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公开(公告)号：CN102735163B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201210091968.0
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN102735170B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210091620.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，包括OCOC、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二镜子发射三个参考束，并且向着第一镜子发射三个测量束，以便确定所述第一镜子和第二镜子之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块和方法。
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公开(公告)号：CN103582848B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201280027158.7
申请日：2012-04-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076
摘要： 在使用有部分反射位置标记的基底的光刻系统中的位置确定。本发明涉及光刻系统中使用的基底，所述基底配有至少部分地反射的位置标记，该位置标记包括结构的阵列，该阵列沿该标记的纵向方向延伸，其特征在于，所述结构被布置成沿该纵向方向改变标记的反射系数，其中所述反射系数对预定波长被确定。在一实施例中，镜面反射系数沿基底变化，其中高阶衍射实质上被该基底吸收。射束在基底上的位置因而能够根据基底中它的反射的强度被确定。本发明还涉及定位装置和与基底合作的光刻系统，以及该基底的制造方法。
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公开(公告)号：CN107036528A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710222191.X
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN103582848A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201280027158.7
申请日：2012-04-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076
摘要： 在使用有部分反射位置标记的基底的光刻系统中的位置确定。本发明涉及光刻系统中使用的基底，所述基底配有至少部分地反射的位置标记，该位置标记包括结构的阵列，该阵列沿该标记的纵向方向延伸，其特征在于，所述结构被布置成沿该纵向方向改变标记的反射系数，其中所述反射系数对预定波长被确定。在一实施例中，镜面反射系数沿基底变化，其中高阶衍射实质上被该基底吸收。射束在基底上的位置因而能够根据基底中它的反射的强度被确定。本发明还涉及定位装置和与基底合作的光刻系统，以及该基底的制造方法。
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公开(公告)号：CN102735170A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210091620.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，包括OCOC、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二镜子发射三个参考束，并且向着第一镜子发射三个测量束，以便确定所述第一镜子和第二镜子之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块和方法。
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公开(公告)号：CN102735163A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210091968.0
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种适用于测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向的差分干涉仪模块。在实施例中，差分干涉仪模块适用于将三种参考光束向着第一反射镜发射并将三种测量光束向着第二反射镜发射，以便确定所述第一反射镜和所述第二反射镜之间的位移。在优选实施例中，该同一模块也适用于测量绕两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这样的位移和旋转的方法。
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公开(公告)号：CN106462084B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201580033308.9
申请日：2015-05-01
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/16 , H01J37/317 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： B25J11/00 , G03F7/7075 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F9/7096 , H01J37/16 , H01J37/3177 , H01J2237/024 , H01J2237/166 , H01L21/6719 , H01L21/67225 , H01L21/67775
摘要： 本发明涉及用于封闭目标处理机械的组件(1)。所述组件包括封闭件(2)和传送单元(3)。所述封闭件包括：基板(21)，所述目标处理机械布置在该基板上；侧壁面板(22)，其固定到所述基板；以及顶壁面板(23)，其固定到所述侧壁面板。此外，封闭件包括处于封闭件的侧壁中的进入开口(24)。传送单元包括用于使传送单元相对于基板运动的一个或多个传送元件(31)。传送单元还包括布置成用于关闭进入开口的门面板(32)，其中门面板借助于柔性联接件(33)可动地安装到所述传送单元，该柔性联接件允许门面板相对于传送单元至少沿着朝向和/或远离封闭件的方向运动。
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公开(公告)号：CN106462084A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580033308.9
申请日：2015-05-01
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/16 , H01J37/317 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： B25J11/00 , G03F7/7075 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F9/7096 , H01J37/16 , H01J37/3177 , H01J2237/024 , H01J2237/166 , H01L21/6719 , H01L21/67225 , H01L21/67775
摘要： 本发明涉及用于封闭目标处理机械的组件述封闭件包括：基板(21)，所述目标处理机械布置在该基板上；侧壁面板(22)，其固定到所述基板；以及顶壁面板(23)，其固定到所述侧壁面板。此外，封闭件包括处于封闭件的侧壁中的进入开口(24)。传送单元包括用于使传送单元相对于基板运动的一个或多个传送元件(31)。传送单元还包括布置成用于关闭进入开口的门面板(32)，其中门面板借助于柔性联接件(33)可动地安装到所述传送单元，该柔性联接件允许门面板相对于传送单元至少沿着朝向和/或远离封闭件的方向运动。(1)。所述组件包括封闭件(2)和传送单元(3)。所
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公开(公告)号：CN202793315U
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201220131498.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本实用新型涉及一种光刻系统，包括光筒、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二反射镜发射三个参考射束，并且向着第一反射镜发射三个测量射束，以便确定所述第一反射镜和第二反射镜之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本实用新型还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块。
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