公开(公告)号：CN119072763A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202380023050.9

申请日：2023-01-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 叶宁 ,  张剑 ,  董仲华 ,  张大彤

IPC: H01J37/02

Abstract: 用于控制电子束系统中高级电荷控制器模块的束斑的系统和方法。高级电荷控制器模块包括MEMS反射镜，该反射镜被配置为控制和整形射束，以便执行射束对准、增加感兴趣区域的功率密度并实时调制功率密度。

公开(公告)号：CN114616643A

公开(公告)日：2022-06-10

申请号：CN202080073929.0

申请日：2020-10-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张剑 ,  叶宁 ,  王義向 ,  方杰

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  G01N23/2251

Abstract: 一种用于检查衬底的装置和检查衬底的方法，其中带电粒子束被布置为撞击衬底的一部分，并且具有第一波长的第一光束和具有第二波长的第二光束也被布置为撞击衬底的一部分，该第二波长与第一波长不同。

公开(公告)号：CN112840432A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201980059911.2

申请日：2019-08-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张剑 ,  叶宁 ,  黄丹靖 ,  詹秉达

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/02 ,  G01J1/42

Abstract: 提供了一种用于在检查系统中监测束(322)的系统和方法。该系统包括：被配置为收集形成在表面(340)上的束的束斑的图像序列的图像传感器(360)，图像序列中的每个图像已经在图像传感器的不同曝光时间被收集；以及被配置为组合图像序列以得出束的束轮廓的控制器(380)。

公开(公告)号：CN116601738A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180084897.9

申请日：2021-12-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 叶宁 ,  蒋军 ,  张剑 ,  王義向

IPC: H01J37/26

Abstract: 用于提供用于控制带电粒子束系统的样品表面上的电荷的射束的装置、系统和方法。在一些实施例中，模块包括被配置为发射射束的激光源。射束可以照射晶片上与像素相邻的区域以间接加热像素，从而减轻像素处的直接光子诱导效应的原因。一种被配置为检测像素中的缺陷的电子束工具，其中该缺陷是由对像素的间接加热诱导的。

公开(公告)号：CN116325068A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180067797.5

申请日：2021-09-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王琰 ,  张剑 ,  康志文 ,  王義向

IPC: H01J37/28

Abstract: 公开了一种用于针对多个目标高度调节衬底的工作高度的检查装置。该检查装置包括被配置为提供辐射束的辐射源和被配置为将辐射束拆分成多个束波的分束器，每个束波反射离开衬底。每个束波包含多个波长的光。该检查装置包括多个光反射组件，其中每个光反射组件与反射离开衬底的束波中的一个束波相关联，并且被配置为通过基于反射离开衬底的束波而检测衬底的高度或水平度来针对衬底支持不同目标高度。

公开(公告)号：CN114450554A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080060523.9

申请日：2020-08-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 杨巾梅 ,  张剑 ,  康志文 ,  王義向

IPC: G01C9/00 ,  G01B11/26 ,  G01N23/2251

Abstract: 传感器可以用于测量样本的倾斜度。传感器可以包括具有光源、第一光学元件、第二光学元件、第三光学元件、透镜以及光阑的设备。第一光学元件可以从光源朝向样本提供光，并且可以从样本朝向第二光学元件提供输入到第一光学元件中的光。第二光学元件可以朝向第一感测元件和第二感测元件提供光。光阑可以被布置在透镜的焦平面上。入射到第一感测元件上的束可以是参考束。

公开(公告)号：CN111183502A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880063510.X

申请日：2018-09-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张剑 ,  康志文 ,  王義向

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/30

Abstract: 带电粒子束检查系统中的光学高度检测系统。光学高度检测系统包括投影单元和检测单元，投影单元包括调制照射源、包含投影光栅图案的投影光栅掩模以及用于将投影光栅图案投影到样本的投影光学单元；检测单元包括包含第一检测光栅图案的第一检测光栅掩模、包含第二检测光栅图案的第二检测光栅掩模以及用于将来自投影光栅图案的第一光栅图像形成到第一检测光栅掩模上并将来自投影光栅图案的第二光栅图像形成到第二检测光栅掩模上的检测光学系统。第一检测光栅图案和第二检测光栅图案分别至少部分地覆盖第一光栅图像和第二光栅图像。

公开(公告)号：CN114450554B

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202080060523.9

申请日：2020-08-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 杨巾梅 ,  张剑 ,  康志文 ,  王義向

IPC: G01C9/00 ,  G01B11/26 ,  G01N23/2251

Abstract: 传感器可以用于测量样本的倾斜度。传感器可以包括具有光源、第一光学元件、第二光学元件、第三光学元件、透镜以及光阑的设备。第一光学元件可以从光源朝向样本提供光，并且可以从样本朝向第二光学元件提供输入到第一光学元件中的光。第二光学元件可以朝向第一感测元件和第二感测元件提供光。光阑可以被布置在透镜的焦平面上。入射到第一感测元件上的束可以是参考束。

公开(公告)号：CN117916669A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280059193.0

申请日：2022-08-03

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 孟晓东 ,  康志文 ,  张剑 ,  邱康生

IPC: G03F7/20

Abstract: 用于检测被定位的样品的位置的系统、装置和方法可以包括：静电保持器，该静电保持器被配置为保持样品并且当该静电保持器保持样品时在样品的外侧边缘与该静电保持器的结构之间形成间隙区域，其中间隙区域涂覆有第一涂层，该第一涂层被配置为反射具有第一亮度的第一波长的光并且反射具有第二亮度的第二波长的光，第一波长在预定波长范围内，第二波长在预定波长范围外，并且第一亮度高于第二亮度；光源，其被配置为将光引导到间隙区域；以及光学检测器，其被配置为对从间隙区域反射的光进行成像。

公开(公告)号：CN114402412A

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN202080064482.0

申请日：2020-08-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张剑 ,  叶宁 ,  康志文 ,  王義向

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/28

Abstract: 提供了一种用于在电子束系统中的不同平面中操纵高级电荷控制器模块(560)的光束的系统和方法。该系统的一些实施例包括透镜系统，该透镜系统被配置为在切平面和矢状平面中操纵光束，使得束斑以高光能投射到晶片上。该系统的一些实施例包括透镜系统，该透镜系统包括至少两个柱面透镜(510，512)。