公开(公告)号：CN117238739A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202311191221.7

申请日：2017-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 窦菊英 ,  樊征 ,  郭子毅 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/063 ,  H01J37/26 ,  H01J9/02

Abstract: 公开了电子发射器和制造电子发射器的方法。根据某些实施例，一种电子发射器包括尖端，其具有直径在约(0.05‑10)微米的范围内的平面区域。电子发射器尖端被配置为释放场发射电子。电子发射器进一步包括涂覆在尖端上的功函数降低材料。

公开(公告)号：CN109791862A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780056388.9

申请日：2017-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 窦菊英 ,  樊征 ,  郭子毅 ,  陈仲玮

IPC: H01J9/02 ,  H01J1/14 ,  H01J1/304 ,  H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/073

Abstract: 公开了电子发射器和制造电子发射器的方法。根据某些实施例，一种电子发射器包括尖端，其具有直径在约(0.05-10)微米的范围内的平面区域。电子发射器尖端被配置为释放场发射电子。电子发射器进一步包括涂覆在尖端上的功函数降低材料。

公开(公告)号：CN117501402A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280042746.1

申请日：2022-05-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 张顺 ,  B·拉方丹 ,  樊征 ,  尹高星 ,  路和生 ,  赵振锋

IPC: H01J37/24

Abstract: 提供了用于使用反馈回路来调整束电流的装置、系统和方法。在一些实施例中，系统104可以包括：第一阳极孔120b，被配置为在样品170的检查期间测量发射束161的电流，其中该第一阳极孔被定位在被配置为支持小于3×10‑10托的真空压力的环境中；以及控制器，包括被配置为使该系统执行以下操作的电路装置：当所测量的电流与设定点电流之间的差异超过阈值时生成反馈信号，并且在该样品的检查期间基于该反馈信号调整提取器电压源312的电压，使得发射束的调整后的电流与该设定点电流之间的差异低于该阈值。

公开(公告)号：CN117133616A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202311086210.2

申请日：2017-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 窦菊英 ,  樊征 ,  郭子毅 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/063 ,  H01J37/26 ,  H01J9/02

Abstract: 公开了电子发射器和制造电子发射器的方法。根据某些实施例，一种电子发射器包括尖端，其具有直径在约(0.05‑10)微米的范围内的平面区域。电子发射器尖端被配置为释放场发射电子。电子发射器进一步包括涂覆在尖端上的功函数降低材料。