激光照射装置。本发明的方法直接由溶胶制备光学元件，根据光学元件的不同种类完成溶胶原料配液混合、基片表面溶胶层覆膜和溶胶层激光烧结，进而完成元件制备。通过这种装置和方法制备的光学元件的形状大小可控，极大的节约了光学元件的制备时间、提高了光学元件的质量和精度。
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公开(公告)号：CN102896855B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201210342168.1
申请日：2012-09-17
申请人： 西安工业大学
摘要： 本发明涉及一种玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法。本发明提供的一种玻璃微珠型防伪薄膜，由下至上依次包括基材、粘结层、一侧镀有介质分光膜的玻璃微珠层和保护层。提供的两种制备方法：一是先对柔性基底上的玻璃微珠制作出图文信息；再在玻璃微珠露出一侧沉积分光膜；然后将玻璃微珠转移到基材上，在露出的玻璃微珠的表面上喷保护层。二是先在柔性基底上玻璃微珠一侧沉积分光膜；再对基材上的粘结层进行图文化处理后将玻璃微珠的镀膜面镶嵌到图文化后的粘结层中，在玻璃微珠上喷保护层。本发明透明、技术壁垒高、防伪力度大，光角变色明显，易于识别，既可广泛应用于各类商品标识、证件，也可用于柔性基材的防伪，如各类服装等。
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公开(公告)号：CN102896855A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210342168.1
申请日：2012-09-17
申请人： 西安工业大学
摘要： 本发明涉及一种玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法。本发明提供的一种玻璃微珠型防伪薄膜，由下至上依次包括基材、粘结层、一侧镀有介质分光膜的玻璃微珠层和保护层。提供的两种制备方法：一是先对柔性基底上的玻璃微珠制作出图文信息；再在玻璃微珠露出一侧沉积分光膜；然后将玻璃微珠转移到基材上，在露出的玻璃微珠的表面上喷保护层。二是先在柔性基底上玻璃微珠一侧沉积分光膜；再对基材上的粘结层进行图文化处理后将玻璃微珠的镀膜面镶嵌到图文化后的粘结层中，在玻璃微珠上喷保护层。本发明透明、技术壁垒高、防伪力度大，光角变色明显，易于识别，既可广泛应用于各类商品标识、证件，也可用于柔性基材的防伪，如各类服装等。
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公开(公告)号：CN102765029A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201210279461.8
申请日：2012-08-08
申请人： 西安工业大学
IPC分类号： B24B13/00
摘要： 本发明涉及光学精密制造技术领域，具体涉及一种任意曲率半径光学零件的加工方法及其设备。本发明的目的是提供一种任意曲率半径光学零件的加工方法及其设备，即可高质量且迅速地加工任意曲率半径的球面光学零件的加工方法。为达到上述目的，本发明提供的技术方案是：一种任意曲率半径光学零件的加工方法，是通过改变主轴装置与摆轴装置在空间的相交点的位置，实现不同曲率半径的球面光学零件的加工。本发明加工效率高，易于操作和控制。
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公开(公告)号：CN100590221C
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200810018369.X
申请日：2008-06-03
申请人： 西安工业大学
IPC分类号： C23C14/24 , H01L21/3065 , C23F4/00 , H01J37/08
摘要： 本发明涉及一种能输出单一离子能量的离子束发射源，以克服现有技术存在的引出离子并非具有单一能量，对薄膜质量影响较大，难以实现离子束辅助的重复性的问题。其技术方案是：包括气体放电室、聚焦磁场产生单元、离子能量选择器和扩束磁场产生单元，气体放电室中包括阳极、阴极和引出栅极板；所述离子能量选择器包括相对设置的上磁极板、下磁极板以及相对设置的第一电极板和第二电极板构成的选择筒，上磁极板、第一电极板、下磁极板和第二电极板之间夹设有极板绝缘件，选择筒两端的入口盖板和出口盖板中部均设置有能带限制通孔。与现有技术相比，本发明的优点是：1、能够产生、引出单一能量的离子；2、离子能量可调；3、制造工艺简单。
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