公开(公告)号：CN101904226A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200880122029.X

申请日：2008-12-16

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 理查德·M·让德尔杰克 ,  戴维·L·菲利普斯 ,  米切尔·A·F·约翰逊 ,  彼得·T·本松

IPC分类号： H05F3/06

CPC分类号： H05F3/06

摘要： 本发明公开了一种使用紫外线辐射来改变电介质材料(90)上的电荷的系统(109)。所述系统包括气源(102)和紫外线辐射源(104)。所述气源(102)将气体(103)引入邻近电介质材料(90)的区域。所述紫外线辐射源(104)被布置用于照射所述区域以调整电介质材料上的电荷。本发明还公开了一种改变电介质材料(90)上的电荷的方法，在该方法中气体(103)被引入邻近电介质材料(90)的区域。然后用紫外线辐射(105)照射所述区域以改变电介质材料(90)上的电荷。

公开(公告)号：CN101687217A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880021594.7

申请日：2008-07-10

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 罗伯特·A·亚佩尔 ,  弗朗西斯·M·阿吉雷 ,  约翰·P·巴埃佐尔德 ,  奥莱斯特·小本森 ,  安德鲁·J·亨德森 ,  米切尔·A·F·约翰逊 ,  莱斯利·A·克赖利希 ,  史蒂文·J·麦克曼 ,  戴维·L·菲利普斯 ,  布鲁斯·D·歇尔莱斯

IPC分类号： B05D5/06 ,  B32B27/00 ,  B29C59/04

CPC分类号： B05D5/02 ,  B05C9/12 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/305 ,  B05D1/40 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0263 ,  B05D3/065 ,  B05D3/067 ,  B05D3/068 ,  B05D5/061 ,  B05D2252/02

摘要： 本发明公开了一种用于提供具有无光泽涂饰的膜的系统和方法。所述系统包括：用于提供涂布基底的装置，所述涂布基底包括施用至基底的第一可涂布材料，所述可涂布材料形成所述涂布基底的第一主表面；用于将所述第一可涂布材料的粘度从第一粘度变为第二粘度的装置；具有外表面的正面辊，所述外表面被安置成接触所述涂布基底的第一主表面以在其上赋予无光泽涂饰；和任选地，用于硬化所述第一可涂布材料的装置。本发明的方法包括如下步骤：(1)提供涂布基底，所述涂布基底包括布置在基底上的可涂布材料，所述可涂布材料提供所述涂布基底的第一主表面；(2)将所述可涂布材料的粘度从初始粘度变为第二粘度；(3)使所述涂布基底的第一主表面与至少一个正面辊接触以赋予无光泽涂饰；和(4)任选地，硬化所述可涂布材料以提供所述膜。

公开(公告)号：CN101687217B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN200880021594.7

申请日：2008-07-10

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 罗伯特·A·亚佩尔 ,  弗朗西斯·M·阿吉雷 ,  约翰·P·巴埃佐尔德 ,  奥莱斯特·小本森 ,  安德鲁·J·亨德森 ,  米切尔·A·F·约翰逊 ,  莱斯利·A·克赖利希 ,  史蒂文·J·麦克曼 ,  戴维·L·菲利普斯 ,  布鲁斯·D·歇尔莱斯

IPC分类号： B05D5/06 ,  B32B27/00 ,  B29C59/04

CPC分类号： B05D5/02 ,  B05C9/12 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/305 ,  B05D1/40 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0263 ,  B05D3/065 ,  B05D3/067 ,  B05D3/068 ,  B05D5/061 ,  B05D2252/02

摘要： 本发明公开了一种用于提供具有无光泽涂饰的膜的系统和方法。所述系统包括：用于提供涂布基底的装置，所述涂布基底包括施用至基底的第一可涂布材料，所述可涂布材料形成所述涂布基底的第一主表面；用于将所述第一可涂布材料的粘度从第一粘度变为第二粘度的装置；具有外表面的正面辊，所述外表面被安置成接触所述涂布基底的第一主表面以在其上赋予无光泽涂饰；和任选地，用于硬化所述第一可涂布材料的装置。本发明的方法包括如下步骤：(1)提供涂布基底，所述涂布基底包括布置在基底上的可涂布材料，所述可涂布材料提供所述涂布基底的第一主表面；(2)将所述可涂布材料的粘度从初始粘度变为第二粘度；(3)使所述涂布基底的第一主表面与至少一个正面辊接触以赋予无光泽涂饰；和(4)任选地，硬化所述可涂布材料以提供所述膜。

公开(公告)号：CN101755492A

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200880021410.7

申请日：2008-06-05

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 布赖恩·K·纳尔逊 ,  戴维·L·菲利普斯 ,  唐纳德·J·穆克卢尔 ,  丹尼尔·H·卡尔森 ,  詹姆斯·N·多布斯 ,  斯科特·M·施诺布利希 ,  丹尼尔·J·泰斯

IPC分类号： H05K3/00

CPC分类号： H05K3/0011 ,  H05K1/0313 ,  H05K3/0014 ,  H05K3/1208 ,  H05K3/125 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0165 ,  H05K2203/085 ,  H05K2203/105 ,  H05K2203/1105

摘要： 本发明涉及用于在聚合物基底上制作电子器件的设备及方法，用于在位置方面把聚合物基底约束在台板上，并且把被约束的聚合物基底加热到至少为聚合物基底的玻璃化转变温度。把热处理型油墨涂敷到被约束的聚合物基底上，从而在其上形成电子器件层的至少一部分。