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公开(公告)号：CN114096920A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202080048550.4
申请日：2020-06-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 , M·斯威拉姆
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供一种传感器设备，所述传感器设备包括照射系统、检测器系统和处理器。所述照射系统被配置成沿照射路径传输照射束，并且包括可调式光学器件。所述可调式光学器件被配置成朝向被设置为与所述照射系统相邻的衬底上的衍射目标传输所述照射束。所述传输在所述衍射目标上产生条纹图案。信号束包括由所述衍射目标衍射的衍射阶子束。所述检测器系统被配置成收集所述信号束。所述处理器被配置成基于所述信号束测量所述衍射目标的特性。所述可调式光学器件被配置成调整所述照射束在所述衍射目标上的入射角度，以将所述条纹图案的周期性调整成匹配于所述衍射目标的周期性。
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公开(公告)号：CN114514474B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202080067332.5
申请日：2020-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 林宇翔 , J·亚当斯 , T·M·T·A·M·埃拉扎里 , K·肖梅
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956
Abstract: 一种系统(500)，包括照射系统(502)、透镜元件(506)和检测器(504)。所述照射系统产生辐射束(510)，该辐射束在光瞳平面(528)处具有第一空间强度分布(800)以及在目标(514)的平面处具有第二空间强度分布(900)。所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓(802)或与三个或更多个束对应的强度轮廓。所述透镜元件将所述束聚焦到所述目标上。所述第二空间强度分布与所述第一强度分布是共轭的，并且具有与中心束(902)以及与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣(904)对应的强度轮廓。所述中心束在所述目标处具有约20微米或更小的束直径。所述检测器接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
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公开(公告)号：CN115023658A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180010867.3
申请日：2021-01-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： M·斯威拉姆 , T·M·T·A·M·埃拉扎里 , S·鲁 , 叶夫根尼·康斯坦丁诺维奇·沙马列夫
Abstract: 一种紧凑型传感器设备，具有照射束、束成形系统、偏振调制系统、束投射系统和信号检测系统。所述束成形系统被配置成对从照射系统产生的照射束进行成形且产生所述照射束的在从400nm至2000nm的波长范围内的平顶束斑。所述偏振调制系统被配置成提供所述照射束的线性偏振状态的可调谐性。所述束投射系统被配置成朝向诸如衬底上的对准标记的目标投射所述平顶束斑。所述信号检测系统被配置成收集包括从所述目标产生的衍射阶子束的信号束，并且基于所述信号束测量所述目标的特性(例如，重叠)。
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公开(公告)号：CN110637258B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN201880032461.3
申请日：2018-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , J·A·G·阿克曼斯 , S·R·胡伊斯曼 , T·M·T·A·M·埃拉扎里
IPC: G03F9/00
Abstract: 公开了一种量测传感器设备，其包括：照射系统，其能够操作以用照射辐射照射衬底上的量测标记；光学收集系统，其配置成在由所述量测标记散射所述照射辐射之后收集散射辐射；和依赖于波长的空间滤光器，其用于在空间上过滤所述散射辐射，所述依赖于波长的空间滤光器具有依赖于所述散射辐射的波长的空间轮廓。所述依赖于波长的空间滤光器可以包括二向色滤光器和至少一个第二滤光器，所述二向色滤光器能够可操作以实质上透射第一波长范围的散射辐射且实质上阻挡第二波长范围内的散射辐射，所述第二滤光器能够操作以实质上阻挡至少在第一波长范围和第二波长范围内的散射辐射。
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公开(公告)号：CN114556223A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071855.7
申请日：2020-09-25
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 , 罗伯特·约翰·索卡 , S·鲁 , S·R·胡伊斯曼
Abstract: 本文描述具有子分段光栅结构作为量测标记的半导体器件的结构和用于配置所述量测标记的方法。用于配置量测标记的方法可以用于光刻过程中。所述方法包括确定设置于叠置层内的初始量测标记的初始特性函数。所述方法还包括使所述量测标记的多个子分段的一个或更多个变量(例如所述多个子分段的节距、占空比和/或线宽)扰动以及另外使所述叠置层内的一个或更多个层的厚度扰动。所述方法还包括迭代地执行扰动，直到确定初始量测标记的最小化特性函数以设置用于所述多个子分段的配置为止。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114096920B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202080048550.4
申请日：2020-06-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 , M·斯威拉姆
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供一种传感器设备，所述传感器设备包括照射系统、检测器系统和处理器。所述照射系统被配置成沿照射路径传输照射束，并且包括可调式光学器件。所述可调式光学器件被配置成朝向被设置为与所述照射系统相邻的衬底上的衍射目标传输所述照射束。所述传输在所述衍射目标上产生条纹图案。信号束包括由所述衍射目标衍射的衍射阶子束。所述检测器系统被配置成收集所述信号束。所述处理器被配置成基于所述信号束测量所述衍射目标的特性。所述可调式光学器件被配置成调整所述照射束在所述衍射目标上的入射角度，以将所述条纹图案的周期性调整成匹配于所述衍射目标的周期性。
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公开(公告)号：CN113196180B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980084736.2
申请日：2019-12-12
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。
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公开(公告)号：CN113196180A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201980084736.2
申请日：2019-12-12
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。
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公开(公告)号：CN112639624B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN201980056601.5
申请日：2019-08-22
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 , J·L·克勒泽 , F·G·C·比基恩 , K·肖梅
Abstract: 一种用于确定衬底的对准的设备和系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给紧凑集成光学器件以创建对准标记的自身图像，该图像可以被操纵(例如进行镜像、偏振)和合并以获取与标记位置和标记内变形有关的信息。还公开了一种用于确定衬底的对准的系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给光纤布置以获得诸如标记的位置和标记内的变形之类的信息。
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公开(公告)号：CN114514474A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202080067332.5
申请日：2020-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 林宇翔 , J·亚当斯 , T·M·T·A·M·埃拉扎里 , K·肖梅
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种系统(500)，包括照射系统(502)、透镜元件(506)和检测器(504)。所述照射系统产生辐射束(510)，该辐射束在光瞳平面(528)处具有第一空间强度分布(800)以及在目标(514)的平面处具有第二空间强度分布(900)。所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓(802)或与三个或更多个束对应的强度轮廓。所述透镜元件将所述束聚焦到所述目标上。所述第二空间强度分布与所述第一强度分布是共轭的，并且具有与中心束(902)以及与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣(904)对应的强度轮廓。所述中心束在所述目标处具有约20微米或更小的束直径。所述检测器接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
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