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公开(公告)号：CN104360583A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201410758476.1
申请日：2010-09-29
申请人： 首尔大学校产学协力团
CPC分类号： C23C16/52 , G03F7/16 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/7085 , G03F9/00 , H01L21/561
摘要： 本发明公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
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公开(公告)号：CN102668024B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201080043931.X
申请日：2010-09-29
申请人： 首尔大学校产学协力团
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： C23C16/52 , G03F7/16 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/7085 , G03F9/00 , H01L21/561
摘要： 公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
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公开(公告)号：CN104360583B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201410758476.1
申请日：2010-09-29
申请人： 首尔大学校产学协力团
CPC分类号： C23C16/52 , G03F7/16 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/7085 , G03F9/00 , H01L21/561
摘要： 公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
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公开(公告)号：CN102668024A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080043931.X
申请日：2010-09-29
申请人： 首尔大学校产学协力团
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： C23C16/52 , G03F7/16 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70466 , G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/7085 , G03F9/00 , H01L21/561
摘要： 公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。
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