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公开(公告)号：CN116635759A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180085252.7
申请日：2021-11-30
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了光学构造体和包括此类光学构造体的电子设备的各种实施方案。该光学构造体包括透镜膜，该透镜膜具有最外侧的结构化第一主表面和相背的最外侧的基本上平坦的第二主表面。该结构化第一主表面包括多个微透镜。该光学构造体还包括设置为与透镜膜的第二主表面相邻的掩模，其中掩模包括聚合物层、金属层和多个激光烧蚀开口，该激光烧蚀开口设置为穿过掩模，并且以一一对应的方式与微透镜对准。
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公开(公告)号：CN104768957B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201380042298.6
申请日：2013-03-01
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 托马斯·P·克伦 , 艾伦·K·纳赫蒂加尔 , 约瑟夫·C·斯帕尼奥拉 , 马克·A·勒里希 , 詹妮弗·K·施诺布利希 , 盖伊·D·乔利 , 克里斯托弗·S·莱昂斯
Abstract: 本公开涉及物质组合物，所述物质组合物被描述为具有通式RA‑NH‑C(O)‑N(R4)‑R11‑[O‑C(O)NH‑RS]n或RS‑NH‑C(O)‑N(R4)‑R11‑[O‑C(O)NH‑RA]n的脲(多)‑氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷。本公开还描述了制品，其包括基底、所述基底的主表面上的基础(共)聚合物层、所述基础(共)聚合物层上的氧化物层；以及所述氧化物层上的保护性(共)聚合物层，所述保护性(共)聚合物层包含至少一种脲(多)‑氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷前体化合物的反应产物。所述基底可为(共)聚合物膜或电子器件，诸如有机发光器件、电泳发光器件、液晶显示器、薄膜晶体管、或它们的组合。本公开还描述了制备此类脲(多)‑氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷前体化合物的方法及其在复合膜和电子器件中的用途。本公开还描述了将多层复合膜用作制品中的阻隔膜的方法，所述制品选自固态发光器件、显示器器件和光伏器件。
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公开(公告)号：CN104332564B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201410513386.6
申请日：2008-02-07
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 莫塞斯·M·大卫 , 弗雷德·B·麦考密克 , 马克·A·勒里希
IPC: H01L51/52
Abstract: 本发明涉及用于有机发光二极管器件的防水涂层。特别地，本文描述了一种用于制造无定形类金刚石膜层的方法，所述无定形类金刚石膜层用于保护水分或氧气敏感的电子器件。所述方法包括从硅油中形成等离子体，从所述等离子体中沉积无定形类金刚石膜层，并且将所述无定形类金刚石膜层与水分或氧气敏感的电子器件结合以形成受保护的电子器件。本发明还公开了包括在有机电子器件上的无定形类金刚石膜层的制品。
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公开(公告)号：CN102985255B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201180031896.4
申请日：2011-06-29
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 马克·A·勒里希 , 艾伦·K·纳赫蒂加尔 , 马克·D·韦格尔
CPC classification number: C23C14/081 , B05D1/60 , B05D3/068 , B05D7/04 , B05D7/586 , B05D2252/02 , C08J7/045 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/54 , H01L51/5256 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明涉及一种阻挡膜，其具有：基底，涂覆到所述基底的基础聚合物层，涂覆到所述基础聚合物层的氧化物层，以及涂覆到所述氧化物层的顶涂层聚合物层。可选的无机层可涂覆在所述顶涂层聚合物层的上方。顶涂层聚合物包括共同沉积以形成顶涂层的硅烷和丙烯酸酯。将硅烷和丙烯酸酯共同沉积来形成所述阻挡膜的所述顶涂层，更能抵抗湿气并提高所述顶涂层对底层阻挡叠堆层的剥离强度附着。
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公开(公告)号：CN102754000A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201080052287.2
申请日：2010-11-11
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 蒂莫西·J·赫布林克 , 马克·A·勒里希 , 马克·D·韦格尔
IPC: G02B5/28
CPC classification number: G02B5/208 , G02B1/04 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0841 , G02B5/0891 , G02B5/283 , G02B5/287 , C08L67/00 , C08L33/08 , C08L33/12
Abstract: 包含反射指定波长范围以上的至少50%的入射UV光的光学层的多层光学膜(10)。多层光学膜的实施例可用作（例如）UV保护覆盖物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101945965A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200880127078.2
申请日：2008-12-19
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 弗雷德·B·麦考密克 , 马克·A·勒里希
IPC: C09J7/02
CPC classification number: C09J7/29 , C09J2201/606 , C09J2203/326 , C09J2400/163 , H01L51/5259 , Y10T428/13 , Y10T428/1303 , Y10T428/1352 , Y10T428/1359 , Y10T428/139 , Y10T428/1476 , Y10T428/249982 , Y10T428/2848 , Y10T428/30 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明涉及一种封装膜系统，所述封装膜系统包括(a)柔性阻隔膜，(b)粘合剂，所述粘合剂在所述柔性阻隔膜的至少一部分上，以及(c)干燥剂，所述干燥剂在所述柔性阻隔膜或所述粘合剂的至少一部分上。
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公开(公告)号：CN1771127B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200480009259.7
申请日：2004-03-31
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: H01L51/5256 , B32B27/08 , B32B27/36 , G02F1/1333 , H01L51/0097 , H01L51/52 , H01L2251/5338 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/10 , Y10T428/1036 , Y10T428/105 , Y10T428/264 , Y10T428/31504 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544 , Y10T428/31786 , Y10T428/31928
Abstract: 本发明提供一种挠性阻透组件，包括Tg大于或等于热稳定的聚对苯二甲酸乙二醇酯(″HSPET″)的Tg的挠性可见光透过的基底，该基底用Tg大于或等于HSPET的Tg的第一聚合物层覆盖，进一步用至少两个可见光透过的无机阻挡层覆盖，该无机阻挡层通过至少一个Tg大于或等于HSPET的Tg的第二聚合物层隔开，可用于安装、覆盖、封装或形成水汽或氧气敏感性制品，如有机发光器件和光阀。
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公开(公告)号：CN114761836B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202080084401.3
申请日：2020-12-01
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 杨朝晖 , 普热梅斯瓦夫·P·马克维茨 , 马克·A·勒里希 , 特里·D·彭 , 塞雷娜·L·施洛伊斯纳 , 大卫·A·罗森 , 刘阳
IPC: G02B5/00 , H01L27/14 , G06T1/00 , G02F1/13357
Abstract: 一种光学系统包括透镜层，该透镜层包括沿着正交的第一方向和第二方向布置的多个微透镜；以及与透镜层间隔开并且在其中限定沿着第一方向和第二方向布置的多个贯穿开口的至少一个光学不透明掩模层。微透镜与开口之间存在一一对应，使得对于每个微透镜，微透镜和对应开口基本上以与透镜层成相同斜角的直线为中心。光学层可包括透镜层和嵌入光学层中的光学不透明掩模层。
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公开(公告)号：CN113677963A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027086.0
申请日：2020-04-01
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 约翰·A·惠特利 , 马克·A·勒里希 , 戴尔·R·洛森 , 托尼·J·考夫曼 , 詹姆斯·W·霍华德 , 凯文·W·戈特里克 , 克拉里·R·多诺格 , 乔舒亚·M·菲什曼 , 乔纳·谢弗
Abstract: 本发明公开了一种光学系统并且该光学系统包括：光学传感器；多个感光像素，该多个感光像素设置在该光学传感器上；波长选择性光学滤光器，该波长选择性光学滤光器与该感光像素光学连通，该波长选择性光学滤光器远离该光学传感器设置；区域，该区域设置在该波长选择性光学滤光器中，该区域的透射光谱与该波长选择性光学滤光器的不在该区域中的部分的透射光谱不同；和反射器，该波长选择性光学滤光器和测量对象各自沿着光学路径设置在该反射器和该光学传感器之间。
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公开(公告)号：CN104768956B
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201380042105.7
申请日：2013-03-01
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 托马斯·P·克伦 , 艾伦·K·纳赫蒂加尔 , 约瑟夫·C·斯帕尼奥拉 , 马克·A·勒里希 , 詹妮弗·K·施诺布利希 , 盖伊·D·乔利 , 克里斯托弗·S·莱昂斯
Abstract: 本发明涉及通过以下方式制备的二氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷前体化合物：使伯或仲氨基硅烷与环状的碳酸酯反应以产生羟基亚烷基‑氨基甲酰亚烷基‑烷氧基硅烷(称为“羟基氨基甲酰基硅烷”)，所述羟基氨基甲酰基硅烷与纯的或溶剂中的具有异氰酸酯官能团的(甲基)丙烯酸酯化材料反应，并且任选地与催化剂诸如锡化合物反应。本公开还描述了制品，所述制品包括基底、所述基底的主表面上的基础(共)聚合物层、所述基础(共)聚合物层上的氧化物层；以及所述氧化物层上的保护性(共)聚合物层，所述保护性(共)聚合物层包含至少一种二氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷前体化合物的反应产物。所述基底可为(共)聚合物膜或电子器件，诸如有机发光器件、电泳发光器件、液晶显示器、薄膜晶体管、或它们的组合。本公开描述了制备所述二氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯‑硅烷的方法及其在复合膜和电子器件中的用途。
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