公开(公告)号：CN1156849A

公开(公告)日：1997-08-13

申请号：CN96121688.3

申请日：1996-11-06

Applicant: 陶氏康宁亚洲株式会社 ,  陶氏康宁东丽西林根株式会社 ,  佳能株式会社

Inventor： 栉引信男 ,  竹内贵久子 ,  小林秀树 ,  正富亨 ,  吉永和夫 ,  桥本雄一 ,  西田俊一郎

IPC: G03G5/047

CPC classification number: G03G5/078 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/18 ,  C08G77/20 ,  C08G77/70 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04 ,  G03G5/0578 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/0616 ,  G03G5/0629 ,  G03G5/0631 ,  G03G5/0633 ,  G03G5/0637 ,  G03G5/0642 ,  C08L2666/44

Abstract: 本发明公开了具有由下式(I)表示的结构的有机硅改性的电荷迁移化合物，其中A表示电荷迁移基，Q表示水解基或羟基，R2表示具有1至15个碳原子的一价烃基或卤代一价烃基，n是1至18，m是1至3，和1是1至5；还公开了包括有机硅改性的电荷迁移化合物和主要由有机硅高聚物组成的固化型树脂的可固化组合物。

公开(公告)号：CN1119371C

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN96121688.3

申请日：1996-11-06

Applicant: 陶氏康宁亚洲株式会社 ,  陶氏康宁东丽西林根株式会社 ,  佳能株式会社

Inventor： 栉引信男 ,  竹内贵久子 ,  小林秀树 ,  正富亨 ,  吉永和夫 ,  桥本雄一 ,  西田俊一郎

IPC: C08K7/18 ,  C08K5/54 ,  C08L83/04

CPC classification number: G03G5/078 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/18 ,  C08G77/20 ,  C08G77/70 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04 ,  G03G5/0578 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/0616 ,  G03G5/0629 ,  G03G5/0631 ,  G03G5/0633 ,  G03G5/0637 ,  G03G5/0642 ,  C08L2666/44

Abstract: 本发明公开了具有由下式(I)表示的结构的有机硅改性的电荷迁移化合物，其中A表示电荷迁移基，Q表示水解基或羟基，R2表示具有1至15个碳原子的一价烃基或卤代一价烃基，n是1至18，m是1至3，和1是1至5；还公开了包括有机硅改性的电荷迁移化合物和主要由有机硅高聚物组成的固化型树脂的可固化组合物。

公开(公告)号：CN1064460C

公开(公告)日：2001-04-11

申请号：CN95120232.4

申请日：1995-12-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉永和夫 ,  酒井清志 ,  永濑幸雄 ,  桥本雄一 ,  田中守

IPC: G03G15/00 ,  G03G21/18

CPC classification number: G03G15/326 ,  G03G15/04054 ,  G03G15/04072 ,  H04N1/29 ,  H04N1/40037

Abstract: 一种成象设备，由电子照相光敏元件包括支持体和放置在支持体上的光敏层，使光敏元件充电的充电装置、用光束照射充电光敏元件的曝光装置、显影装置，以及转印装置构成。曝光装置用光束照射充电光敏元件，光束的光点面积与光敏层厚度的积(S×T)至多为20,000μm3，而有效改进解像力和灰度还原性。光敏元件和选自下列各装置的至少一种装置最好整体安装形成处理盒，该盒可拆卸、装配成成象设备；充电装置、显影装置和清扫装置。

公开(公告)号：CN1131755A

公开(公告)日：1996-09-25

申请号：CN95120232.4

申请日：1995-12-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉永和夫 ,  酒井清志 ,  永濑幸雄 ,  桥本雄一 ,  田中守

IPC: G03G15/00

CPC classification number: G03G15/326 ,  G03G15/04054 ,  G03G15/04072 ,  H04N1/29 ,  H04N1/40037

Abstract: 一种成像设备，由电子照相光敏元件包括支持体和放置在支持体上的光敏层，使光敏元件充电的充电装置、用光束照射充电光敏元件的曝光装置、显影装置，以及转印装置构成。曝光装置用光束照射充电光敏元件，光束的光点面积与光敏层厚度的积(S×T)至多为20,000μm3，而有效改进解像力和灰度还原性。光敏元件和选自下列各装置的至少一种装置最好整体安装形成工艺盒，该盒可拆卸、装配成成像设备：充电装置、显影装置和清扫装置。

公开(公告)号：CN1132360A

公开(公告)日：1996-10-02

申请号：CN95120231.6

申请日：1995-12-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉永和夫 ,  桥本雄一 ,  崎好郎 ,  林靖子

IPC: G03G5/047

CPC classification number: G03G15/75 ,  G03G5/047

Abstract: 静电复制光敏元件通过将包括产生电荷层和传输电荷层的光敏层设置在导电层上制备。传输电荷层厚度至多为12μm且通过将粒径为1-3μm的颗粒以密度1×104-2×105颗粒/mm2分散在其中来形成。上述的传输电荷层和颗粒的折光指数差值至少为0.10。该光敏元件当用作工艺盒和成像设备的结构元件时，能有效地提供无黑斑和光波干涉条纹的图像，具有良好的色调再现性。