电子射束光刻系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106933063B

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201710159862.2

    申请日:2013-03-20

    Abstract: 一种电子射束光刻系统,包括:子束发生器,用于生成多个电子子束;子束操纵器,其包括孔径阵列,用于操纵所述多个电子子束;对准框架,其被布置成支撑所述子束操纵器;被布置成支撑所述对准框架的框架;用于产生等离子体的等离子体发生器,其中所述等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室,其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基,并且其中所述等离子体发生器的室被集成到所述对准框架中。

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