公开(公告)号：CN116300350A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202310275006.9

申请日：2017-11-23

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·T·惠格根 ,  M·J·基亚 ,  M·T·M·范克塞尔 ,  石桥雅史 ,  范吉祥 ,  H·E·采克利 ,  张幼平 ,  毛瑞特斯·范德查尔 ,  任丽萍

IPC分类号： G03F9/00 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20

摘要： 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。

公开(公告)号：CN110100207A

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201780079879.5

申请日：2017-11-23

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·T·惠格根 ,  M·J·基亚 ,  M·T·M·范克塞尔 ,  石桥雅史 ,  范吉祥 ,  H·E·采克利 ,  张幼平 ,  毛瑞特斯·范德查尔 ,  任丽萍

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

摘要： 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。

公开(公告)号：CN110100207B

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN201780079879.5

申请日：2017-11-23

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·T·惠格根 ,  M·J·基亚 ,  M·T·M·范克塞尔 ,  石桥雅史 ,  范吉祥 ,  H·E·采克利 ,  张幼平 ,  毛瑞特斯·范德查尔 ,  任丽萍

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

摘要： 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。