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公开(公告)号：CN105246984A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201480029815.0
申请日：2014-04-25
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: C09D5/1693 , B05D5/00 , B05D7/54 , B05D7/544 , B05D7/546 , B05D7/584 , B05D7/586 , B05D2201/02 , B05D2507/00 , B05D2518/10 , C03C17/007 , C03C17/42 , C03C2217/425 , C08J7/045 , C09D5/002 , C09D5/1618 , C09D5/1668 , C09D129/04
Abstract: 本发明提供了具有聚(乙烯醇)(PVA)和二氧化硅纳米粒子多层涂层的制品。更具体地，所述制品包括基底，以及附接到基底的多层涂层。所述多层涂层包括作为最外层的二氧化硅层，所述二氧化硅层包含被布置为形成连续的三维多孔网络的酸烧结的互连的二氧化硅纳米粒子。所述多层涂层还包括设置在所述基底的表面和所述最外二氧化硅层之间的PVA层。所述PVA和二氧化硅纳米粒子涂层可用于多种基底上并往往耐受冲击、刮擦、润湿磨蚀、污物和雾。
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公开(公告)号：CN107108571A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069513.0
申请日：2015-12-14
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC: C07D401/14 , C07D211/44 , C07D211/92 , C08F22/22 , C08L35/02
CPC classification number: C07D211/44 , C07D211/92 , C07D401/14 , C08K5/3432 , C08K5/3462 , C08L2201/08 , C08F22/22 , C08L35/02
Abstract: 本发明公开了具有受阻胺和烷氧基胺光稳定剂的化合物，化合物能够消除光化辐射诸如可见光和紫外光对聚合物和共聚物的不利影响。聚合物和共聚物衍生自此类化合物。制品诸如涂覆的制品和模制的制品含有此类聚合物或化合物。
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公开(公告)号：CN105246985A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201480030468.3
申请日：2014-04-25
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: B05D7/50 , B05D7/54 , B05D2201/02 , B05D2507/00 , B05D2518/10 , C03C17/42 , C03C2217/478 , C08J7/045 , C09D1/00 , C09D5/1618 , C09D5/1693 , C09D129/04 , C08K5/5415 , C08K3/36
Abstract: 本发明提供了具有交联聚(乙烯醇)(PVA)和二氧化硅纳米颗粒多层涂层的制品。更具体地，提供了包括基底和附接至该基底的多层涂层的制品。所述多层涂层包括第一交联聚(乙烯醇)(PVA)层和第一二氧化硅层。所述第一交联PVA层为所述多层涂层的最外层。所述第一二氧化硅层包含被布置为形成连续的三维多孔网络的多个酸烧结互连二氧化硅纳米颗粒。所述PVA和二氧化硅纳米颗粒多层涂层可用于广泛种类的基底上，并且趋于耐湿和耐干磨耗、耐刮痕和耐撞击。
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公开(公告)号：CN107108664B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201580069623.7
申请日：2015-12-14
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC: C07F7/08 , C08K5/00 , C08K5/5419
Abstract: 本公开涉及立体受阻烷基胺和立体受阻烷氧基胺化合物，以及包含所述物质的粒子、基底、涂层和制品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107108501A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070101.9
申请日：2015-12-11
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC: C07D211/44 , C07D211/58 , C07D211/94 , C08F18/22 , C08F22/22 , C08F20/34 , C08F220/34
CPC classification number: C07D211/36 , C07D211/44 , C07D211/58 , C07D211/94 , C08F220/58 , C08F18/22 , C08F20/34 , C08F22/22 , C08F220/34
Abstract: 本公开提供具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物能够以聚合物和共聚物形式减轻光化辐射诸如可见光和紫外线的不利影响。本公开也提供由此类化合物衍生的聚合物和共聚物。本公开还提供包含此类聚合物或化合物的制品，诸如涂覆制品和模制制品。
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公开(公告)号：CN105246986A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201480031240.6
申请日：2014-04-25
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: C09D129/04 , B05D3/0272 , B05D7/542 , B05D7/582 , B05D7/5823 , C03C17/34 , C03C2217/425 , C03C2217/734 , C08J7/045 , C09D5/00 , C09D5/1618 , C09D5/1693 , C09D7/40 , C08K5/5415 , C08K3/36
Abstract: 本发明提供了一种具有含聚(乙烯醇)的(含PVA的)和二氧化硅纳米粒子的多层涂层的制品。更具体地，制品包括基底和附接到基底的多层涂层。多层涂层包括第一二氧化硅层和第一含PVA的层。第一二氧化硅层为多层涂层的底漆层，并且该二氧化硅层包含被布置为形成连续三维多孔网络的多个酸烧结的互连的二氧化硅纳米粒子。含PVA和二氧化硅纳米粒子的多层涂层可用在各种各样的基底上并且趋于耐受湿磨耗和干磨耗、刮痕和冲击。
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公开(公告)号：CN105246985B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201480030468.3
申请日：2014-04-25
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: B05D7/50 , B05D7/54 , B05D2201/02 , B05D2507/00 , B05D2518/10 , C03C17/42 , C03C2217/478 , C08J7/045 , C09D1/00 , C09D5/1618 , C09D5/1693 , C09D129/04 , C08K5/5415 , C08K3/36
Abstract: 本发明提供了具有交联聚(乙烯醇)(PVA)和二氧化硅纳米颗粒多层涂层的制品。更具体地，提供了包括基底和附接至该基底的多层涂层的制品。所述多层涂层包括第一交联聚(乙烯醇)(PVA)层和第一二氧化硅层。所述第一交联PVA层为所述多层涂层的最外层。所述第一二氧化硅层包含被布置为形成连续的三维多孔网络的多个酸烧结互连二氧化硅纳米颗粒。所述PVA和二氧化硅纳米颗粒多层涂层可用于广泛种类的基底上，并且趋于耐湿和耐干磨耗、耐刮痕和耐撞击。
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公开(公告)号：CN107108667A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070084.9
申请日：2015-12-14
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC: C07F7/18 , C08K5/3435
Abstract: 本发明公开了具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物可以减轻光化辐射如可见光和紫外光的不利影响，尤其是在诸如玻璃或陶瓷基材的基材上。还提供了衍生自此类化合物的聚合物。还提供了具有与之附连的此类化合物的纳米颗粒、基材如玻璃或陶瓷基材，或纳米颗粒和基材这两者。还提供了含有此类聚合物、纳米颗粒、基材或化合物中至少一者的制品。
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公开(公告)号：CN107108664A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069623.7
申请日：2015-12-14
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC: C07F7/08 , C08K5/00 , C08K5/5419
CPC classification number: C08K5/5442 , C07D211/46 , C07D211/58 , C07D211/94 , C07F7/1804 , C08K3/36 , C08K5/3435 , C08K9/06
Abstract: 本公开涉及立体受阻烷基胺和立体受阻烷氧基胺化合物，以及包含所述物质的粒子、基底、涂层和制品。
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