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公开(公告)号：CN103383188B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201310158850.X
申请日：2013-05-02
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67115 , F27B17/0025 , H05B3/0047
摘要： 本发明涉及衬底处理设备与加热设备。本发明涉及用于对衬底进行热处理的设备，且更明确地说，涉及用于执行平板显示器面板的衬底的热处理的衬底处理设备。根据本发明的实施例，一种衬底处理设备包括：处理室，具有衬底处理空间；加热外壳，具有发射辐射能的加热灯和反射从所述加热灯发射的辐射能的反射块；以及窗口，在所述处理室与所述加热外壳之间维持密封且将所述辐射能透射到衬底。
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公开(公告)号：CN103383188A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201310158850.X
申请日：2013-05-02
申请人： AP系统股份有限公司
CPC分类号： H01L21/67115 , F27B17/0025 , H05B3/0047
摘要： 本发明涉及衬底处理设备与加热设备。本发明涉及用于对衬底进行热处理的设备，且更明确地说，涉及用于执行平板显示器面板的衬底的热处理的衬底处理设备。根据本发明的实施例，一种衬底处理设备包括：处理室，具有衬底处理空间；加热外壳，具有发射辐射能的加热灯和反射从所述加热灯发射的辐射能的反射块；以及窗口，在所述处理室与所述加热外壳之间维持密封且将所述辐射能透射到衬底。
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公开(公告)号：CN103311154B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201310073515.X
申请日：2013-03-08
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67115
摘要： 根据本发明的加热模块，包括：灯，放射光；凹面反射部件，对向于所述灯，并在与所述灯对望的一面具备凹面反射面；透镜模块，插入并设置于所述凹面反射部件，并具备至少一个的透镜；及平板型反射部件，安置为与所述透镜模块对向。由此，根据本发明的实施形态，从灯放射的光会通过凹面反射部件的反射面来进行反射，并通过反射部件及透镜模块进行集光及集热后，照射到基板上。即，相比于以往，可以将大能量的光照射于基板，来对基板进行瞬间加热来提升温度及升温速度，并且可以增加热量可集中的面积。由此具有提升快速热处理工序所需的半导体装置或显示装置的生产性的优点。
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公开(公告)号：CN103311154A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310073515.X
申请日：2013-03-08
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67115
摘要： 根据本发明的加热模块，包括：灯，放射光；凹面反射部件，对向于所述灯，并在与所述灯对望的一面具备凹面反射面；透镜模块，插入并设置于所述凹面反射部件，并具备至少一个的透镜；及平板型反射部件，安置为与所述透镜模块对向。由此，根据本发明的实施形态，从灯放射的光会通过凹面反射部件的反射面来进行反射，并通过反射部件及透镜模块进行集光及集热后，照射到基板上。即，相比于以往，可以将大能量的光照射于基板，来对基板进行瞬间加热来提升温度及升温速度，并且可以增加热量可集中的面积。由此具有提升快速热处理工序所需的半导体装置或显示装置的生产性的优点。
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