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公开(公告)号:CN105829622B
公开(公告)日:2019-08-06
申请号:CN201480068692.1
申请日:2014-12-16
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 克里斯托弗·S·莱昂斯 , 唐娜·W·班格 , 赛德利克·贝多亚 , 保莱·T·恩根 , 彼得·B·赫格顿 , 约瑟夫·M·皮珀 , 艾米·普雷斯勒普林斯 , 余大华 , 聂其红 , 唐纳德·J·穆克卢尔
CPC分类号: E04B1/80 , B32B37/16 , B32B38/0008 , B32B2607/00 , C23C14/081 , C23C14/10 , C23C14/205 , C23C14/34 , E04B1/803 , E04B1/942 , E04B2001/7679 , E04C2/296 , Y02A30/242 , Y02B80/12
摘要: 本发明提供了一种真空隔热板包层,所述真空隔热板包层具有基材、低热导率有机层和低热导率无机叠层。所述低热导率无机叠层包括低热导率非金属无机材料和/或低热导率金属材料。
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公开(公告)号:CN103270433A
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN201180061547.7
申请日:2011-12-13
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 托德·G·佩特 , 蒂莫西·J·赫布林克 , 罗宾·E·赖特 , 莫塞斯·M·大卫 , 唐纳德·J·穆克卢尔 , 景乃勇 , 马克·A·斯特罗贝尔
IPC分类号: G02B1/11
摘要: 一种透明抗反射结构化膜,其包括具有结构化面的结构化膜基材,其中抗反射结构限定结构化表面。所述结构化面抗光反射,其中所述结构化表面中至少相当大一部分包括玻璃样表面。至少所述抗反射结构包括交联的有机硅弹性体材料,并且所述玻璃样表面包括SiO2化学计量。所述玻璃样表面涂有至少一个二氧化硅纳米颗粒的凝聚物的层的涂层,其中所述凝聚物包括二氧化硅纳米颗粒的三维多孔网,并且所述二氧化硅纳米颗粒粘合到邻近的二氧化硅纳米颗粒。一种光能吸收装置,其包括所述透明抗反射结构化膜,该膜设置在光能源与吸光体的光能接收面之间,同时光能被所述吸光体吸收。
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公开(公告)号:CN101713916A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910225249.1
申请日:2006-12-05
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 乔纳森·A·尼科尔斯 , 杰弗里·H·托奇 , 迈克尔·W·本奇 , 马克·A·斯特罗贝尔 , 乔尔·A·热舍尔 , 唐纳德·J·穆克卢尔
CPC分类号: C23C14/562 , C23C14/042 , H05K1/0393 , H05K3/143 , H05K2203/1545
摘要: 本发明提供了制造孔隙掩模的方法,包括以下步骤:提供支承表面,其中所述支承表面包括多个降低部分;提供喷焰器,其中所述喷焰器支承火焰,并且其中火焰包括与所述喷焰器相对的焰舌;使细长的柔性薄膜幅材的至少一部分顶靠接触所述支承表面;以及用源自喷焰器的火焰加热所述薄膜,以在所述薄膜的覆盖所述多个降低部分的区域中产生孔隙。
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公开(公告)号:CN101137898A
公开(公告)日:2008-03-05
申请号:CN200680007472.3
申请日:2006-01-27
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 马里奥·A·佩雷斯 , 唐纳德·J·穆克卢尔 , 拉伊迪普·S·卡尔古特卡尔
IPC分类号: G01N21/55 , G02B1/04 , B32B27/00 , G01N33/543
CPC分类号: C23C14/20 , B82Y15/00 , G01N21/554 , G01N33/54373 , G01N33/588 , G02B5/008
摘要: 本发明涉及金属纳米颗粒涂层的热塑性薄膜及制备该热塑性薄膜的方法。
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公开(公告)号:CN101263619B
公开(公告)日:2014-11-26
申请号:CN200680033308.X
申请日:2006-08-28
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 苏珊·M·亨德里克斯 , 托马斯·赫特勒 , 马克·K·德贝 , 唐纳德·J·穆克卢尔
CPC分类号: H01M4/8803 , H01M4/8636 , H01M4/8807 , H01M4/881 , H01M4/92 , H01M8/1004 , H01M2008/1095 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372
摘要: 本发明描述了包括用在膜电极组件(MEA)中的催化剂层的部件以及制造上述部件的方法。所述催化剂层在运转期间产生在MEA的活性区域内的更均匀的电流分配。所述催化剂层可以具有较小活性催化剂的均匀催化剂活性分布以在整个MEA活性区域上获得更均匀的电流密度。所述催化剂层可以具有可变的活性分布(例如具有4变化比降的活性分布)以补偿在电化学燃料电池运转期间催化剂利用率的固有非线性。可以例如通过改变从进气口至排气口在MEA内的催化剂载量或通过改变催化剂负载的表面积或通过改变催化剂支撑元件的表面积来实现期望的可变催化剂活性分布。
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公开(公告)号:CN101720347B
公开(公告)日:2013-05-22
申请号:CN200880022193.3
申请日:2008-05-30
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 韦恩·S·马奥尼 , 温迪·L·汤普森 , 唐纳德·J·穆克卢尔 , 马修·S·斯泰 , 哈桑·萨霍阿尼
IPC分类号: C09K19/34 , C09K19/00 , C09K19/58 , G02F1/1337 , B05D5/12
CPC分类号: C09K19/3475 , B82Y30/00 , C09D5/28 , G02F2001/136295 , Y10S977/773 , Y10T428/24355 , Y10T428/2438 , Y10T428/24388 , Y10T428/24479 , Y10T428/2457 , Y10T428/249953 , Y10T428/249958 , Y10T428/25
摘要: 描述了一种用于在干发色层内形成沟槽的方法。将涂料组合物施加至基底、进行干燥并且使其暴露在亲水性有机溶剂中以形成沟槽图案,所述沟槽图案具有第一组沟槽以及与所述第一组沟槽基本上垂直的第二组沟槽。可将沉积材料设置在所述沟槽内以形成纳米结构化图案。还描述了一种具有沟槽图案的制品。
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公开(公告)号:CN101171360B
公开(公告)日:2010-12-22
申请号:CN200680015413.0
申请日:2006-04-26
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 唐纳德·J·穆克卢尔 , 马里奥·A·佩雷斯
CPC分类号: B01D67/0072 , B01D67/0027 , B01D67/0086 , B01D67/0088 , B01D69/12 , B01D71/022 , B01D2323/345 , B01D2323/35 , B01D2325/08 , B01D2325/44 , B01D2325/48 , C23C14/20 , C23C14/58 , C23C14/5886 , Y10S977/89 , Y10T428/24479 , Y10T428/24802 , Y10T428/24926
摘要: 本发明描述了涂覆金属纳米粒子的微孔衬底及其制备方法和用途。
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公开(公告)号:CN101263619A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200680033308.X
申请日:2006-08-28
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 苏珊·M·亨德里克斯 , 托马斯·赫特勒 , 马克·K·德贝 , 唐纳德·J·穆克卢尔
CPC分类号: H01M4/8803 , H01M4/8636 , H01M4/8807 , H01M4/881 , H01M4/92 , H01M8/1004 , H01M2008/1095 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372
摘要: 本发明描述了包括用在膜电极组件(MEA)中的催化剂层的部件以及制造上述部件的方法。所述催化剂层在运转期间产生在MEA的活性区域内的更均匀的电流分配。所述催化剂层可以具有较小活性催化剂的均匀催化剂活性分布以在整个MEA活性区域上获得更均匀的电流密度。所述催化剂层可以具有可变的活性分布(例如具有4变化比降的活性分布)以补偿在电化学燃料电池运转期间催化剂利用率的固有非线性。可以例如通过改变从进气口至排气口在MEA内的催化剂载量或通过改变催化剂负载的表面积或通过改变催化剂支撑元件的表面积来实现期望的可变催化剂活性分布。
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公开(公告)号:CN101263241A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200580051575.5
申请日:2005-07-14
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 拉伊迪普·S·卡尔古特卡尔 , 唐纳德·J·穆克卢尔 , 马里奥·A·佩雷斯
CPC分类号: C23C14/0005 , C23C14/20 , Y10S436/805
摘要: 本发明描述了一种金属纳米粒子涂覆的水溶性聚合物基材及其制备和使用方法。
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公开(公告)号:CN101720509B
公开(公告)日:2012-08-29
申请号:CN200880022533.2
申请日:2008-05-20
申请人: 3M创新有限公司
IPC分类号: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L29/786
CPC分类号: H01L27/124 , H01L21/6776 , H01L27/1225 , H01L29/4908 , H01L29/7869
摘要: 本发明描述了一种用于形成栅结构的方法。一种幅材包括基底、设置在所述基底上的多个导电元件以及导电阳极化总线。所述幅材移动穿过阳极化站以形成多个栅结构,所述多个栅结构包括与多个栅电极相邻的多个栅电介质。描述了一种用于形成电子器件的方法,所述方法还设置半导体、源电极以及漏电极。
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