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公开(公告)号：CN104768758A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380041879.8
申请日：2013-08-08
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： H01L31/02167 , B05D1/60 , B05D7/04 , B05D7/56 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B33/00 , B32B2307/554 , B32B2307/558 , B32B2307/584 , B32B2307/712 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2307/7248 , B32B2457/00 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2433/14 , C08J2483/04 , C09D183/04 , G02F1/133305 , G02F2001/133337 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544 , Y10T428/31547 , Y10T428/31663
摘要： 本发明公开了一种阻隔膜，其包括基底、在所述基底的主表面上的第一聚合物层、在所述第一聚合物层上的氧化物层以及在所述氧化物层上的第二聚合物层。所述第一聚合物层或所述第二聚合物层中的至少一个包含具有至少两个硅烷基团的仲氨基或叔氨基官能化硅烷的硅氧烷反应产物。本发明还公开了一种制备所述阻隔膜以及包括所述阻隔膜的制品和阻隔组件的方法。
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公开(公告)号：CN104768758B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201380041879.8
申请日：2013-08-08
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： H01L31/02167 , B05D1/60 , B05D7/04 , B05D7/56 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B33/00 , B32B2307/554 , B32B2307/558 , B32B2307/584 , B32B2307/712 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2307/7248 , B32B2457/00 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2433/14 , C08J2483/04 , C09D183/04 , G02F1/133305 , G02F2001/133337 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544 , Y10T428/31547 , Y10T428/31663
摘要： 本发明公开了一种阻隔膜，其包括基底、在所述基底的主表面上的第一聚合物层、在所述第一聚合物层上的氧化物层以及在所述氧化物层上的第二聚合物层。所述第一聚合物层或所述第二聚合物层中的至少一个包含具有至少两个硅烷基团的仲氨基或叔氨基官能化硅烷的硅氧烷反应产物。本发明还公开了一种制备所述阻隔膜以及包括所述阻隔膜的制品和阻隔组件的方法。
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公开(公告)号：CN107108571A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069513.0
申请日：2015-12-14
申请人： 3M创新有限公司
发明人： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC分类号： C07D401/14 , C07D211/44 , C07D211/92 , C08F22/22 , C08L35/02
CPC分类号： C07D211/44 , C07D211/92 , C07D401/14 , C08K5/3432 , C08K5/3462 , C08L2201/08 , C08F22/22 , C08L35/02
摘要： 本发明公开了具有受阻胺和烷氧基胺光稳定剂的化合物，化合物能够消除光化辐射诸如可见光和紫外光对聚合物和共聚物的不利影响。聚合物和共聚物衍生自此类化合物。制品诸如涂覆的制品和模制的制品含有此类聚合物或化合物。
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公开(公告)号：CN107108501A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070101.9
申请日：2015-12-11
申请人： 3M创新有限公司
发明人： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC分类号： C07D211/44 , C07D211/58 , C07D211/94 , C08F18/22 , C08F22/22 , C08F20/34 , C08F220/34
CPC分类号： C07D211/36 , C07D211/44 , C07D211/58 , C07D211/94 , C08F220/58 , C08F18/22 , C08F20/34 , C08F22/22 , C08F220/34
摘要： 本公开提供具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物能够以聚合物和共聚物形式减轻光化辐射诸如可见光和紫外线的不利影响。本公开也提供由此类化合物衍生的聚合物和共聚物。本公开还提供包含此类聚合物或化合物的制品，诸如涂覆制品和模制制品。
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公开(公告)号：CN104768753A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380043533.1
申请日：2013-08-15
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： H01L31/0481 , B32B27/06 , B32B27/30 , B32B37/1018 , B32B37/12 , B32B2307/40 , B32B2307/412 , B32B2307/546 , B32B2307/7265 , B32B2307/748 , B32B2333/08 , B32B2457/20 , C23C14/08 , H01L51/448
摘要： 本公开一般涉及形成阻隔组件的方法。一些实施例包括施加以及移除保护层，之后是施加顶片。一些实施例包括施加以及移除包含剥离剂和单体的保护层。
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公开(公告)号：CN107108667A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070084.9
申请日：2015-12-14
申请人： 3M创新有限公司
发明人： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC分类号： C07F7/18 , C08K5/3435
摘要： 本发明公开了具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物可以减轻光化辐射如可见光和紫外光的不利影响，尤其是在诸如玻璃或陶瓷基材的基材上。还提供了衍生自此类化合物的聚合物。还提供了具有与之附连的此类化合物的纳米颗粒、基材如玻璃或陶瓷基材，或纳米颗粒和基材这两者。还提供了含有此类聚合物、纳米颗粒、基材或化合物中至少一者的制品。
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公开(公告)号：CN107108664A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069623.7
申请日：2015-12-14
申请人： 3M创新有限公司
发明人： T·P·科伦 , M·A·勒里格 , J·C·斯帕格诺拉 , A·K·纳赫蒂加尔 , C·J·霍伊 , R·J·波科尔尼 , W·J·亨特 , J·T·彼得林 , P·B·阿姆斯特朗 , S·S·伊耶
IPC分类号： C07F7/08 , C08K5/00 , C08K5/5419
CPC分类号： C08K5/5442 , C07D211/46 , C07D211/58 , C07D211/94 , C07F7/1804 , C08K3/36 , C08K5/3435 , C08K9/06
摘要： 本公开涉及立体受阻烷基胺和立体受阻烷氧基胺化合物，以及包含所述物质的粒子、基底、涂层和制品。
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