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公开(公告)号：CN102735170B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210091620.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，包括OCOC、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二镜子发射三个参考束，并且向着第一镜子发射三个测量束，以便确定所述第一镜子和第二镜子之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块和方法。
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公开(公告)号：CN102735163B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201210091968.0
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN103582848B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201280027158.7
申请日：2012-04-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076
摘要： 在使用有部分反射位置标记的基底的光刻系统中的位置确定。本发明涉及光刻系统中使用的基底，所述基底配有至少部分地反射的位置标记，该位置标记包括结构的阵列，该阵列沿该标记的纵向方向延伸，其特征在于，所述结构被布置成沿该纵向方向改变标记的反射系数，其中所述反射系数对预定波长被确定。在一实施例中，镜面反射系数沿基底变化，其中高阶衍射实质上被该基底吸收。射束在基底上的位置因而能够根据基底中它的反射的强度被确定。本发明还涉及定位装置和与基底合作的光刻系统，以及该基底的制造方法。
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公开(公告)号：CN107036528A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710222191.X
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN103582848A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201280027158.7
申请日：2012-04-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076
摘要： 在使用有部分反射位置标记的基底的光刻系统中的位置确定。本发明涉及光刻系统中使用的基底，所述基底配有至少部分地反射的位置标记，该位置标记包括结构的阵列，该阵列沿该标记的纵向方向延伸，其特征在于，所述结构被布置成沿该纵向方向改变标记的反射系数，其中所述反射系数对预定波长被确定。在一实施例中，镜面反射系数沿基底变化，其中高阶衍射实质上被该基底吸收。射束在基底上的位置因而能够根据基底中它的反射的强度被确定。本发明还涉及定位装置和与基底合作的光刻系统，以及该基底的制造方法。
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公开(公告)号：CN102735170A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210091620.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，包括OCOC、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二镜子发射三个参考束，并且向着第一镜子发射三个测量束，以便确定所述第一镜子和第二镜子之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块和方法。
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公开(公告)号：CN102735163A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210091968.0
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN202793315U
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201220131498.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本实用新型涉及一种光刻系统，包括光筒、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二反射镜发射三个参考射束，并且向着第一反射镜发射三个测量射束，以便确定所述第一反射镜和第二反射镜之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本实用新型还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块。
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公开(公告)号：CN202793314U
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201220131434.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B9/02007 , G01B9/02015 , G03F7/70833 , G03F7/7085 , H01J2237/30438
摘要： 本实用新型涉及一种干涉仪模块。该干涉仪模块包括将所述测量光束和所述参考光束的反射光组合成组合光束的光束组合器；将所述组合光束分成第一分光束和第二分光束的非偏振分束器；将所述第一分束器分成具有第一偏振的第一偏振光束和具有第二偏振的第二偏振光束的第一偏振分束器；将所述第二分光束分成具有第三偏振的第三偏振光束和具有第四偏振的第四偏振光束的第二偏振分束器；分别检测所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的光束能量的第一、第二、第三和第四检测器。本实用新型所解决的技术问题之一是如何测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向。使用本实用新型的一个实施例的干涉仪模块，可以确定测量反射镜相对于参考反射镜的位移。
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